用于形成透明被膜的涂布液以及具有透明被膜的基材的制造方法

用于形成透明被膜的涂布液以及具有透明被膜的基材的制造方法
【专利摘要】本发明的用于形成透明被膜的涂布液中，无机氧化物微粒和树脂乳液分散于含有水和有机溶剂中的至少一种的分散介质中。涂布液的全部固体成分浓度为0.03～70重量％，涂布液中的无机氧化物微粒的浓度(CP)以固体成分计在0.0009～56重量％的范围内，树脂乳液的浓度(CR)以固体成分计在0.006～68重量％的范围内。另外，无机氧化物微粒中所含有的碱金属的固体成分浓度总量以氧化物(Me2O，Me＝Li、Na、K)计在1000ppm以下。即使将该涂布液涂布在基材上之后对基材进行拉伸、或是一边拉伸基材一边进行涂布，也能够不出现斑点、膜不均(海岛结构)地提供表面平坦的具有透明被膜的基材。
【专利说明】
用于形成透明被膜的涂布液以及具有透明被膜的基材的制造 方法
技术领域
[0001] 本发明涉及用于形成透明被膜的涂布液、和使用该涂布液的具有透明被膜的基材 的制造方法。
【背景技术】
[0002] 迄今，各种透明被膜形成在玻璃、塑料板、树脂膜、塑料透镜等的基材表面上而被 使用。例如，在基材表面上形成有有机树脂膜或无机膜作为硬质涂层膜。进而，在有机树脂 膜或无机膜中掺合树脂粒子或二氧化硅等无机粒子来提高耐擦伤性。
[0003] 本
【申请人】公开了将仅由有机树脂构成的硬质涂层膜、和含有被氧化锑被覆的多孔 二氧化硅微粒(或者内部具有空洞的二氧化硅微粒）的防反射?防带电膜层叠在基材上的 结构（日本专利特开2005-119909号公报;专利文献1)，但是硬质涂层功能（耐擦伤性、膜强 度等)不足。另外，还已知在显示装置等的基材上形成含有金属微粒、导电性氧化物微粒的 导电性被膜而赋予防带电性能、电磁波遮蔽性能的方案（日本专利特开2003-105268号公 报;专利文献2)。此时，作为导电性氧化物微粒公开了氧化锡，掺杂有F、Sb或P的氧化锡，氧 化铟，掺杂有Sn或F的氧化铟，氧化锑，一氧化二钛等。另外，本
【申请人】还公开了为了使硬质 涂层膜自身具有防带电性能而掺合五氧化锑微粒的硬质涂层膜（日本专利特开2004-50810 号公报；专利文献3)。还公开了掺合链状五氧化锑微粒的透明被膜（日本专利特开2005-139026号公报;专利文献4)。
[0004] 另外，已知将含有二氧化硅微粒等低折射率微粒的涂布液涂布在基材表面而形成 防反射被膜（日本专利特开平7-133105号公报;专利文献5)。另外，为了具有防带电性能、电 磁波遮蔽性能而也在基材上形成的含有金属微粒、导电性氧化物微粒的导电性被膜上形成 防反射膜。为了即使在这种设置有防反射膜、导电性被膜的场合下也能够提高耐擦伤性，还 在基材与防反射膜和导电性被膜中的至少一种之间形成硬质涂层膜。本
【申请人】在例如日本 专利特开2007-321049号公报(专利文献6)、日本专利特开2008-19358号公报(专利文献7)、 日本专利特开2010-128309号公报(专利文献8)等中公开了用于形成防反射膜的涂布液。
[0005] 特别是在基材为树脂膜的场合下，以往是在被拉伸至规定厚度的膜基材上形成透 明被膜，但近年来从生产性、安全性、环境因素的观点考虑，一直在寻求在拉伸前的膜上涂 布用于形成透明被膜的涂布液而形成涂膜、然后在拉伸后进行固化，或是一边对拉伸前的 膜进行拉伸一边涂布用于形成透明被膜的涂布液而形成涂膜、然后进行固化的方法。
[0006] 然而，在使用以往涂布液的场合下，由于拉伸时因掺合粒子而产生斑点，由于涂布 液的不稳定性或不均匀性等产生膜不均，从而形成平坦性受损、外观恶化、透明性、雾度不 足的具有透明被膜的拉伸膜，需要改善这些问题。
[0007] 现有技术文献
[0008] 专利文献
[0009] 专利文献1:日本专利特开2005-119909号公报
[0010] 专利文献2:日本专利特开2003-105268号公报
[0011] 专利文献3:日本专利特开2004-50810号公报
[0012] 专利文献4:日本专利特开2005-139026号公报
[0013]专利文献5:日本专利特开平7-133105号公报 [0014] 专利文献6:日本专利特开2007-321049号公报
[0015] 专利文献7:日本专利特开2008-19358号公报
[0016] 专利文献8:日本专利特开2010-128309号公报

【发明内容】

[0017]本发明所要解决的技术问题
[0018] 所以，本发明的目的在于实现能够抑制涂布后的树脂膜拉伸时斑点生成、膜不均 产生的用于形成透明被膜的涂布液、和具有透明被膜的基材的制造方法。
[0019] 解决技术问题所采用的技术方案
[0020] 本发明人发现，如果使用将无机氧化物微粒和树脂乳液分散于含有水和有机溶剂 中的至少一种的分散介质中的涂布液，则能够抑制涂布后的树脂膜拉伸时斑点的生成、膜 不均的产生。此时，涂布液的全部固体成分浓度为0.03~70重量％，涂布液中的无机氧化物 微粒的浓度(&)以固体成分计为0.0009~56重量％，树脂乳液的浓度(C R)以固体成分计为 0.006~68重量％。另外，无机氧化物微粒中所含有的碱金属的固体成分浓度总量以氧化物 (Me2〇，Me = Li、Na、K)计在 lOOOppm以下。
[0021] 通过使用本发明的涂布液，即使在基材上涂布后再对基材进行拉伸、或是一边拉 伸基材一边进行涂布，也能够不产生斑点或膜不均(海岛结构)地提供表面平坦的具有透明 被膜的基材。
[0022] 这里，优选利用有机硅化合物和聚合物分散剂中的至少一种对无机氧化物微粒进 行表面处理。此时，对于有机硅化合物，以Rn-SiX(4- n)/2表示时相对于无机氧化物微粒以固体 成分计在1~100重量％的范围内；对于聚合物分散剂，相对于无机氧化物微粒以固体成分 计在1~300重量％的范围内。
[0023]而且，无机氧化物微粒是单分散的无机氧化物微粒(A)、和一次粒径3~30个连接 成链状的链状无机氧化物微粒(B)中的至少一种，无机氧化物微粒(A)的平均粒径(Dpa)在3 彡Dpa彡1 OOnm的范围内，无机氧化物微粒(B)的平均一次粒径(Dpb)在3彡Dpb彡50nm的范围 内。
[0024]树脂乳液的平均直径优选在10~500nm的范围内，所述无机氧化物微粒的浓度 (&)与树脂乳液的浓度(CR)的浓度比(Cp/Cr )优选在0.03~4的范围内。
【具体实施方式】
[0025]下面，首先对本发明的用于形成透明被膜的涂布液进行具体说明。
[0026][用于形成透明被膜的涂布液]
[0027]在本发明的用于形成透明被膜的涂布液中，无机氧化物微粒和树脂乳液分散于含 有水和有机溶剂中的至少一种的分散介质中。此时，涂布液的全部固体成分浓度在〇. 〇 3~ 70重量％的范围内，无机氧化物微粒的浓度(&)以固体成分计在0.0009~56重量％的范围 内，树脂乳液的浓度(CR)以固体成分计在0.006~68重量％的范围内。此时，无机氧化物微 粒使用碱金属的固体成分浓度以氧化物(Me2〇)的总量计在1 OOOppm以下的高纯度无机氧化 物微粒。无机氧化物微粒中的碱金属总量超过1 OOOppm时，无机氧化物微粒无法在涂布液中 均匀分散，稳定性不足。因此，透明被膜的强度、耐擦伤性下降，雾度值升高。
[0028] 进而，无机氧化物微粒优选经过采用有机硅化合物和聚合物分散剂中的至少一种 进行的表面处理。此时，有机硅化合物相对于无机氧化物微粒以固体成分换算、作为R n-SiX(4-nV2是1~100重量％。如果有机硅化合物的量少，则与后述的涂布液中的树脂乳液或 分散介质的亲和性低、稳定性不足而无法在涂布液中均匀地分散。聚合物分散剂相对于无 机氧化物微粒以固体成分计在1~300重量％的范围内存在。如果聚合物分散剂的量小于1 重量％，则与后述的用于形成透明被膜的涂布液中的树脂乳液或分散介质的亲和性低、稳 定性不足而无法在涂布液中均匀地分散。聚合物分散剂的量超过300重量％时，分散性也无 法进一步提尚。
[0029] 在无机氧化物微粒中使用单分散的无机氧化物微粒(A)、和一次粒径3~30个连接 成链状的链状无机氧化物微粒(B)中的至少一种。此时，无机氧化物微粒(A)的平均粒径 (Dpa)为3彡Dpa彡100nm，无机氧化物微粒(B)的平均一次粒径(Dpb )为3彡Dpb彡50nm。
[0030] 涂布后的被膜的状态根据涂布液中无机氧化物微粒的浓度而变化，但在无机氧化 物微粒(A)的平均粒径(Dpa)小于3nm时，无机氧化物微粒(A)不规则地凝集而排列，使透明被 膜的雾度值升高，膜的强度、耐擦伤性、划痕强度等变得不足。如果平均粒径（Dpa)超过 100nm，则透明性变得不足，由于透明被膜的膜厚而使膜的强度也变得不足。链状无机氧化 物微粒(B)的平均一次粒径(Dpb)小于3nm时，不连接成链状而是变成凝集粒子。如果平均一 次粒径(Dpb )超过50nm，则难以得到链状粒子。
[0031]下面，对构成涂布液的要素进行详细说明。
[0032] 无机氧化物微粒
[0033]本发明中所使用的无机氧化物微粒可根据用途从迄今公知的无机氧化物微粒中 选择。但是，无机氧化物微粒中所含有的碱金属的固体成分浓度以氧化物(Me20)的总量计 必须在lOOOppm以下。作为Me，可例示钠(Na)或钾(K)或锂(Li)。
[0034]无机氧化物微粒中的碱金属总量超过lOOOppm时，可能由于共杂离子（日文:共雑 彳才乂)增多，无法在涂布液中均匀地分散，存在稳定性变得不足、无机氧化物微粒凝集的 情况。因此，存在透明被膜的强度或耐擦伤性降低、雾度值升高及导电性、反射率等性能变 得不足的情况。作为减少碱金属的方法，可例示使用超滤膜或离子交换树脂等的迄今公知 的洗净方法。
[0035] 作为无机氧化物微粒，可例示选自Ti02、Zr02、Si02、Sb 2〇5、Zn02、Sn02、In2〇 3、掺锑氧 化锡(AT0)、掺锡氧化铟（IT0)、掺F氧化锡(FT0)、掺磷氧化锡(PT0)、掺铝氧化锌(AZ0)中的 至少一种、或它们的复合氧化物或混合物。可根据透明被膜的用途，从上述无机氧化物微粒 中适当选择。具体而言，在形成高折射率膜等的场合下，Ti〇2、Zr〇2、Sb2〇5、Zn〇2、Sn〇2、In2〇3等 是合适的。在形成硬质涂层膜、低折射率膜、易粘接膜、防结块膜等的场合下，Si0 2是合适 的。
[0036]特别是在以防反射为目的的低折射率膜方面，本
【申请人】的日本专利特开2001-233611号公报、日本专利特开2003-192994号公报中公开的内部具有空洞的二氧化硅中空 微粒是合适的。这是因为二氧化硅中空微粒是折射率约为1.10~1.40那么低的胶体范畴的 微粒，其分散性等优异。另外，二氧化硅中空微粒也适合作为隔热膜。另外，内部不具有空洞 的二氧化硅微粒(有时也称为二氧化硅实心微粒）内，较小粒子(粒径约在1 〇〇nm以下）的二 氧化硅微粒使硬度上升，粒径比它大的二氧化硅微粒则适于赋予抗结块性。
