一种低氧环境光学膜涂布uv干燥装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及光学膜涂布UV干燥领域，尤其涉及一种低氧环境光学膜涂布UV干燥装置。
【背景技术】
[0002]普通的用于固化干燥光学膜的设备，在油墨光起始剂在有氧条件下常常会产生有害物，从而不仅不环保，而且也大大影响了产量。而且UV灯的功率不可调节，从而也不节會K。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型的目的是提供一种低氧环境光学膜涂布UV干燥装置，可实现环保、增产和节能。
[0004]为实现上述目的，本实用新型提供一种UV干燥装置，包括一水平支架、滑动设置于水平支架上的立式龙门架、安装在立式龙门支架上的安装架、安装在安装架一侧的UV灯箱、用于调节UV灯箱内的UV灯的功率的电子式安定器、位于水平支架外侧的两个竖向支架、以及连接在两个竖向支架之间的光学膜安装滚筒，所述安装架的另一相对侧与光学膜安装滚筒之间构成光学膜干燥空间，所述光学膜干燥空间内设置有保护气体出气口。
[0005]作为本实用新型的进一步改进，所述安装架呈弧形，所述安装架与光学膜安装滚筒平行，所述UV灯箱有三座，所述的三座UV灯箱内的UV灯均分别连接至一所述电子式安定器，所述的三座UV灯箱按照上下方向安装在安装架上，所述保护气体出气口设置在安装架上，且对应分布在每座UV灯箱的上下两侧，所述弧形安装架的两端也设有所述保护气体出气口。
[0006]作为本实用新型的更进一步改进，所述的三座UV灯箱分别连接有变频抽风散热
目.Ο
[0007]作为本实用新型的更进一步改进，所述的三座UV灯箱内分别设有过温检测装置和用于检测UV灯强度的UV传感器。
[0008]作为本实用新型的更进一步改进，所述保护气体出气口处设置有电磁阀。
[0009]作为本实用新型的更进一步改进，所述水平支架上设有滑轨，所述立式龙门架滑动安装在滑轨上。
[0010]作为本实用新型的更进一步改进，所述水平支架上安装有驱动气缸，所述驱动气缸的推杆连接至立式龙门架。
[0011]与现有技术相比，本实用新型的低氧环境光学膜涂布UV干燥装置的有益效果如下:
[0012](1)采用保护气体出气口可实现低氧环境下干燥，可以减少油墨光起始剂在有氧条件下产生有害物，使光起始剂分子充分与树脂发生反应，加快其固化速度，实现环保和增产，而且在同条件下进行UV固化干燥，充入保护气体可提高产能约1倍。
[0013](2)采用电子式安定器和变频抽风散热，可达到最低的输出条件下进行最佳干燥固化，可有效提高印刷产量、提升印刷品质，无变形，同功率下输出更多UV能量，且30%低功率下待机，实现节能，而且设备可节能约30%。
[0014](3)采用三座UV灯箱，可以提高固化干燥效率，每座UV灯箱的上下两侧均设置保护气体出气口以及在弧形安装架的两端也设置保护气体出气口，从而可进一步减少油墨光起始剂在有氧条件下产生有害物，使光起始剂分子充分与树脂发生反应，加快其固化速度，实现环保和增产。
[0015](4)采用温检测装置，可以保护UV灯，延长其使用寿命；采用UV传感器，可以判断UV灯管有无衰减，同时还有监测UV灯箱3内含氧量，判断含氧量是否过高的作用；采用驱动气缸推动立式龙门架移动以及采用电磁阀控制保护气体出气口，可实现自动化控制，节约劳动成本。
[0016]通过以下的描述并结合附图，本实用新型将变得更加清晰，这些附图用于解释本实用新型的实施例。
【附图说明】
[0017]图1为低氧环境光学膜涂布UV干燥装置的示意图。
[0018]图2为低氧环境光学膜涂布UV干燥装置的另一角度的示意图。
【具体实施方式】
[0019]现在参考附图描述本实用新型的实施例，附图中类似的元件标号代表类似的元件。
[0020]请参考图1-2，所述的UV干燥装置包括一水平支架1、滑动设置于水平支架1上的立式龙门架2、安装在立式龙门支架2上的弧形安装架8、安装在弧形安装架8 一侧的UV灯箱3、用于调节UV灯箱3内的UV灯的功率的电子式安定器(图中未示出)、位于水平支架1外侧的两个竖向支架4、以及连接在两个竖向支架4之间的光学膜安装滚筒5，所述弧形安装架8与光学膜安装滚筒5平行，且弧形安装架8的另一相对侧与光学膜安装滚筒5之间构成呈弧形的光学膜干燥空间，所述光学膜干燥空间内设置有保护气体出气口 9，可以向光学膜干燥空间内充入保护气体，以使得光学膜干燥空间内的空气排除。所述保护气体出气口 9处设置有电磁阀(图中未示出)，从而可以实现在一定时间内自动控制开启和关闭，方便使用。
[0021]所述水平支架1上的两侧设有滑轨11，所述立式龙门架2的底部滑动安装在滑轨11上。所述水平支架1上安装有驱动气缸6，所述驱动气缸6的推杆连接至立式龙门架2，从而可实现自动使立式龙门架2沿滑轨11相对水平支架1移动，从而方便穿光学膜和换光学膜。所述驱动气缸6的推杆的前后侧设有定位检测装置(图中未示出)，从而可以检测驱动气缸6的推杆是否前进或后退到位。