[0037] 在防止干涉条纹的场合下，形成高折射率膜的Ti02是合适的。另外，在形成防带电 膜的场合下，Sb 2〇5、In2〇3、掺锑氧化锡(AT0)、掺锡氧化铟（IT0)、掺F氧化锡(FT0)、掺磷氧化 锡(PT0)、掺铝氧化锌(AZ0)等由于具有导电性而适合。
[0038] 无机氧化物微粒优选是单分散的无机氧化物微粒(A)、和一次粒子连接成链状的 链状无机氧化物微粒(B)中的至少一种。这里，所谓单分散，是指粒子呈非凝集状态。
[0039]无机氧化物微粒(A)的平均粒径（Dpa)根据透明被膜的种类而异，但在3<DPA< 100nm的范围内，优选在5<DpA<80nm的范围内，进一步优选在8<DpA<80nm的范围内。
[0040]涂布后的被膜的状态根据涂布液中无机氧化物微粒的浓度而变化，但是在无机氧 化物微粒(A)的平均粒径(Dpa)小于3nm的场合下，无机氧化物微粒(A)不规则地凝集而排列， 存在透明被膜的雾度值升高的情况，及膜的强度、耐擦伤性、划痕强度等变得不足的情况。 另外，在上述二氧化硅中空微粒的场合下，存在二氧化硅类中空微粒内部的空洞比例小、折 射率无法在1.40以下的情况，及防反射性能变得不足的情况。另外，在AT0或IT0等结晶性导 电粒子的场合下，结晶性会变得不充分，导电性会变得不足。如果平均粒径(Dpa)超过lOOnm， 则透明性会变得不足。还存在膜的强度也会由于透明被膜的厚度而变得不足的情况。而且， 由于透明被膜的表面形成高密度的凹凸而存在雾度值升高的情况，及耐擦伤性、划痕强度 变得不足的情况。
[00411另外，链状无机氧化物微粒(B)的平均一次粒径(Dpb )优选在3 < Dpb < 50nm的范围 内，进一步优选在5<DpB<30nm的范围内，这样的一次粒子的平均连接数优选在3~30个的 范围内，进一步优选在5~20个的范围内。
[0042]涂布后的被膜的状态根据涂布液中链状无机氧化物微粒的浓度而变化，但是链状 无机氧化物微粒(B)在平均粒径(Dpb)小于3nm时不连接成链状而是成为凝集粒子，存在透明 被膜的雾度值升高的情况，及膜的强度、耐擦伤性、划痕强度等变得不足的情况。如果平均 一次粒径(Dpb)超过50nm，则难以获得链状粒子，即使获得了链状粒子，也存在链状粒子为长 链、透明被膜的雾度值升高的情况，及膜的强度、耐擦伤性、划痕强度等变得不足的情况。
[0043] 用于形成透明被膜的涂布液中的无机氧化物微粒的浓度(CP)以固体成分计优选 在0.0009~56重量％的范围内，进一步优选在0.03~40重量％的范围内。浓度(C P)如果太 低，则与基材的密合性、膜强度、表面平坦性、耐擦伤性、划痕强度等会变得不足。而且，存在 无法充分获得所需效果(导电性能、防反射性能等）的情况。浓度(C P)如果太高，则由于粒子 过多，除了密合性、膜强度、耐擦伤性、划痕强度等变得不足以外，还存在透明被膜的雾度值 升高的情况。而且，还会由于拉伸时涂膜的伸展追不上基材的拉伸而产生裂纹。
[0044] 涂布液中还可含有无机氧化物微粒(C)。另外，也可含有无机氧化物微粒(C)来取 代无机氧化物微粒(A)和链状无机氧化物微粒(B)中至少一方的一部分。
[0045] 无机氧化物微粒(C)的平均粒径(Dpc)在100<DP<500nm的范围内，优选在100< Dpc<400nm的范围内，进一步优选在100<Dpc$300nm的范围内。通过添加无机氧化物微粒 (C)，能够在透明被膜表面上形成凸部，因此可得到充分的抗结块性。
[0046] 涂布后的被膜的状态根据涂布液中无机氧化物微粒的浓度而变化，但在无机氧化 物微粒(C)的平均粒径(DPC)小于100nm时，透明被膜的膜厚变得更薄，存在无法在透明被膜 表面上形成凸部的情况，在利用后文所述的具有透明被膜的基材的制造方法来对用于形成 透明被膜的涂布液进行涂布、干燥、然后固化后再卷取具有透明被膜的基材的场合下，透明 被膜的表面与之后卷取得到的具有透明被膜的基材的基材之间密合(有时也称为结块），存 在之后的使用中难以剥离的情况。如果平均粒径(D PC)超过500nm，则除了膜的透明性会降 低、膜雾度值会升高、透射率会降低以外，表面的凹凸会变得过大导致耐擦伤性等膜的硬度 降低。
[0047] 用于形成透明被膜的涂布液中的无机氧化物微粒(C)的浓度(Cpc)以固体成分计优 选在0.000003~3重量％的范围内，进一步优选在0.000015~1.5重量％的范围内。浓度 (C PC)小于0.000003重量％时，在使用用于形成透明被膜的涂布液而得到的涂膜的表面上形 成的凸部的密度过低，存在无法得到充分的抗结块性的情况。如果浓度(C PC)超过3重量％， 则在涂膜表面上形成的凸部的密度过高，存在透明性、耐擦伤性、防反射性能变得不足的情 况。
[0048] 这里，无机氧化物微粒优选经过采用有机硅化合物和聚合物分散剂中的至少一种 进行的表面处理。有机硅化合物能够提高无机氧化物微粒与树脂乳液之间的亲和性。另一 方面，聚合物分散剂不仅能够和上述一样地提高亲和性，还能够抑制由于拉伸而在填料、粘 合剂之间产生空隙，在拉伸倍率高时特别适合。
[0049]在表面处理时使用水的场合下，优选在表面处理后置换成有机溶剂，形成经过表 面处理的无机氧化物粒子的有机溶剂分散液。籍此，可提高涂膜中无机氧化物微粒在树脂 中的分散性。作为有机溶剂，优选使用与后文所述的用于形成透明被膜的涂布液相同的有 机溶剂。
[0050]下面，对使用（i)有机硅化合物、（i i)聚合物分散剂来对无机氧化物微粒进行表面 处理的场合进行说明。
[0051 ] (i)有机硅化合物
[0052] 可使用以下式（1)表示的有机硅化合物。
[0053] Rn-SiX4-n (1)
[0054] (式中，R为碳数1~10的非取代或取代的烃基，彼此可相同或不同。X:碳数1~4的 烷氧基、硅烷醇基、卤素、氣，n:0~3的整数）
[0055] 式（1)中，在n为1~3的场合下，优选使用具有能与后述树脂乳液的官能团发生反 应的有机官能团的有机硅化合物。例如，在使用具有环氧基、甲基丙烯酰基、丙烯酰基、异氰 酸酯基等的树脂作为树脂乳液的场合下，作为有机硅化合物，优选使用具有环氧丙氧基、甲 基丙稀醜氧基、丙基醜氧基、乙烯基、异氛酸酯基、脈基、氣基等官能团的有机娃化合物。如 果使用利用这种有机硅化合物进行过表面处理的无机氧化物微粒，则能够形成膜强度、耐 擦伤性、划痕强度等方面优异的透明被膜。
[0056]无机氧化物微粒的表面处理可采用迄今公知的方法，例如，向无机氧化物微粒的 醇分散液中加入规定量的有机硅化合物，向其中加入水，根据需要加入作为水解用催化剂 的酸或碱而进行水解。此时，相对于无机氧化物微粒，有机硅化合物按固体成分换算、作为 Rn-SiX(4-n)/2在1~100重量％的范围内，优选在2~80重量％的范围内，进一步优选在5~70 重量％的范围内。
[0057]如果有机硅化合物的量少，则与后述用于形成透明被膜的涂布液中的树脂乳液或 分散介质之间的亲和性低且稳定性不足，无法均匀地在涂布液中分散，根据场合存在无机 氧化物微粒凝集的情况，及透明被膜的强度、耐擦伤性降低且雾度值升高、导电性、反射率 等性能变得不足的情况。有机硅化合物的量即使过多，也不能进一步提高分散性，在二氧化 硅中空微粒的场合下存在折射率上升、防反射性能变得不足的情况，在导电性微粒的场合 下存在防带电性能变得不足的情况。
[0058] (ii)聚合物分散剂
[0059] 作为本发明所使用的分散介质，只要是能够不溶解树脂乳液而维持乳液、能够溶 解或分散后述交联剂或聚合引发剂且能够分散无机氧化物微粒的分散介质即可。
[0060] 具体而言，可使用聚乙烯、聚丙烯酸、聚羧酸、聚氨酯等公知的聚合物分散剂。更具 体而言，作为聚乙烯聚合物，可使用聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮、聚乙酸乙烯酯、聚乙烯酯等 及其共聚物;作为聚丙烯酸聚合物，可使用聚丙烯酸、聚丙烯酸钠、聚丙烯酸铵等及其共聚 物;作为聚羧酸聚合物，可使用聚羧酸、聚羧酸钠、聚羧酸铵等及其共聚物;作为聚氨酯聚合 物，可使用聚氨酯等及其共聚物等;还可使用这些共聚物或磺酸聚合物的共聚物等。
[0061] 如果使用聚合物分散剂，则能够降低拉伸后的雾度值。聚合物分散剂的量相对于 无机氧化物微粒以固体成分计优选为1~300重量％，进一步优选为1~100重量％。如果聚 合物分散剂的量小于1重量％，则与后述用于形成透明被膜的涂布液中的树脂乳液或分散 介质之间的亲和性低且稳定性不足，无法均匀地在涂布液中分散，根据场合存在无机氧化 物微粒凝集的情况，及透明被膜的强度、耐擦伤性降低且雾度值升高、导电性、反射率等性 能变得不足的情况。聚合物分散剂的量超过300重量％时，也不能进一步提高分散性，在二 氧化硅中空微粒的场合下存在折射率上升、防反射性能变得不足的情况，在导电性微粒的 场合下存在防带电性能变得不足的情况。
[0062]另外，本发明的聚合物分散剂的分子量优选为1000~100000,进一步优选为5000 ~50000。分子量小于1000时，由于聚合物分散剂追不上拉伸，因此在拉伸倍率高时拉伸后 会产生空隙、雾度值升高。分子量超过100000时，无机氧化物微粒会凝集、膜的雾度值会上 升。
[0063] 树脂乳液
[0064] 树脂乳液是由有机树脂以小液滴的状态、即乳液状态稳定地分散在分散介质中而 成的，树脂可以是热塑性树脂、热固型(包括电子束固化型)树脂中的任一种，既可以是由亲 油性树脂分散在水或醇等亲水性溶剂中而成的树脂乳液，也可以是由与水具有亲和性的亲 水性树脂分散在极性低的亲油性溶剂中而成的树脂乳液。这意味着这样的树脂乳液具有树 脂不溶于分散介质中、而是形成乳液的非相容性。另外，乳液的小液滴状态维持到形成被膜 时，在本发明中也维持到拉伸时。
[0065] 在亲油性分散介质的场合下，使用与水具有亲和性的亲水性树脂(A)，在亲水性分 散介质的场合下，使用与水不具有亲和性的亲油性树脂(B)。
[0066] 作为与水具有亲和性的树脂(A)，可例举选自环氧树脂、聚酯树脂、聚碳酸酯树脂、 聚酰胺树脂、聚苯醚树脂、氯乙烯树脂、氟树脂、乙酸乙烯酯树脂、有机硅树脂、聚氨酯树脂、 三聚氰胺树脂、丁缩醛树脂、酚醛树脂、不饱和聚酯树脂、这些树脂中的两种以上的共聚物 或改性体中的至少一种;作为与水不具有亲和性的树脂(B)，可使用选自有机硅树脂、聚氨 酯树脂、热塑性丙烯酸树脂、热固型丙烯酸树脂、紫外线固化型丙烯酸树脂中的至少一种。
[0067] 从环境负担的观点考虑，使用与水不具有亲和性的树脂(B)和亲水性分散介质的 树脂乳液为宜。
[0068] 另外，树脂(B)为了形成乳液，其自身可以具有羧基、磺酰基、氨基、磷酰基、羟基以 及其它衍生物等的官能团，也可以具有用于在树脂之间或树脂与表面处理有机硅化合物进 行交联的任意官能团，例如环氧基、碳二亚胺基、异氰酸酯基、丙烯酰基、乙烯基等。其中，聚 氨酯树脂、PVA树脂、丙烯酸树脂由于制得的膜是透明的且这些树脂是热塑性树脂，因而优 选使用。
[0069] 具体而言，优选使用ADEKA株式会社(ADEKA(株））制造的"ADEKA B0NTIGHTER(7x 力求^夕彳夕一)"系列、DIC株式会社制造的"B0NDIC(求'名/夕）"系列、"HYDRAN(/、彳K yW"系列、日本聚氨酯工业株式会社（日本工業(株））制造的"MIRACTRANG 7外歹系列、拜尔公司（八彳工少社）制造的"MPRANIL(彳^7°歹二一少)"系列、日本 Soflan株式会社（日本y 7(株））制造的"Soflanate( y 7歹專一卜)"系列、花王株式会 社（花王（株））制造的"P0IZ"系列、三洋化成工业株式会社（三洋化成工業（株））制造的 3八即1^呢（甘^7\^)"系列、保土谷化学工业株式会社（保土谷化学工業（株））制造的 "Ai ZeraX(ア彳七yックス）"系列、第一工业制药株式会社（第一工業製薬（株））制造的 "SUPERFLEX(只一八一 7 只）"系列、"ELASTR0N(工歹只卜口 ^)"系列、Zeneca株式会社 (七氺力（株））制造的"NeoRez(氺才系列等以水为分散介质的聚氨酯树脂乳液。
[0070] 这样的树脂乳液呈大致球状，但其直径优选在10~500nm的范围内，进一步优选在 20~300nm的范围内。树脂乳液的径小于10nm的乳液难以获得，而且即使获得，硬化时的收 缩也大，会产生裂纹。如果树脂乳液的径大于500nm，则无机氧化物微粒变得难以均匀分散， 面内反射率上会产生膜不均，外观会变差。
[0071] 在树脂乳液的径(直径)测定中使用动态散射粒径测定装置(FPAR-1000,大塚电子 株式会社(大塚電子社)制造）。
[0072] 用于形成透明被膜的涂布液中的树脂乳液的浓度(CR)以固体成分计优选在0.006 ~68重量％的范围内，进一步优选在0.2~49重量％的范围内。如果以固体成分计的浓度 (C R)低，则由于树脂少而无机氧化物微粒过多，存在膜强度、耐擦伤性、划痕强度等变得不 足的情况。还存在拉伸时透明被膜的伸展不均而产生裂纹的情况。浓度(C R)太高，除了与基 材的密合性、膜强度、表面平坦性、耐擦伤性、划痕强度等变得不足以外，还由于无机氧化物 微粒变少而存在无法得到充分的导电性能、防反射性能等的情况。
[0073] 涂布液中无机氧化物微粒的浓度(Cp )与树脂乳液浓度(CR)的浓度比（Cp/Cr )根据 透明被膜的用途?用法而异，但优选在0.03~4的范围内。另外，作为透明被膜的用途，可例 举硬质涂层、防带电、易粘接性、防反射、抗结块性、隔热性等，根据这些用途来设定合适的 优选范围。
[0074] 具体而言，在硬质涂层膜的场合下，（Cp/Cr)优选在0.1~4的范围内，进一步优选在 0.25~2.4的范围内。如果在该范围内，则能够形成与基材的密合性、膜强度、表面平坦性、 耐擦伤性、划痕强度等方面优异的透明性硬质涂层膜。
[0075]在防带电膜的场合下，（Cp/Cr)优选在0.03~2.4的范围内，进一步优选在0.05~1 的范围内。如果在该范围内，则能够形成与基材的密合性、膜强度、防带电性(导电性)方面 优异且表面平坦性、耐擦伤性、划痕强度等方面优异的透明性防带电膜。
[0076]在易粘接性层的场合下，（Cp/Cr)优选在0.03~1的范围内，进一步优选在0.05~ 0. 25的范围内。如果在该范围内，则能够在不损害设置于基材和上层上的其它功能性膜的 功能的条件下，形成与基材的密合性方面优异的易粘接性层。
[0077]另外，在易粘接性层的场合下，还可以进一步含有无机氧化物微粒(C)。另外，也可 用无机氧化物微粒(C)来取代无机氧化物微粒(A)和链状无机氧化物微粒(B)中至少一方的 一部分。通过使用无机氧化物微粒(C)，能够形成抗结块性方面优异的易粘接性层。
[0078] 另外，作为无机氧化物微粒，如果在未用上述有机硅化合物对其进行表面处理的 条件下使用，则无机氧化物微粒呈现出适度的凝集状态，能够通过光的散射而抑制干涉条 纹。或者，也可通过对作为无机氧化物微粒的粒子进行选择以使所得到的易粘接性层的折 射率与基材的折射率相接近来抑制干涉条纹。
[0079] 在防反射膜的场合下，（CP/CR)优选在0.1~4的范围内，进一步优选在0.25~2.4的 范围内。如果在该范围内，则能够形成与基材的密合性、膜强度、防反射性能方面优异的透 明性防反射膜。
[0080] 在抗结块性膜的场合下，还可以进一步含有无机氧化物微粒(C)。另外，也可用无 机氧化物微粒(C)来取代无机氧化物微粒(A)和链状无机氧化物微粒(B)中至少一方的一部 分。通过使用无机氧化物微粒(C)，能够形成易粘接性层。在该场合下，如果(Cp/Cr)在0.03~ 1、 进一步在〇. 05~0.25的范围内，则能够形成与基材的密合性、膜强度等方面优异的透明 性抗结块性膜。
[0081 ]在隔热膜的场合下，（Cp/Cr)优选在0.1~4的范围内，进一步优选在0.25~2.4的范 围内。如果在该范围内，则能够形成与基材的密合性、膜强度、表面平坦性、耐擦伤性、划痕 强度等方面优异的透明性隔热膜。
[0082] 分散介质
[0083] 作为分散介质，必须是不溶解树脂乳液而能够使其以乳液状态分散的溶剂。例如， 可使用水或有机溶剂。另外，只要能够溶解或分散后文所述的交联剂或聚合引发剂且能够 分散无机氧化物微粒，就不作特别的限定。
[0084] 具体而言，可例举:水，甲醇、乙醇、丙醇、2-丙醇（IPA)、丁醇、二丙酮醇、糠醇、四氢 糠醇、乙二醇、己二醇、异丙二醇等醇类，乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯类，二乙醚、乙 二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单丁醚、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、丙二醇单甲 醚等醚类，丙酮、甲乙酮、甲基异丁基酮、乙酰丙酮、丙酮酸酯等酮类，甲基溶纤剂、乙基溶纤 剂、丁基溶纤剂，甲苯，环己酮，异佛尔酮，N，N_二甲基甲酰胺等。其中，水和醇类是合适的。
[0085] 交联剂
[0086] 涂布液中可根据需要添加交联剂。交联剂在树脂乳液的树脂为热塑性树脂的场合 下使用。作为交联剂，只要是具有与树脂乳液所具有的活性基团发生反应的官能团的化合 物就不作特别限定，可根据树脂从迄今公知的交联剂中进行适当选择而使用，可使用以水 为分散介质的环氧化合物、氨基化合物、异氰酸酯化合物、碳二亚胺化合物等。
[0087] 交联剂的添加量不作特别限定，交联剂的添加量根据树脂乳液的种类而异，但相 对于以固体成分计为1〇〇重量％的树脂乳液，交联剂以固体成分计优选在200重量％以下， 进一步优选在10~100重量％的范围内。如果交联剂的添加量少，则根据树脂乳液的种类， 透明被膜的固化会变得不充分。如果交联剂的添加量过多，则存在涂布液的稳定性变得不 足的情况，及所得到的透明被膜上产生裂纹的情况。
[0088] 聚合引发剂
[0089] 涂布液中在固化型树脂的场合下可根据需要添加聚合引发剂。作为聚合引发剂， 只要能够使树脂乳液聚合、固化，就不作特别的限定，可根据树脂进行适当选择。
[0090] 例如，可例举偶氮腈或偶氮酰胺等偶氮化合物、过氧化苯甲酰或过氧化甲乙酮等 有机过氧化物。
[0091] 聚合引发剂的添加量根据树脂乳液的种类而异，但相对于以固体成分计为100重 量％的树脂乳液，聚合引发剂以固体成分计优选在200重量％以下，进一步优选在10~100 重量％的范围内。如果聚合引发剂的使用量少，则透明被膜的固化会变得不充分。如果聚合 引发剂的添加量过多，则存在涂布液的稳定性变得不足的情况，及所得到的透明被膜上产 生裂纹的情况。
[0092]用于形成透明被膜的涂布液的全部固体成分浓度优选在0.03~70重量％的范围 内，进一步优选在1~50重量％的范围内。
[0093] 如果涂布液的固体成分浓度过低，则难以调整膜厚，且容易在干燥状态下产生不 均。另外，在涂布液涂布之后拉伸基材膜的场合下存在难以得到所需膜厚的情况，及伴有裂 纹产生的情况。如果用于形成透明被膜的涂布液的固体成分浓度过高，则由于稳定性降低、 涂布性降低，存在所得到的透明被膜与基材的密合性、膜强度、耐擦伤性、划痕强度等变得 不足的情况。特别是由于涂布液的粘度升高，存在难以进行追上基材拉伸的均匀涂布、难以 在涂布后的拉伸时对涂膜进行均匀地拉伸的情况，及产生斑点或膜不均(海岛结构）、产生 裂纹的情况。
[0094] 下面，对使用上述涂布液来制造具有膜的基材的方法进行说明。
[0095][具有透明被膜的基材的制造方法]
[0096] 本发明的具有透明被膜的基材的制造方法包括涂布涂布液的工序和拉伸基材膜 的工序。具体而言，只要是（1)在将涂布液涂布至基材上之后涂膜干燥之前对具有涂膜的基 材进行拉伸的方法、和(2) -边拉伸基材一边涂布涂布液的方法，就不对涂布液的涂布次数 或拉伸的方向或次数作特别规定。进一步具体地例举方法，可举出以下四种形态。
[0097] ?第一形态
[0098] 第一形态中，在涂布工序后进行双轴拉伸工序。
[0099] 即，依次进行以下工序：
[0100] (a)在树脂膜基材上涂布涂布液的工序；
[0101] (b)对具有涂膜的树脂膜进行双轴(纵和横)拉伸的工序；
[0102] (c)去除(干燥)涂膜中所含有的分散介质的工序；
[0103] (d)进行固化的工序。
[0104] 工序(a)
[0105] 在树脂膜基材上涂布上述涂布液。这里，使用拉伸前的基材。拉伸前的基材的厚度 通常在400~5000M1的范围内。具体而言，可例举:聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二 醇酯等聚酯基材，聚乙烯膜、聚丙烯膜、环状聚烯烃膜等聚烯烃基材，尼龙-6、尼龙-66等聚 酰胺基材，以及聚丙烯酸膜、聚氨酯膜、聚碳酸酯膜、聚醚膜、聚醚砜膜、聚苯乙烯膜、聚甲基 戊烯膜、聚醚酮膜、丙烯腈膜等基材。特别是聚酯基材或聚丙烯酸膜由于耐热性方面优异且 透明性高而可优选使用。
[0106]涂布液的涂布方法可采用喷雾法、旋涂法、辊涂法、棒涂法、狭缝涂布印刷法、凹版 印刷法、微凹版印刷法等公知方法。在本发明中推荐使用辊涂法、狭缝涂布印刷法、凹版印 刷法、微凹版印刷法。
[0107]此时的涂布量是涂布至拉伸后的透明被膜的厚度达到所需厚度。例如，在易粘接 层或抗结块性膜的场合下，涂布至平均膜厚（Tf)达到10~2000nm、优选20~800nm为好。在 防反射膜的场合下，涂布至平均膜厚(Tf)达到80~400nm、优选90~300nm为好。在硬质涂层 膜的场合下，涂布至平均膜厚(Tf)达到0.5~30mi、优选1~lOym为好。在防带电膜的场合 下，涂布至平均膜厚（Tf)达到1~20wii、优选3~15wii为好。在隔热膜的场合下，涂布至平均 膜厚(Tf)达到1~300wii、优选5~lOOwii为好。