[0022]所述UV灯箱3有三座，所述的三座UV灯箱3内的UV灯均分别连接至一所述电子式安定器(图中未示出)，从而可以实现无级调节功率30% -100%的输出，实现节能的目的。所述的三座UV灯箱3按照上下方向安装在弧形安装架8上，从而可以对光学膜安装滚筒5上的光学膜进行充分的固化干燥。所述保护气体出气口 9设置在弧形安装架8上，且分布在每座UV灯箱3的上下两侧，从而可以将光学膜干燥空间内的空气大部分排除掉，上方的UV灯箱3上侧的保护气体出气口 9和下方的UV灯箱3下侧的保护气体出气口 9还可以屏蔽光学膜干燥空间外围的空气进入光学膜干燥空间内。所述弧形安装架8的两端也设有所述保护气体出气口 9，从而也可以屏蔽光学膜干燥空间外围的空气进入光学膜干燥空间内，以使工作物在低氧条件下进行紫外线照射加快干燥固化。所述保护气体出气口 9处设置有电磁阀(图中未示出)，从而可以实现在一定时间内自动控制开启和关闭，方便使用。所述的三座UV灯箱3分别连接有变频抽风散热装置(图中未示出)，从而可以有效提高印刷产量，提升印刷品质无变形。所述的三座UV灯箱3内分别设有过温检测装置(图中未示出)和用于检测UV灯强度的UV传感器(图中未示出)，过温检测装置可以保护UV灯，延长其使用寿命，UV传感器可以判断UV灯管有无衰减，同时还有监测UV灯箱3内含氧量，判断含氧量是否过高的作用。所述的定位检测装置、温检测装置、UV传感器、变频抽风散热装置、驱动气缸6、电磁阀、电子式安定器均连接至PLC控制中心，从而可以实现自动控制，而且，PLC控制中心也可以监控UV灯工作电压和电流是否正常。
[0023]所述的低氧环境光学膜涂布UV干燥方法是往一 UV干燥装置内的光学膜干燥空间内充入保护气体，使该光学膜干燥空间内的含氧量〈400PPM，实现低氧环境干燥的目的，可以减少油墨光起始剂在有氧条件下产生有害物，使光起始剂分子充分与树脂发生反应，加快其固化速度，实现环保和增产。充入的保护气体可以是惰性气体，如氦气、氖气、氩气、氪气、氙气，惰性气体中的氡气有放射性，故一般不用，而由于惰性气体价格较贵，因此一般用氮气作为保护气体，价格便宜，而且效果好。
[0024]以上结合最佳实施例对本实用新型进行了描述，但本实用新型并不局限于以上揭示的实施例，而应当涵盖各种根据本实用新型的本质进行的修改、等效组合。
【主权项】
1.一种低氧环境光学膜涂布UV干燥装置，其特征在于，包括:一水平支架、滑动设置于水平支架上的立式龙门架、安装在立式龙门支架上的安装架、安装在安装架一侧的UV灯箱、用于调节UV灯箱内的UV灯的功率的电子式安定器、位于水平支架外侧的两个竖向支架、以及连接在两个竖向支架之间的光学膜安装滚筒，所述安装架的另一相对侧与光学膜安装滚筒之间构成光学膜干燥空间，所述光学膜干燥空间内设置有保护气体出气口。2.如权利要求1所述的低氧环境光学膜涂布UV干燥装置，其特征在于:所述安装架呈弧形，所述安装架与光学膜安装滚筒平行，所述UV灯箱有三座，所述的三座UV灯箱内的UV灯均分别连接至一所述电子式安定器，所述的三座UV灯箱按照上下方向安装在安装架上，所述保护气体出气口设置在安装架上，且对应分布在每座UV灯箱的上下两侧，所述弧形安装架的两端也设有所述保护气体出气口。3.如权利要求2所述的低氧环境光学膜涂布UV干燥装置，其特征在于:所述的三座UV灯箱分别连接有变频抽风散热装置。4.如权利要求2所述的低氧环境光学膜涂布UV干燥装置，其特征在于:所述的三座UV灯箱内分别设有过温检测装置和用于检测UV灯强度的UV传感器。5.如权利要求2所述的低氧环境光学膜涂布UV干燥装置，其特征在于:所述保护气体出气口处设置有电磁阀。6.如权利要求2至5任一项所述的低氧环境光学膜涂布UV干燥装置，其特征在于:所述水平支架上设有滑轨，所述立式龙门架滑动安装在滑轨上。7.如权利要求6所述的低氧环境光学膜涂布UV干燥装置，其特征在于:所述水平支架上安装有驱动气缸，所述驱动气缸的推杆连接至立式龙门架。
【专利摘要】本实用新型公开了一种低氧环境光学膜涂布UV干燥装置，包括一水平支架、滑动设置于水平支架上的立式龙门架、安装在立式龙门支架上的安装架、安装在安装架一侧的UV灯箱、用于调节UV灯箱内的UV灯的功率的电子式安定器、位于水平支架外侧的两个竖向支架、以及连接在两个竖向支架之间的光学膜安装滚筒，所述安装架的另一相对侧与光学膜安装滚筒之间构成光学膜干燥空间，所述光学膜干燥空间内设置有保护气体出气口。本实用新型的低氧环境光学膜涂布UV干燥装置可实现环保、增产和节能。
【IPC分类】B05D3/06, B05D3/04
【公开号】CN205042718
【申请号】CN201520103523
【发明人】张善勇, 李玉明, 韩熊, 万金平
【申请人】志圣科技（广州）有限公司
【公开日】2016年2月24日
【申请日】2015年2月11日