[0108] 工序(b)
[0109] 对具有涂膜的树脂膜进行拉伸。拉伸方法可采用双轴拉伸法。此时，拉伸后的基材 的厚度通常优选在20~200wii的范围内。这里，所谓双轴拉伸，是指对具有涂膜的基材沿着 卷取(辊)的方向进行拉伸(纵轴拉伸），同时还沿着与之垂直的方向进行拉伸(横轴拉伸）。
[0110] 工序(c)
[0111] 作为干燥方法，只要能够去除涂布液的分散介质就不作特别限定。例如，可进行风 干，但也可利用加热对形成有涂膜的树脂膜进行干燥。加热温度约为50~200°C，时间约为1 秒~1小时。
[0112] 工序⑷
[0113] 使涂膜固化的方法根据涂布液中所用的树脂乳液的种类而异，但在使用热固型树 脂的场合下进行加热固化，在使用紫外线固化型树脂的场合下进行紫外线照射，可根据需 要采用加热等迄今公知的方法。在热塑性树脂的场合下通过加热后的冷却来进行固化。
[0114] ?第二形态
[0115] 第二形态中，在对经过纵轴拉伸的基材进行涂布工序后进行横轴拉伸工序。
[0116] 即，依次进行以下工序：
[0117] (a'）在经过纵轴拉伸的树脂膜基材上涂布涂布液的工序；
[0118] (b'）对具有涂膜的树脂膜进行横轴拉伸的工序；
[0119] (c)去除(干燥)涂膜中所含有的分散介质的工序；
[0120] (d)进行固化的工序。
[0121] 工序(a，)
[0122] 在经过纵轴拉伸的树脂膜基材上涂布上述用于形成透明被膜的涂布液。经过拉伸 的基材的厚度通常在40~500wii的范围内。基材使用第一形态中所述的基材，涂布液的涂布 方法也使用相同的方法。此时的涂布量以涂布至最终得到的透明被膜的平均膜厚(Tf)达到 上述范围为好。
[0123] 工序(b，）
[0124] 对具有涂膜的树脂膜进行横轴拉伸。此时，拉伸至拉伸后的基材的厚度达到通常 20~200iim的范围。
[0125] 工序(c)和工序(d)与第一形态相同。
[0126] ?第三形态
[0127] 第三形态中，同时进行涂布工序和纵轴拉伸工序。
[0128] 即，依次进行以下工序：
[0129] (a"）一边进行纵轴拉伸基材一边在树脂膜基材上涂布涂布液的工序；
[0130] (b"）对具有涂膜的树脂膜进行横轴拉伸的工序；
[0131] (c)去除(干燥)涂膜中所含有的分散介质的工序；
[0132] (d)进行固化的工序。
[0133] 工序(a，，)
[0134] -边进行纵轴拉伸基材一边在树脂膜基材上涂布上述涂布液。
[0135] 基材的拉伸方法与第二形态的纵轴拉伸方法相同。基材使用第一形态中所述的基 材，涂布液的涂布方法也使用相同的方法。此时的涂布量是涂布至最终得到的透明被膜的 平均膜厚(Tf)达到上述范围为好。
[0136] 工序(b，，)
[0137] 对具有涂膜的树脂膜进行横轴拉伸。此时，拉伸至拉伸后的基材的厚度达到通常 20~200iim的范围。
[0138] 工序(c)和工序(d)与第一和第二形态相同。
[0139] ?第四形态
[0140] 第四形态中，同时进行涂布工序和双轴拉伸工序。
[0141] 即，依次进行以下工序：
[0142] (a" '）一边对基材进行双轴(纵轴和横轴)拉伸一边在基材上涂布涂布液的工序；
[0143] (c)去除(干燥)涂膜中所含有的分散介质的工序；
[0144] (d)使涂膜固化的工序。
[0145] 工序(a，，，)
[0146] -边对基材进行双轴拉伸一边在树脂膜基材上涂布上述涂布液。拉伸方法采用双 轴拉伸法。此时，拉伸后的基材的厚度在通常20~200wii的范围内为好。基材使用第一形态 中所述的基材，涂布液的涂布方法也使用相同的方法。此时的涂布量是涂布至最终得到的 透明被膜的平均膜厚(Tf)达到上述范围为好。
[0147] 工序(c)和工序(d)与第一~第三形态相同。
[0148] 籍此，可制造本发明的具有透明被膜的基材。
[0149] 所得到的透明被膜的平均膜厚（Tf)根据透明被膜的种类而异，优选在上述范围 内。例如，在具有防反射膜的基材的场合下，防反射膜的平均膜厚(T F)小于80nm时，存在防 反射膜的强度、耐擦伤性变得不足的情况，还会无法得到所需的反射率。如果平均膜厚(Tf) 超过400nm，则防反射膜上容易产生裂纹，并因此存在防反射膜的强度变得不足的情况，及 由于膜太厚而防反射性能变得不足的情况。如果防反射膜的平均膜厚(Tf)在上述范围内， 则能够得到反射率(底部反射率、视觉反射率)低、且膜强度等方面优异的防反射膜。
[0150]本发明中，透明被膜的平均膜厚（Tf)可通过利用透射型电子显微镜(TEM)对透明 被膜的截面进行拍摄来测定。
[0151]透明被膜中无机氧化物微粒的含量优选在3~80重量％的范围内，进一步优选在5 ~70重量％的范围内。透明被膜中无机氧化物微粒的含量小于3重量％时，除了与基材的密 合性、膜强度、表面平坦性、耐擦伤性、划痕强度等变得不足以外，在防反射膜的场合下还存 在折射率的降低不充分、防反射性能变得不足的情况。如果透明被膜中无机氧化物微粒的 含量超过80重量％，则除了由于粒子太多而使膜强度、耐擦伤性、划痕强度等变得不足以 外，在防反射膜的场合下还存在雾度值升高的情况。还会由于拉伸时透明被膜的伸展追不 上基材的拉伸而产生裂纹。
[0152]来自透明被膜中树脂乳液的树脂的含量优选在20~97重量％的范围内，进一步优 选在30~95重量％的范围内。本发明人认为，其理由是树脂乳液至少在干燥前为止在涂膜 中维持了小液滴状，因此，即使基材在拉伸时受到拉扯，也能够与之相应地在涂膜中进行移 动或形变。然后，该小液滴状通过之后的干燥、固化处理而熔融、固化，从而整体成膜。
[0153] 如果以固体成分计的来自透明被膜中树脂乳液的树脂的含量低，则树脂少，除了 膜强度、耐擦伤性、划痕强度等变得不足以外，还由于粒子多而存在透明被膜的雾度值升高 的情况。还会由于拉伸时透明被膜的伸展追不上基材的拉伸而产生裂纹。如果来自透明被 膜中树脂乳液的树脂的含量过多，则粒子少，除了与基材的密合性、膜强度、表面平坦性、耐 擦伤性、划痕强度等变得不足以外，还存在无机氧化物微粒少而透明被膜的功能变得不足 的情况。
[0154] 下面，通过实施例对本发明进行说明，但本发明并不局限于这些实施例。
[0155] [实施例1]
[0156] 用于形成硬质涂层膜的涂布液(H-1P)的配制
[0157] 使用超滤膜将硅溶胶（日挥触媒化成株式会社（日揮触媒化成（株））制造： Cataloid-SN(力夕口彳K 一SN)，平均粒径为12nm，Si02浓度为20重量％，分散介质为水）中 的分散介质置换为乙醇，配制成固体成分浓度为20重量％的二氧化硅微粒(H-1V)的醇分散 液。
[0158] 向100g固体成分浓度为20重量％的二氧化硅微粒(H-1V)的醇分散液中加入4g硅 烷偶联剂（甲基三甲氧基硅烷，信越化学株式会社(信越化学(株））制造:KBM-13)，在50°C下 进行加热处理，配制成固体成分浓度为20重量％的表面处理二氧化硅微粒(H-1VS)的醇分 散液。使用旋转蒸发器将分散介质置换为水，配制成固体成分浓度为40.5重量％的表面处 理二氧化硅微粒(H-l VS)的水分散液。此时碱浓度为200ppm。
[0159] 接着，在10.0g表面处理二氧化硅微粒(H-1VS)的水分散液中混合11.4g聚氨酯树 脂乳液(第一工业制药株式会社:SUPERFLEX 210,树脂浓度为35重量％，乳液直径:50nm，分 散介质：水）、5.3g异丙醇而配制成固体成分浓度为30.0重量％的用于形成硬质涂层膜的涂 布液(H-1P)。
[0160] 具有硬质涂层膜的拉伸膜基材(H-1F)的制造
[0161] 相对于100重量％的对苯二甲酸二甲酯，加入70重量％的乙二醇、和0.01重量％的 作为酯交换催化剂的乙酸钙、0.03重量％的作为缩聚催化剂的三氧化锑，升温至220°C，馏 去理论上的甲醇，完成酯交换反应。然后，向体系中添加0.04重量％的磷酸三甲酯。对体系 内进行减压，在ImmHg的减压下、于290°C的温度进行4小时的缩聚反应，制得聚酯树脂。
[0162] 在295°C下利用挤出机将所得到的聚酯树脂制成片状，制得基材用聚酯树脂膜 (1)。聚酯树脂膜（1)的厚度为1125wii。对该聚酯树脂膜（1)进行纵轴拉伸（140°C，2.5倍拉 伸）之后，利用棒涂法(棒#60)涂布用于形成硬质涂层膜的涂布液(H-1P)，在140°C下进行 120秒的干燥之后，进行横轴拉伸（140°C，4.5倍拉伸），制得具有硬质涂层膜的拉伸膜基材 (H-1F)。此时，膜基材的厚度为lOOwii，硬质涂层膜的膜厚为5mi。
[0163] 对所得到的具有硬质涂层膜的拉伸膜基材(H-1F)的总光线透射率、雾度值、密合 性、铅笔硬度、斑点、膜不均（海岛结构）、有无裂纹、膜表面的平坦性以及耐擦伤性进行测 定，结果示于表中。利用雾度计(须贺试验机株式会社（只力'試験機(株））制造)来测定总光 线透射率和雾度。
[0164] 另外，仅将基材用聚酯树脂膜（1)以相同的方式拉伸至lOOwii的厚度，总光线透射 率为93.14%，雾度值为0.27%。
[0165] 铅笔硬度
[0166] 铅笔硬度按照JISK 5400利用铅笔硬度试验器来测定。即，以相对于硬质涂层膜表 面呈45度的角度设置铅笔，施加规定的负荷、以固定速度进行拉拽，观察有无损伤。
[0167] 密合性
[0168] 用刀在具有硬质涂层膜的基材(H-1F)上以横竖1mm的间隔划刻出11条平行的伤痕 以形成100个网格，在其上黏贴玻璃纸胶带，然后，将剥离玻璃纸胶带时被膜未剥离而残留 的网格数分成以下的三个等级，藉此对密合性进行评价。结果示于表中。
[0169] 残留网格数在90个以上：◎
[0170] 残留网格数在85~89个之间：〇
[0171] 残留网格数在84个以下：A
[0172] 膜不均(海岛结构)
[0173] 通过目视对表面进行观察，按照以下的基准来进行评价。
[0174] 无法确认到表面上不均状的外观缺陷。：◎
[0175] 几乎无法确认到表面上不均状的外观缺陷。：〇
[0176] 略微观察到表面上不均状的外观缺陷。：A
[0177] 明显观察到表面上不均状的外观缺陷。：X
[0178] 盤
[0179] 利用电子显微镜对表面进行观察，按照以下的基准来进行评价。
[0180] 完全没有观察到裂纹。：◎
[0181] 略微观察到细微裂纹。：〇
[0182] 明显观察到细微裂纹。：A
[0183] 观察到细微裂纹和大裂纹。：X
[0184] 膜表面的平坦性
[0185] 表面平坦性(Ra)利用日立高科技株式会社（（株）日立/、彳于夕甘彳工^只社）制 造的原子力显微镜(AFM)来测定，按照以下的基准来进行评价。
[0186] Ra 值小于 10nm:?
[0187] Ra值在10nm以上且小于20nm:〇
[0188] Ra值在20nm以上且小于50nm: A
[0189] Ra 值在 50nm 以上：X [0190] 耐擦伤性的测定
[0191] 使用#0000钢丝绒以500g/cm2的负荷滑动50次，对膜的表面进行目视观察，按照以 下的基准来进行评价，结果示于表中。
[0192] 未见线条伤痕:◎
[0193] 略见线条伤痕：〇
[0194] 见大量线条伤痕:A
[0195] 表面被整体刮削：X
[0196] [实施例2]
[0197] 用于形成硬质涂层膜的涂布液(H-2P)的配制
[0198] 在5.9g按照与实施例1相同的方式配制成的表面处理二氧化硅微粒(H-1VS)的水 分散液中混入16.0g聚氨酯树脂乳液(第一工业制药株式会社:SUPERFLEX 210，树脂浓度为 35重量％，乳液直径:50nm，分散介质：水）、4.7g异丙醇，配制成固体成分浓度为30.0重量％ 的用于形成硬质涂层膜的涂布液(H-2P)。 _9] 具有硬质涂层膜的拉伸膜基材(H-2F)的制造
[0200]除了用(H-2P)替代(H-1P)作为用于形成硬质涂层膜的涂布液以外，按照与实施例 1相同的方式制得具有硬质涂层膜的拉伸膜基材(H-2F)。此时，膜基材的厚度为lOOwii，硬质 涂层膜的膜厚为4.8wii。
[0201 ]对所得到的具有硬质涂层膜的拉伸膜基材(H-2F)的总光线透射率、雾度值、密合 性、铅笔硬度、斑点、膜不均（海岛结构）、有无裂纹、膜表面的平坦性以及耐擦伤性进行测 定，结果不于表中。
[0202][实施例3]
[0203] 用于形成硬质涂层膜的涂布液(H-3P)的配制
[0204]在13.8g按照与实施例1相同的方式配制成的表面处理二氧化硅微粒(H-1VS)的水 分散液中混入6.9g聚氨酯树脂乳液(第一工业制药株式会社：SUPERFLEX 210，树脂浓度为 35重量％，乳液直径:50nm，分散介质：水）、6.0g异丙醇，配制成固体成分浓度为30.0重量％ 的用于形成硬质涂层膜的涂布液(H-3P)。
[0205] 具有硬质涂层膜的拉伸膜基材(H-3F)的制造
[0206]除了在实施例1中用(H-3P)替代(H-1P)作为用于形成硬质涂层膜的涂布液以外， 按照相同的方式制得具有硬质涂层膜的拉伸膜基材(H-3F)。此时，膜基材的厚度为lOOwii， 硬质涂层膜的膜厚为5.4wii。
[0207]对所得到的具有硬质涂层膜的拉伸膜基材(H-3F)的总光线透射率、雾度值、密合 性、铅笔硬度、斑点、膜不均（海岛结构）、有无裂纹、膜表面的平坦性以及耐擦伤性进行测 定，结果不于表中。
[0208][实施例4]
[0209] 用于形成硬质涂层膜的涂布液(H-4P)的配制
[0210]在10.0g按照与实施例1相同的方式配制成的表面处理二氧化硅微粒(H-1VS)的水 分散液中混入11.4g聚氨酯树脂乳液(第一工业制药株式会社:SUPERFLEX 210，树脂浓度为 35重量％，乳液直径:50nm，分散介质：水）、10.6g的纯水、8.0g异丙醇，配制成固体成分浓度 为20.0重量％的用于形成硬质涂层膜的涂布液(H-4P)。
[0211] 具有硬质涂层膜的拉伸膜基材(H-4F)的制造
[0212] 除了在实施例1中用(H-4P)替代(H-1P)作为用于形成硬质涂层膜的涂布液以外， 按照与实施例1相同的方式制得具有硬质涂层膜的拉伸膜基材(H-4F)。此时，膜基材的厚度 为100M1，硬质涂层膜的膜厚为3.2M1。
[0213] 对所得到的具有硬质涂层膜的拉伸膜基材(H-4F)的总光线透射率、雾度值、密合 性、铅笔硬度、斑点、膜不均（海岛结构）、有无裂纹、膜表面的平坦性以及耐擦伤性进行测 定，结果不于表中。
[0214][实施例5]
[0215] 用于形成硬质涂层膜的涂布液(H-5P)的配制
[0216]在10.Og按照与实施例1相同的方式配制成的表面处理二氧化硅微粒(H-1VS)的水 分散液中混入13.5g聚氨酯树脂乳液(第一工业制药株式会社:SUPERFLEX 150，树脂浓度为 30重量％，乳液直径:70nm，分散介质：水）、3.5g异丙醇，配制成固体成分浓度为30.0重量％ 的用于形成硬质涂层膜的涂布液(H-5)。
[0217] 具有硬质涂层膜的拉伸膜基材(H-5F)的制造
[0218] 除了在实施例1中用(H-5P)替代(H-1P)作为用于形成硬质涂层膜的涂布液以外， 按照与实施例1相同的方式制得具有硬质涂层膜的拉伸膜基材(H-5F)。此时，膜基材的厚度 为lOOwn，硬质涂层膜的膜厚为4.9M1。
[0219] 对所得到的具有硬质涂层膜的拉伸膜基材(H-5F)的总光线透射率、雾度值、密合 性、铅笔硬度、斑点、膜不均（海岛结构）、有无裂纹、膜表面的平坦性以及耐擦伤性进行测 定，结果不于表中。
[0220] [实施例6]
[0221] 用于形成硬质涂层膜的涂布液(H-6P)的配制
[0222]在10.0g的将实施例1的固体成分浓度调至60重量％而成的表面处理二氧化硅微 粒(H-6VS)中混入17. lg聚氨酯树脂乳液(第一工业制药株式会社:SUPERFLEX 210,树脂浓 度为35重量％，乳液直径:50nm，分散介质:水）、6.8g异丙醇，配制成固体成分浓度为35.3重 量％的用于形成硬质涂层膜的涂布液(H-6P)。
[0223] 具有硬质涂层膜的拉伸膜基材(H-6F)的制造
[0224] 利用棒涂法(棒#72)在按照与实施例1相同的方式制得的基材用聚酯树脂膜（1)上 涂布用于形成硬质涂层膜的涂布液(H-6P)，接着，在140°C加温下以使纵轴方向上达到2.5 倍、横轴方向上达到4.5倍的条件进行拉伸，然后，在140°C下进行120秒的干燥，制得具有硬 质涂层膜的拉伸膜基材(H-6F)。此时，基材的厚度为lOOwn，硬质涂层膜的膜厚为2wii。
[0225] 对所得到的具有硬质涂层膜的拉伸膜基材(H-6F)的总光线透射率、雾度值、密合 性、铅笔硬度、斑点、膜不均（海岛结构）、有无裂纹、膜表面的平坦性以及耐擦伤性进行测 定，结果不于表中。
[0226] [实施例7]
[0227] 具有硬质涂层膜的拉伸膜基材(H-7F)的制造
[0228] -边在140°C加温下对按照与实施例1相同的方式制得的基材用聚酯树脂膜（1)以 使纵轴方向上达到2.5倍的条件进行拉伸，一边利用棒涂法(棒#60)涂布按照与实施例1相 同的方式配制成的用于形成硬质涂层膜的涂布液(H-1P)，接着，在140°C加温下以使横轴方 向上达到4.5倍的条件进行拉伸，然后，在140°C下进行120秒的干燥，制得具有硬质涂层膜 的拉伸膜基材(H-7F)。此时，基材的厚度为IOOmi，防反射膜的膜厚为5. lwii。
[0229] 对所得到的具有硬质涂层膜的拉伸膜基材(H-7F)的总光线透射率、雾度值、密合 性、铅笔硬度、斑点、膜不均（海岛结构）、有无裂纹、膜表面的平坦性以及耐擦伤性进行测 定，结果不于表中。
[0230] [实施例8]
[0231] 具有硬质涂层膜的拉伸膜基材(H-8F)的制造
[0232] -边在140°C加温下对按照与实施例1相同的方式制得的基材用聚酯树脂膜（1)以 使纵轴方向上达到2.5倍、横轴方向上达到4.5倍的条件进行拉伸，一边利用棒涂法(棒#16) 涂布按照与实施例1相同的方式配制成的用于形成硬质涂层膜的涂布液(H-1P)，然后，在 140°C下进行120秒的干燥，制得具有硬质涂层膜的拉伸膜基材(H-8F)。此时，膜基材的厚度 为1 OOym，防反射膜的膜厚为5mi。
[0233] 对所得到的具有硬质涂层膜的拉伸膜基材(H-8F)的总光线透射率、雾度值、密合 性、铅笔硬度、斑点、膜不均（海岛结构）、有无裂纹、膜表面的平坦性以及耐擦伤性进行测 定，结果不于表中。
[0234] [实施例9] _5] 用于形成硬质涂层膜的涂布液(H-9P)的配制
[0236] 向100g实施例1中得到的固体成分浓度为20重量％的二氧化硅微粒(H-1V)的醇分 散液中添加2g聚丙烯酸分散剂（东亚合成株式会社(東亜合成(株））制造:Aron SD-10)，在 50 °C下进行加热处理，再次使用超滤膜将分散介质置换成乙醇而配制成固体成分浓度为20 重量％的二氧化硅微粒(H-9VS)的醇分散液。使用旋转蒸发器将分散介质置换为水，配制成 固体成分浓度为40.5重量％的表面处理二氧化硅微粒(H-9VS)的水分散液。此时碱金属的 浓度为200ppm。
[0237] 接着，在10.0g表面处理二氧化硅微粒(H-9VS)的水分散液中混合11.4g聚氨酯树 脂乳液(第一工业制药株式会社:SUPERFLEX 210,树脂浓度为35重量％，乳液直径:50nm，分 散介质：水）、5.3g异丙醇，配制成固体成分浓度为30.0重量％的用于形成硬质涂层膜的涂 布液(H-9P)。
[0238] 具有硬质涂层膜的拉伸膜基材(H-9F)的制造
[0239] 在140°C加温下对按照与实施例1相同的方式制得的基材用聚酯树脂膜(1)以使纵 轴方向上达到2.5倍的条件进行拉伸，接着，利用棒涂法(棒#60)涂布用于形成硬质涂层膜 的涂布液(H-9P)，在80 °C下干燥120秒后，照射600mJ/cm2的紫外线使其固化，之后在140 °C 加温下以使横轴方向上达到4.5倍的条件进行拉伸，然后，在140°C下进行120秒的干燥，制 得具有硬质涂层膜的拉伸膜基材(H-9F)。此时，基材的厚度为lOlwii，防反射膜的膜厚为5y m〇
[0240] 对所得到的具有硬质涂层膜的拉伸膜基材(H-9F)的总光线透射率、雾度值、密合 性、铅笔硬度、斑点、膜不均（海岛结构）、有无裂纹、膜表面的平坦性以及耐擦伤性进行测 定，结果不于表中。
[0241] [比较例1]
[0242] 用于形成硬质涂层膜的涂布液(RH-1P)的配制
[0243]将53g二季戊四醇六丙烯酸酯（共荣社化学株式会社（共栄社化学（株））制造： LIGHT ACRYLATE DPE-6A)、5.9g的1，6-己二醇二丙烯酸酯（日本化药株式会社（日本化薬 (株））制造:KAYARAD KS-HDDA)、0.4g单链端甲基丙烯酸有机硅油(信越化工株式会社(信越 化学工業(株））制造4-22-1740乂）、75.58丙二醇单甲醚、和3.5 8光聚合引发剂2,4,6-三甲 基苯甲酰二苯基氧化膦（BAS日本株式会社（tf 一工一工只"十(株））制造：Lucirin TPO)进行混合，配制成固体成分浓度为44重量％的基质形成成分溶液(1)。
[0244]然后，将30.0g固体成分浓度为44重量％的基质形成成分溶液（1)与30.0g按照与 实施例1相同的方式配制成的固体成分浓度为40重量％的二氧化硅微粒(H-1VS)的醇分散 液和22.6g异丙醇混合，配制成固体成分浓度为30重量％的用于形成透明被膜的涂布液 (RH-lP)〇
[0245] 具有硬质涂层膜的拉伸膜基材(RH-1F)的制造
[0246] 在140°C加温下对按照与实施例1相同的方式制得的基材用聚酯树脂膜(1)以使纵 轴方向上达到2.5倍的条件进行拉伸，接着，利用棒涂法(棒#60)涂布用于形成硬质涂层膜 的涂布液(RH-1P)，在80°C下干燥120秒后，照射600mJ/cm 2的紫外线使其固化，之后在140°C 加温下以使横轴方向上达到4.5倍的条件进行拉伸，然后，在140°C下进行120秒的干燥，制 得具有硬质涂层膜的拉伸膜基材(RH-1F)。此时，基材的厚度为lOOwii，防反射膜的膜厚为如 m〇
[0247] 对所得到的具有硬质涂层膜的拉伸膜基材(RH-1F)的总光线透射率、雾度值、密合 性、铅笔硬度、斑点、膜不均（海岛结构）、有无裂纹、膜表面的平坦性以及耐擦伤性进行测 定，结果不于表中。
[0248] [比较例2]
[0249] 用于形成硬质涂层膜的涂布液(RH-2P)的配制
[0250] 将3.8g聚氨酯树脂乳液(第一工业株式会社制造:SUPERFLEX 210，树脂浓度为35 重量％，粒径:50nm，分散介质：水）、17.4g异丙醇、1.8g甲基异丁基酮、和1.7g异丙二醇进行 混合，调制成乳状稀释液。
[0251 ] 对乳状稀释液进行观察，结果是目视下呈透明，另外，由于无法测得粒径，因此推 测树脂乳液已消失。
[0252] 然后，添加3.28g按照与实施例1相同的方式配制成的表面处理二氧化硅微粒(H-1VS)的水分散液，配制成固体成分浓度为9.5重量％的用于形成硬质涂层膜的涂布液(RH-2P)〇
[0253] 具有硬质涂层膜的拉伸膜基材(RH-2F)的制造
[0254] 在140°C加温下对按照与实施例1相同的方式制得的基材用聚酯树脂膜(1)以使纵 轴方向上达到2.5倍的条件进行拉伸后，利用棒涂法(棒#50)涂布用于形成硬质涂层膜的涂 布液(RH-2P)，然后，在140 °C下进行120秒的干燥后，在140 °C加温下以使横轴方向上达到 4.5倍的条件进行拉伸，制得具有硬质涂层膜的拉伸膜基材(RH-2F)。此时，基材的厚度为 lOOwn，硬质涂层膜的膜厚为5ym。
[0255] 对所得到的具有硬质涂层膜的拉伸膜基材(RH-2F)的总光线透射率、雾度值、密合 性、铅笔硬度、斑点、膜不均（海岛结构）、有无裂纹、膜表面的平坦性以及耐擦伤性进行测 定，结果不于表中。
[0256] [比较例3]
[0257] 具有硬质涂层膜的拉伸膜基材(RH-3F)的制造
[0258] 对按照与实施例1相同的方式制得的基材用聚酯树脂膜(1)进行双轴拉伸，制得厚 度为100M1的聚酯树脂膜基材。
[0259] 然后，利用棒涂法(棒#18)涂布按照与比较例1相同的方式配制成的固体成分浓度 为30.0重量％的用于形成硬质涂层膜的涂布液(RH-1P)，接着，在80°C下进行120秒的干燥， 之后照射600mJ/cm 2的紫外线使其固化，制得具有硬质涂层膜的拉伸膜基材(RH-3F)。此时， 基材的厚度为lOOwn，硬质涂层膜的膜厚为5wii。
[0260] 对所得到的具有硬质涂层膜的拉伸膜基材(RH-3F)的总光线透射率、雾度值、密合 性、铅笔硬度、斑点、膜不均（海岛结构）、有无裂纹、膜表面的平坦性以及耐擦伤性进行测 定，结果不于表中。
[0261][实施例10]
[0262] 用于形成易粘接层的涂布液(P-10P)的配制
[0263] 在33.2g实施例1中得到的二氧化硅微粒(H-1VS)的水分散液中混入1.4g二氧化硅 有机溶胶（日挥触媒化成株式会社制造:ELCOM V-8901，平均粒径为120nm，Si02浓度为20重 量％，分散介质：甲醇）、88.5g聚氨酯树脂乳液(第一工业株式会社制造:SUPERFLEX 210，树 脂浓度为35重量％，乳液直径:50nm，分散介质：水）、89. lg异丙醇、233.2g纯水，配制成固体 成分浓度为10.0重量％的用于形成易粘接层的涂布液(P-10P)。
[0264] 具有易粘接层的拉伸膜基材(P-10F)的制备
[0265] 对按照与实施例1相同的方式制得的基材用聚酯树脂膜(1)进行纵轴拉伸（140°C， 2.5倍拉伸）之后，利用棒涂法(棒#4)涂布用于形成易粘接层的涂布液0-1〇?)，在14〇°(：下 进行120秒的干燥之后，进行横轴拉伸（140°C，4.5倍拉伸），制得具有易粘接层的拉伸膜基 材(P-10F)。此时，膜基材的厚度为lOOwii，易粘接层的膜厚为O.lMi。
[0266] 对所得到的具有易粘接层的拉伸膜基材(P-10F)的总光线透射率、雾度值、密合 性、铅笔硬度、斑点、膜不均(海岛结构）、有无裂纹、膜表面的平坦性、耐擦伤性、抗结块性以 及粘接性进行测定，还对干涉条纹进行观察，结果示于表中。另外，利用以下方法对抗结块 性、粘接性和干涉条纹进行评价。
[0267] 抗结块性
[0268] 将具有易粘接层的拉伸膜基材(P-10F)的一部分切断成两块，在其中的一块具有 易粘接层的拉伸膜基材(基材+易粘接层)上重叠另一块具有易粘接层的拉伸膜基材(基材+ 易粘接层），按照每lcm 2上10kg的负荷施加负重，对放置24小时后的剥离的难易程度按照以 下基准进行评价。
[0269] 非常容易剥离:◎
[0270] 能够容易地剥离：〇
[0271] 稍微难以剥离:A
[0272] 无法剥离或难以剥离：X
[0273] 干涉条纹
[0274] 在使具有易粘接层的拉伸膜基材(P-10F)的背景为黑色的状态下，使荧光灯的光 线在透明被膜的表面反射，目视观察由于光的干涉而形成的彩虹图案，按照以下基准进行 评价。
[0275] 完全未见彩虹图案:◎
[0276] 略见彩虹图案：〇
[0277] 显见彩虹图案:A
[0278] 见鲜明彩虹图案：X [0279] 粘接性的评价
[0280]利用棒涂法(棒#12)在具有易粘接层的拉伸膜基材(P-10F)上涂布硬质涂层涂料 (日挥触媒化成株式会社制造:ELCOM HP-1004)，在80°C下干燥1分钟后，利用搭载有高压汞 灯（120W/cm)的紫外线照射装置（日本电池株式会社（日本電池）制造:UV照射装置CS30L21-3)对其进行600mJ/cm 2的照射使其固化，制得具有硬质涂层膜?易粘接性层的基材。此时的 硬质涂层膜的厚度为5wii，总膜厚为5.6wii。
[0281] 利用上述方法对所得到的硬质涂料膜的密合性进行测定，对粘接性进行评价。
[0282] [比较例4]
[0283]用于形成易粘接层的涂布液(RP-10P)的配制
[0284] 将38.0g聚氨酯树脂乳液(第一工业株式会社制造:SUPERFLEX 210，树脂浓度为35 重量％，粒径:50nm，分散介质：水）、170.4g异丙醇、18.0g甲基异丁基酮、和17.0g异丙二醇 进行混合，调制成乳状稀释液。
[0285] 对乳状稀释液进行观察，结果是目视下呈透明，另外，由于无法测得粒径，因此推 测树脂乳液已消失。
[0286] 然后，添加33.2g按照与实施例1相同的方式配制成的二氧化硅微粒(H-1VS)的水 分散液、和〇. 6g二氧化硅有机溶胶（日挥触媒化成株式会社制造:ELCOM V-8901，平均粒径 为12011!11，5102浓度为20重量％，分散介质：甲醇），配制成固体成分浓度为7.4重量％的用于 形成易粘接层的涂布液(RP-4P)。
[0287] 具有易粘接层的拉伸膜基材(RP-1)的制备
[0288] 对按照与实施例1相同的方式制得的基材用聚酯树脂膜(1)进行纵轴拉伸（140°C， 2.5倍拉伸）之后，利用棒涂法(棒#6)涂布用于形成易粘接层的涂布液(1^-4?)，在140°(：下 进行120秒的干燥之后，进行横轴拉伸（140°C，4.5倍拉伸），制得具有易粘接层的拉伸膜基 材(RP-4F)。此时，膜基材的厚度为lOOwn，易粘接层的膜厚为O.lMi。
[0289] 对所得到的具有易粘接层的拉伸膜基材(RP-4F)的总光线透射率、雾度值、密合 性、铅笔硬度、斑点、膜不均(海岛结构）、有无裂纹、膜表面的平坦性、耐擦伤性以及抗结块 性进行测定，结果示于表中。还通过按照与实施例9相同的方式形成硬质涂层膜来对粘接性 进行评价。
[0290][实施例11]
[0291] 用于形成防带电膜的涂布液(AS-11P)的配制
[0292] 使60g掺Sb氧化锡(AT0)微粒（日挥触媒化成株式会社制造:ELCOM TL-30HK，Sb2〇5 含量为16重量％，平均粒径为8nm)分散于140g浓度为4.3重量％的氢氧化钾水溶液中，一边 将该分散液保温在30°C，一边用砂磨机进行3小时的粉碎以配制成溶胶。
[0293]然后，利用离子交换树脂对该溶胶进行脱碱金属离子处理直至pH为3.0，然后加入 纯水而配制成固体成分浓度为20重量％的掺Sb氧化锡微粒分散液(AS-11V)。该AT0微粒分 散液的pH为3 ? 3。另外，平均粒径为8nm 〇
[0294] 然后，将lOOg浓度为20重量％的八?微粒分散液(AS-11V)调整至25°C，用3分钟来 添加l.Og硅烷偶联剂（甲基三甲氧基硅烷）（信越化学株式会社制造:KBM-13)，之后进行30 分钟的搅拌。然后用1分钟来添加l〇〇g乙醇，用30分钟升温至50°C，进行15小时的过热处理。 此时的固体成分浓度为10重量％。
[0295] 然后，利用超滤膜将分散介质从水、乙醇的混合溶剂置换成水，配制成固体成分浓 度为30重量％的经过表面处理的AT0微粒水分散液（43-11￥3)。此时碱金属的浓度为 lOOppm。
[0296] 接着，在5.0g经过表面处理的AT0微粒水分散液(AS-11VS)中混入38.6g聚氨酯树 脂乳液(第一工业制药株式会社:SUPERFLEX 210，树脂浓度为35重量％，粒径:50nm，分散介 质：水）、6.4g异丙醇，配制成固体成分浓度为30.0重量％的用于形成防带电膜的涂布液 (AS-11P)。
[0297] 具有防带电膜的拉伸膜基材(AS-11F)的制造
[0298]对按照与实施例1相同的方式制得的聚酯树脂膜（1)进行纵轴拉伸（140°C，2.5倍 拉伸)之后，利用棒涂法(棒#42)涂布用于形成防带电膜的涂布液(AS-11P)，在140°C下进行 120秒的干燥之后，进行横轴拉伸（140°C，4.5倍拉伸），制得具有防带电膜的拉伸膜基材 (AS-11F)。此时，膜基材的厚度为lOOwii，防带电膜的膜厚为3mi。
[0299] 对所得到的具有防带电膜的拉伸膜基材(AS-11F)的总光线透射率、雾度值、密合 性、铅笔硬度、斑点、膜不均(海岛结构）、有无裂纹、膜表面的平坦性、耐擦伤性以及表面电 阻值进行测定，结果示于表中。还利用表面电阻计（三菱化学株式会社（三菱化学（株））制 造:Hiresta)来测定表面电阻值。
[0300] [比较例5]
[0301] 用于形成防带电膜的涂布液(RAS-5P)的配制
[0302] 将38.0g聚氨酯树脂乳液(第一工业株式会社制造:SUPERFLEX 210，树脂浓度为35 重量％，粒径:50nm，分散介质：水）、170.4g异丙醇、18.0g甲基异丁基酮、和17.0g异丙二醇 进行混合，调制成乳状稀释液。
[0303] 对乳状稀释液进行观察，结果是目视下呈透明，另外，由于无法测得粒径，因此推 测树脂乳液已消失。
[0304]然后，添加4.9g按照与实施例10相同的方式配制成的固体成分浓度为30重量％的 经过表面处理的AT0微粒水分散液(AS-11VS)，配制成固体成分浓度为5.9重量％的用于形 成防带电膜的涂布液(RAS-5P)。
[0305] b有防带电膜的拉伸膜基材(RAS-5F)的制造
[0306]对按照与实施例1相同的方式制得的聚酯树脂膜（1)进行纵轴拉伸（140°C，2.5倍 拉伸)之后，利用棒涂法(棒#48)涂布用于形成防带电膜的涂布液(RAS-5P)，在140°C下进行 120秒的干燥之后，进行横轴拉伸（140°C，4.5倍拉伸），制得具有防带电膜的拉伸膜基材 (RAS-5F)。此时，膜基材的厚度为lOOwii，防带电膜的膜厚为3 ? lwii。
[0307]对所得到的具有防带电膜的拉伸膜基材(RAS-5F)的总光线透射率、雾度值、密合 性、铅笔硬度、斑点、膜不均(海岛结构）、有无裂纹、膜表面的平坦性、耐擦伤性以及表面电 阻进行测定，结果示于表中。
[0308][实施例12]
[0309] 用于形成隔热膜的涂布液(HI-12P)的配制
[0310]在98.0g中空二氧化硅有机溶胶（日挥触媒化成株式会社制造：只少一盯4110，固 体成分浓度:20.5%，平均粒径为60nm，分散介质：异丙醇）中混入24.0g聚氨酯树脂乳液(第 一工业株式会社制造:SUPERFLEX 210，树脂浓度为35重量％，粒径:50nm，分散介质：水），然 后利用旋转蒸发器除去溶剂，配制成固体成分浓度为50.0重量％的用于形成隔热膜的涂布 液(HI-12P)。此时碱金属的浓度为5ppm。
[0311] 具有隔热膜的拉伸膜基材(HI-12F)的制造
[0312]对按照与实施例1相同的方式制得的聚酯树脂膜⑴进行纵轴拉伸（140°C，2.5倍 拉伸)之后，利用喷雾法涂布45wii用于形成隔热膜的涂布液(HI-12P)，在140°C下进行120秒 的干燥之后，进行横轴拉伸（140°C，1.5倍拉伸），制得具有隔热膜的拉伸膜基材(HI-12F)。 此时，膜基材的厚度为300mi，隔热膜的膜厚为30mi。
[0313] 对所得到的具有隔热膜的拉伸膜基材(HI-12F)的总光线透射率、雾度值、密合性、 铅笔硬度、斑点、膜不均(海岛结构）、有无裂纹、膜表面的平坦性、耐擦伤性以及热导率进行 测定，结果示于表中。另外，通过以下方法来测定热导率。
[0314] 热导率的测定
[0315]使用热线探针式热导率测定装置（京都电子株式会社（京都電子）制造:QTM-500) 来对具有隔热膜的拉伸膜基材(HI-12F)的热导率进行测定。
[0316][比较例6]
[0317] 用于形成隔热膜的涂布液(RHI-6P)的配制
[0318] 将38.0g聚氨酯树脂乳液(第一工业株式会社制造:SUPERFLEX 210，树脂浓度为35 重量％，粒径:50nm，分散介质：水）、50.2g异丙醇、18.0g甲基异丁基酮、和17.0g异丙二醇进 行混合，调制成乳状稀释液。
[0319] 对乳状稀释液进行观察，结果是目视下呈透明，另外，由于无法测得粒径，因此推 测树脂乳液已消失。
[0320]然后，添加151.2g中空二氧化硅有机溶胶（日挥触媒化成株式会社制造：只少一口 74110,固体成分浓度:20.5%，平均粒径为60nm，分散介质：异丙醇），配制成用于形成隔热 膜的涂布液(RHI-6P)。
[0321] 具有隔热膜的拉伸膜基材(RHI-6F)的制造
[0322]对按照与实施例1相同的方式制得的聚酯树脂膜（1)进行纵轴拉伸（140°C，2.5倍 拉伸)之后，利用喷雾法涂布45wii用于形成隔热膜的涂布液(RHI-6P)，在140°C下进行120秒 的干燥之后，进行横轴拉伸（140°C，1.5倍拉伸），制得具有隔热膜的拉伸膜基材(RHI-6F)。 此时，膜基材的厚度为300mi，隔热膜的膜厚为30mi。
[0323]对所得到的具有隔热膜的拉伸膜基材(RHI-6F)的总光线透射率、雾度值、密合性、 铅笔硬度、斑点、膜不均(海岛结构）、有无裂纹、膜表面的平坦性、耐擦伤性以及热导率进行 测定，结果示于表中。
[0324][实施例13]
[0325] 二氧化硅中空微粒(AR-13VS)分散液的配制
[0326] 向100g二氧化硅?氧化铝溶胶（日挥触媒化成株式会社制造:USBB-120,平均粒径 为25nm，Si02 ? Al2〇3浓度为20重量％，固体成分中Al2〇3的含量为27重量％ )中加入3900g纯 水后加热至98°C，在保持该温度的同时，用6小时来添加1750g以Si02计的浓度为1.5重量％ 的硅酸钠水溶液和1750g以Al2〇3计的浓度为0.5重量％的铝酸钠水溶液，得到Si0 2 ? Al2〇3- 次粒子分散液。此时反应液的pH为11.8，固体成分浓度为0.7%。另外，平均粒径为40nm。然 后，用6小时来添加1530g以Si0 2计的浓度为1.5重量％的硅酸钠水溶液和500g以Al2〇3计的 浓度为0.5重量％的铝酸钠水溶液，得到9500g固体成分浓度为0.8重量％的二氧化硅?氧 化铝被覆复合氧化物粒子分散液。另外，平均粒径为60nm。
[0327] 然后，向500g利用超滤膜洗净的固体成分浓度为13重量％的二氧化硅?氧化铝被 覆复合氧化物粒子(1)的分散液中加入1125g纯水，再滴加浓盐酸(浓度为35.5重量％)使pH 为1.0，进行脱铝处理。然后，一边加入10L pH为3的盐酸水溶液和5L纯水，一边对利用超滤 膜对溶解了的铝盐进行分离?洗净，得到固体成分浓度为20重量％的二氧化硅粒子（1)的 水分散液。
[0328] 然后，将包含150g二氧化硅微粒（1)的水分散液、500g纯水、1750g乙醇和626g浓度 为28重量％的氨水的混合液加热至35°C后，添加80g硅酸乙酯（Si0 2浓度为28重量％)以形 成二氧化硅被覆层，一边加入5L纯水一边用超滤膜洗净，得到形成有固体成分浓度为20重 量％的二氧化硅被覆层的二氧化硅类中空微粒的水分散液。
[0329] 然后，向形成有二氧化硅被覆层的二氧化硅中空微粒分散液中添加氨水而将分散 液的pH调节至10.5,接着，在150°C下熟成1小时后，冷却至常温，使用400g阳离子交换树脂 (三菱化学株式会社(三菱化学(株））制造:DIAION SK1B)进行3小时的离子交换，接着，使用 200g阴离子交换树脂(三菱化学株式会社制造:DIAION SA20A)进行3小时的离子交换，再用 200g阳离子交换树脂(三菱化学株式会社制造:DIAION SK1B)在80°C下进行3小时的离子交 换后洗净，得到固体成分浓度为20重量％的二氧化硅中空微粒(13T)的水分散液。
[0330]然后，再次在150 °C下对二氧化硅中空微粒（13T)分散液进行11小时的水热处理 后，冷却至常温，使用400g阳离子交换树脂(三菱化学株式会社制造:DIAION SK1B)进行3小 时的离子交换，接着，使用200g阴离子交换树脂(三菱化学株式会社制造:DIAION SA20A)进 行3小时的离子交换，再用200g阳离子交换树脂(三菱化学株式会社制造:DIAION SK1B)在 80 °C下进行3小时的离子交换后洗净，得到固体成分浓度为20重量％的二氧化硅中空微粒 (AR-13V)的水分散液。
[0331]使用超滤膜将分散介质置换成乙醇，配制成固体成分浓度为20重量％的二氧化硅 中空微粒(AR-13V)的醇分散液。
[0332]向100g固体成分浓度为20重量％的二氧化硅中空微粒(AR-13V)的醇分散液中加 入2g甲基硅烷偶联剂（甲基三甲氧基硅烷，信越化学株式会社制造:KBM-13)，在50°C下进行 加热处理，配制成固体成分浓度为20重量％的表面处理二氧化硅类中空微粒(AR-13VS)的 醇分散液。使用旋转蒸发器将分散介质置换为水，配制成固体成分浓度为20重量％的表面 处理二氧化硅中空微粒(AR-13VS)的水分散液。此时碱金属的浓度为5ppm。
[0333] 用于形成防反射膜的涂布液(AR-13P)的配制
[0334]在10.0g固体成分浓度为20重量％的表面处理二氧化硅中空微粒(AR-13VS)的水 分散液中混入3.8g聚氨酯树脂乳液(第一工业制药株式会社：SUPERFLEX 210，树脂浓度为 35重量％，粒径:50nm，分散介质：水）、18g纯水、1.53g异丙醇，配制成固体成分浓度为10.0 重量％的用于形成防反射膜的涂布液(AR-13P)。
[0335] 具有防反射膜的拉伸膜基材(AR-1)的制造
[0336] 对按照与实施例1相同的方式制得的聚酯树脂膜（1)进行纵轴拉伸（140°C，2.5倍 拉伸)之后，利用棒涂法(棒M)涂布用于形成防反射膜的涂布液(AR-13P)，在140°C下进行 120秒的干燥之后，进行横轴拉伸（140°C，4.5倍拉伸），制得具有防反射膜的拉伸膜基材 (AR-13F)。此时，膜基材的厚度为lOOwn，防反射膜的膜厚为100M1。
[0337] 对所得到的具有防反射膜的拉伸膜基材(AR-13F)的总光线透射率、雾度值、反射 率、膜的折射率、密合性、铅笔硬度、斑点、膜不均(海岛结构）、有无裂纹、膜表面的平坦性以 及耐擦伤性进行测定，结果示于表中。
[0338] [比较例7]
[0339] 用于形成防反射膜的涂布液(RAR-7P)的配制
[0340] 将3.8g聚氨酯树脂乳液(第一工业株式会社制造:SUPERFLEX 210，树脂浓度为35 重量％，粒径:50nm，分散介质：水）、17.4g异丙醇、1.8g甲基异丁基酮、和1.7g异丙二醇进行 混合，调制成乳状稀释液。
[0341 ] 对乳状稀释液进行观察，结果是目视下呈透明，另外，由于无法测得粒径，因此推 测树脂乳液已消失。
[0342]然后，添加 10.0g按照与实施例13相同的方式配制成的经过表面处理的二氧化硅 中空微粒(AR-13VS)的水分散液，配制成用于形成防反射膜的涂布液(RAR-7P)。
[0343] 具有防反射膜的拉伸膜基材(RAR-7F)的制造
[0344] 在140°C加温下对按照与实施例1相同的方式制得的基材用聚酯树脂膜(1)以使纵 轴方向上达到2.5倍的条件进行拉伸后，利用棒涂法(棒#18)涂布用于形成防反射膜的涂布 液(1^1?-1?)，然后，在140°(：下进行120秒的干燥后，在140°(：加温下以使横轴方向上达到4.5 倍的条件进行拉伸，制得具有防反射膜的拉伸膜基材(RAR-1F)。此时，基材的厚度为lOOwn， 防反射膜的膜厚为1 〇〇nm 〇
[0345] 对所得到的具有防反射膜的拉伸膜基材(RAR-1F)的总光线透射率、雾度值、反射 率、膜的折射率、密合性、铅笔硬度、斑点、膜不均(海岛结构）、有无裂纹、膜表面的平坦性以 及耐擦伤性进行测定，结果示于表中。
[0346][实施例14](中空二氧化硅的聚合物分散剂的使用）
[0347]向100g与实施例13相同的固体成分浓度为20重量％的二氧化硅中空微粒(AR-13V)的醇分散液中加入2g聚丙烯酸分散剂（东亚合成株式会社制造:Aron SD-10)，在50°C 下进行加热处理，配制成固体成分浓度为20重量％的二氧化硅中空微粒(AR-2)的醇分散 液。使用旋转蒸发器将分散介质置换为水，配制成固体成分浓度为20重量％的表面处理二 氧化硅中空微粒(AR-14VS)的水分散液。此时，pH为9.0。此时碱金属的浓度为5ppm。
[0348] 用于形成防反射膜的涂布液(AR-14P)的配制
[0349]在10.0g固体成分浓度为20重量％的表面处理二氧化硅中空微粒(AR-14VS)的水 分散液中混入3.8g聚氨酯树脂乳液(第一工业制药株式会社：SUPERFLEX 210，树脂浓度为 35重量％，粒径:50nm，分散介质：水）、18g纯水、1.53g异丙醇，配制成固体成分浓度为10.0 重量％的用于形成防反射膜的涂布液(AR-14P)。
[0350] 具有防反射膜的拉伸膜基材(AR-14F)的制造
[0351]对按照与实施例1相同的方式制得的聚酯树脂膜（1)进行纵轴拉伸（140°C，2.5倍 拉伸)之后，利用棒涂法(棒M)涂布用于形成防反射膜的涂布液(AR-14P)，在140°C下进行 120秒的干燥之后，进行横轴拉伸（140°C，4.5倍拉伸），制得具有防反射膜的拉伸膜基材 (AR-14F)。此时，膜基材的厚度为lOOwn，防反射膜的膜厚为100nm。
[0352]对所得到的具有防反射膜的拉伸膜基材(AR-14F)的总光线透射率、雾度值、反射 率、膜的折射率、密合性、铅笔硬度、斑点、膜不均(海岛结构）、有无裂纹、膜表面的平坦性以 及耐擦伤性进行测定，结果示于表中。
[0353][比较例8]聚合物分散剂过多
[0354] 用于形成防反射膜的涂布液(RAR-8P)的配制
[0355]除了在实施例14中添加80g聚丙烯酸分散剂以外，按照与实施例14相同的方式配 制成表面处理二氧化硅中空微粒(RAR-8VS)的水分散液，添加10 . Og该二氧化硅中空微粒 (RAR-8VS)的水分散液，配制成用于形成防反射膜的涂布液(RAR-8P)。
[0356] 具有防反射膜的拉伸膜基材(RAR-8F)的制造
[0357]在140°C加温下对按照与实施例1相同的方式制得的基材用聚酯树脂膜(1)以使纵 轴方向上达到2.5倍的条件进行拉伸后，利用棒涂法(棒#18)涂布用于形成防反射膜的涂布 液(RAR-8P)，然后，在140°C下进行120秒的干燥后，在140°C加温下以使横轴方向上达到4.5 倍的条件进行拉伸，制得具有防反射膜的拉伸膜基材(RAR-8F)。此时，基材的厚度为lOOwii， 防反射膜的膜厚为1 〇〇nm 〇
[0358]对所得到的具有防反射膜的拉伸膜基材(RAR-8F)的总光线透射率、雾度值、反射 率、膜的折射率、密合性、铅笔硬度、斑点、膜不均(海岛结构）、有无裂纹、膜表面的平坦性以 及耐擦伤性进行测定，结果示于表中。
[0359][比较例9]聚合物分散剂过少 _〇] 用于形成防反射膜的涂布液(RAR-9P)的配制
[0361]除了在实施例14中添加O.lg聚丙烯酸分散剂以外，按照与实施例14相同的方式配 制成表面处理二氧化硅中空微粒(RAR-9VS)的水分散液，添加10 . Og该二氧化硅中空微粒 (RAR-9VS)的水分散液，配制成用于形成防反射膜的涂布液(RAR-9P)。
[0362] 具有防反射膜的拉伸膜基材(RAR-9F)的制造
[0363]在140°C加温下对按照与实施例1相同的方式制得的基材用聚酯树脂膜(1)以使纵 轴方向上达到2.5倍的条件进行拉伸后，利用棒涂法(棒#18)涂布用于形成防反射膜的涂布 液(RAR-9P)，然后，在140°C下进行120秒的干燥后，在140°C加温下以使横轴方向上达到4.5 倍的条件进行拉伸，制得具有防反射膜的拉伸膜基材(RAR-9F)。此时，基材的厚度为lOOwii， 防反射膜的膜厚为1 〇〇nm 〇
[0364]对所得到的具有防反射膜的拉伸膜基材(RAR-9F)的总光线透射率、雾度值、反射 率、膜的折射率、密合性、铅笔硬度、斑点、膜不均(海岛结构）、有无裂纹、膜表面的平坦性以 及耐擦伤性进行测定，结果示于表中。
[0365][实施例15]
[0366] 二氧化钛微粒(T-l 5VS)分散液的配制
[0367] 向100.0 g二氧化钛有机溶胶（日挥触媒化成株式会社制造：才7°卜P <夕1130Z(S_ 25 ?A8)，固体成分浓度:30%，平均粒径为20nm，分散介质：甲醇）中添加3g甲基硅烷偶联剂 (甲基三甲氧基硅烷）（信越化学株式会社制造:KBM-13 )，在50 °C下进行加热处理，再利用超 滤膜将分散介质置换成乙醇，配制成固体成分浓度为20重量％的表面处理二氧化钛微粒的 醇分散液。在使用旋转蒸发器将分散介质置换为水之后，用离子交换树脂进行脱碱金属离 子处理直至pH为3.0,然后加入纯水而配制成固体成分浓度为20重量％的表面处理二氧化 钛微粒(T-l 5VS)的水分散液。此时碱金属的浓度为50ppm。 _8]用于形成易粘接层的涂布液(T-15P)的配制
[0369]在1.4g二氧化硅有机溶胶（日挥触媒化成株式会社制造:ELCOM V-8901，平均粒径 为120nm，Si02浓度为20重量％，分散介质：甲醇）中混入33.2g表面处理二氧化钛微粒(T-15VS)、88.5g聚氨酯树脂乳液(第一工业株式会社制造：SUPERFLEX 210,树脂浓度为35重 量％，乳液直径:50nm，分散介质：水）、10 . lg异丙醇，配制成固体成分浓度为10重量％的用 于形成易粘接层的涂布液(T-15P)。
[0370] 具有易粘接层的拉伸膜基材(T-15F)的制备
[0371]对按照与实施例1相同的方式制得的基材用聚酯树脂膜(1)进行纵轴拉伸（140°C， 2.5倍拉伸）之后，利用棒涂法(棒#6)涂布用于形成易粘接层的涂布液(1'-15?)，在140°(：下 进行120秒的干燥之后，进行横轴拉伸（140°C，4.5倍拉伸），制得具有易粘接层的拉伸膜基 材(T-15F)。此时，膜基材的厚度为lOOwii，易粘接层的膜厚为0.6mi。
[0372]对所得到的具有易粘接层的拉伸膜基材(T-15F)的总光线透射率、雾度值、密合 性、铅笔硬度、斑点、膜不均(海岛结构）、有无裂纹、膜表面的平坦性、耐擦伤性、抗结块性以 及粘接性进行测定，还对干涉条纹进行观察，结果示于表中。
[0373][比较例 10]
[0374]用于形成易粘接层的涂布液(RT-10P)的配制
[0375] 将38.0g聚氨酯树脂乳液(第一工业株式会社制造:SUPERFLEX 210，树脂浓度为35 重量％，粒径:50nm，分散介质：水）、170.4g异丙醇、18.0g甲基异丁基酮、和17.0g异丙二醇 进行混合，调制成乳状稀释液。
[0376] 对乳状稀释液进行观察，结果是目视下呈透明，另外，由于无法测得粒径，因此推 测树脂乳液已消失。
[0377] 然后，添加0.6g二氧化硅有机溶胶（日挥触媒化成株式会社制造:ELCOM V-8901， 平均粒径为120nm，Si02浓度为20重量％，分散介质：甲醇）、14.3g表面处理二氧化钛微粒 (T-15VS)，配制成固体成分浓度为7.4重量％的用于形成易粘接层的涂布液(1^-10?)。 [0378] 具有易粘接层的拉伸膜基材(RT-10F)的制造
[0379]对按照与实施例1相同的方式制得的基材用聚酯树脂膜（1)进行纵轴拉伸（140°C， 2.5倍拉伸)之后，利用棒涂法(棒#40)涂布用于形成易粘接层的涂布液(1?1'-10?)，在1401€ 下进行120秒的干燥之后，进行横轴拉伸（140°C，4.5倍拉伸），制得具有易粘接层的拉伸膜 基材(RT-10F)。此时，膜基材的厚度为lOOwn，易粘接层的膜厚为0.6mi。
[0380]对所得到的具有易粘接层的拉伸膜基材(RT-10F)的总光线透射率、雾度值、密合 性、铅笔硬度、斑点、膜不均(海岛结构）、有无裂纹、膜表面的平坦性、耐擦伤性、抗结块性以 及粘接性进行测定，还对干涉条纹进行观察，结果示于表中。
[0381] [比较例11]
[0382] 二氧化钛微粒(RT-11VS)分散液的配制
[0383] 除了在实施例15中不添加离子交换树脂以外，按照与实施例15相同的方法配制成 表面处理二氧化钛微粒(RT-11 VS)的水分散液。此时碱金属的浓度为1500ppm。
[0384]用于形成易粘接层的涂布液(RT-11P)的配制
[0385]添加10.0g表面处理二氧化钛微粒(RT-11VS)的水分散液，配制成用于形成防反射 膜的涂布液(RT-11P)。
[0386] 具有易粘接层的拉伸膜基材(RT-11F)的制造
[0387] 在140°C加温下对按照与实施例1相同的方式制得的基材用聚酯树脂膜(1)以使纵 轴方向上达到2.5倍的条件进行拉伸后，利用棒涂法(棒#18)涂布用于形成防反射膜的涂布 液(訂_11?)，然后，在140°(：下进行120秒的干燥后，在140°(：加温下以使横轴方向上达到4.5 倍的条件进行拉伸，制得具有防反射膜的拉伸膜基材(RA-11F)。此时，基材的厚度为lOOwn， 防反射膜的膜厚为1 〇〇nm 〇
[0388] 对所得到的具有防反射膜的拉伸膜基材(RT-11F)的总光线透射率、雾度值、反射 率、膜的折射率、密合性、铅笔硬度、斑点、膜不均(海岛结构）、有无裂纹、膜表面的平坦性以 及耐擦伤性进行测定，结果示于表中。
[0389] 在上述实施例或比较例中，以式（1)表示的有机硅化合物可使用甲基三甲氧基硅 烷，其它还可例举四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四丙氧基硅烷、四丁氧基硅烷、苯基三甲氧 基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、异丁基三甲氧基硅烷、丁基三甲氧基硅烷、 丁基三乙氧基硅烷、异丁基三乙氧基硅烷、己基三乙氧基硅烷、辛基三乙氧基硅烷、癸基三 乙氧基硅烷、己基三甲氧基硅烷、辛基三甲氧基硅烷、癸基三甲氧基硅烷、乙烯基三甲氧基 硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三⑴甲氧基乙氧基)硅烷、3，3，3_三氟丙基三甲氧基硅 烷、甲基-3，3，3-三氟丙基二甲氧基硅烷、(3，4-环氧基环己基）乙基三甲氧基硅烷、二甲 基^甲氧基硅烷、^甲基^乙氧基硅烷、^苯基^甲氧基硅烷、^苯基^乙氧基硅烷、y _环 氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、y -环氧丙氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、y -环氧丙氧基丙基 三乙氧基硅烷、y -环氧丙氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、y -⑴-环氧丙氧基乙氧基）丙基三 甲氧基硅烷、y-(甲基）丙烯酰氧基甲基三甲氧基硅烷、y-(甲基）丙烯酰氧基甲基三乙氧 基硅烷、y-(甲基）丙烯酰氧基乙基三甲氧基硅烷、y-(甲基）丙烯酰氧基乙基三乙氧基硅 烷、y-(甲基）丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、y-(甲基）丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、 脲基异丙基丙基三乙氧基硅烷、全氟辛基乙基三甲氧基硅烷、全氟辛基乙基三乙氧基硅 烷、全氟辛基乙基三异丙氧基硅烷、三氟丙基三甲氧基硅烷、N-P(氨基乙基）y-氨基丙基甲 基二甲氧基硅烷、N-P(氨基乙基）y -氨基丙基三甲氧基硅烷、N-苯基-y -氨基丙基三甲氧 基硅烷、y -巯基丙基三甲氧基硅烷、三甲基硅烷醇、甲基三氯硅烷、y -异氰酸酯丙基三乙 氧基硅烷、y-脲基丙基三乙氧基硅烷等。
[0390] [表 1-1]

【主权项】
1. 一种用于形成透明被膜的涂布液，该涂布液是无机氧化物微粒和树脂乳液分散于含 有水和有机溶剂中的至少一种的分散介质中的涂布液， 所述涂布液的全部固体成分浓度为0.03~70重量％，所述无机氧化物微粒的浓度(Cp) 以固体成分计在0.0009~56重量％的范围内，所述树脂乳液的浓度(Cr)以固体成分计在 0.006~68重量％的范围内， 所述无机氧化物微粒中所含有的碱金属的固体成分浓度总量以氧化物(Me20，Me = Li、 Na、K)计在 lOOOppm以下。2. 如权利要求1所述的用于形成透明被膜的涂布液，其特征在于，所述无机氧化物微粒 经过采用有机硅化合物和聚合物分散剂中的至少一种进行的表面处理， 所述有机娃化合物相对于所述无机氧化物微粒以固体成分计、作为Rn-SiX(4-n)/2在1~ 1〇〇重量％的范围内存在， 所述聚合物分散剂相对于所述无机氧化物微粒以固体成分计在1~300重量％的范围 内存在。3. 如权利要求1或2所述的用于形成透明被膜的涂布液，其特征在于，所述无机氧化物 微粒是单分散的无机氧化物微粒(A)、和一次粒子3~30个连接成链状的链状无机氧化物微 粒(B)中的至少一种， 所述无机氧化物微粒(A)的平均粒径(Dpa )在3 < Dpa< 1 OOnm的范围内， 所述无机氧化物微粒(B)的平均一次粒径(Dpb)在3<DpB<50nm的范围内。4. 如权利要求3所述的用于形成透明被膜的涂布液，其特征在于，还含有平均粒径(DPC) 为100<Dpc$500nm的无机氧化物微粒(C)，所述无机氧化物微粒(C)的浓度(Cpc)以固体成 分计在0.000003~5重量％的范围内。5. 如权利要求1~4中任一项所述的用于形成透明被膜的涂布液，其特征在于，所述无 机氧化物微粒选自1102、2抑 2、3丨02、313205、21102、3110 2、111203、掺锑氧化锡以1'0)、掺锡氧化铟 (IT0)、掺F氧化锡(FT0)、掺磷氧化锡(PT0)、掺铝氧化锌(AZ0)中的至少一种、或它们的复合 氧化物或混合物。6. 如权利要求1~5中任一项所述的用于形成透明被膜的涂布液，其特征在于，所述树 脂乳液的树脂选自环氧树脂、聚酯树脂、聚碳酸酯树脂、聚酰胺树脂、聚苯醚树脂、氯乙烯树 月旨、氟树脂、乙酸乙烯酯树脂、有机硅树脂、聚氨酯树脂、三聚氰胺树脂、丁缩醛树脂、酚醛树 月旨、不饱和聚酯树脂、丙烯酸树脂、或这些树脂的两种以上的共聚物或改性体中的至少一 种。7. 如权利要求1~6中任一项所述的用于形成透明被膜的涂布液，其特征在于，所述树 脂乳液的平均直径在10~500nm的范围内。8. 如权利要求1~7中任一项所述的用于形成透明被膜的涂布液，其特征在于，所述无 机氧化物微粒的浓度(&)与树脂乳液的浓度(C R)的比值(Cp/Cr)在0.03~4的范围内。9. 一种具有透明被膜的基材的制造方法，该制造方法依次进行以下工序(a)~(d): (a) 在基材上涂布权利要求1~8中任一项所述的用于形成透明被膜的涂布液的工序； (b) 对具有涂膜的基材进行双轴(纵轴和横轴)拉伸的工序； (c) 去除(干燥)所述涂膜中所含有的分散介质的工序； (d) 使所述涂膜固化的工序。10. -种具有透明被膜的基材的制造方法，该制造方法依次进行以下工序(a'）~(d): (a'）在经过纵轴拉伸的基材上涂布权利要求1~8中任一项所述的用于形成透明被膜 的涂布液的工序； (b'）对具有涂膜的基材进行横轴拉伸的工序； (c) 去除(干燥)所述涂膜中所含有的分散介质的工序； (d) 使所述涂膜固化的工序。11. 一种具有透明被膜的基材的制造方法，该制造方法依次进行以下工序(a"）~(d): (a"）一边对基材进行纵轴拉伸，一边在基材上涂布权利要求1~8中任一项所述的用于 形成透明被膜的涂布液的工序； (b"）对具有涂膜的基材进行横轴拉伸的工序； (c) 去除(干燥)所述涂膜中所含有的分散介质的工序； (d) 使所述涂膜固化的工序。12. -种具有透明被膜的基材的制造方法，该制造方法依次进行以下工序(a"'）~(d): (a" '）一边对基材进行双轴(纵轴和横轴)拉伸，一边在基材上涂布权利要求1~8中任 一项所述的用于形成透明被膜的涂布液的工序； (c) 去除(干燥)所述涂膜中所含有的分散介质的工序； (d) 使所述涂膜固化的工序。
【文档编号】C09D201/00GK106029798SQ201580008556
【公开日】2016年10月12日
【申请日】2015年2月12日
【发明人】二神涉, 松田政幸, 村口良
【申请人】日挥触媒化成株式会社