专利名称：光学膜涂布设备及紫外光照射装置的制作方法
技术领域：
本发明是有关于一种光学膜涂布设备及紫外光照射装置，特别是关于一种利用遮板来调节紫外光光源的照射面积的紫外光照射装置。
背景技术：
图1为传统的光学膜涂布设备，包括膜材1、传送装置2、涂布头3、烘箱4、紫外光照射装置5、以及冷却水盘6，其中传送装置2包括放卷机2a与收卷机2b。膜材1经由放卷机2a放卷后，经涂布头3涂布所需的光学功能性涂液，由烘箱4将光学功能性涂液中的有机溶剂蒸发，再经由紫外光照射装置5使得涂液硬化，最后利用收卷机2b将膜材1收卷，完成了光学膜的制作。
由于光学膜涂布为滚动条式制作工艺(roll-to-roll)，膜材1连续通过烘箱4及紫外光照射装置5，所以膜材1在烘箱4及紫外光照射装置5中的两者速度相同。然而，若欲改变涂液的溶剂蒸发时间及紫外线照射时间，则无法同时调节膜材1在烘箱4滞留时间及紫外线照射时间，因此，一般传统的方法为改变放卷机2a的速度以及调整烘箱4的运作节拍，但此方法会造成生产速度与产能的下降，而另一种方法为调整紫外光照射装置5中紫外光光源与膜材1的距离或使用变频器改变紫外光光源功率，虽可调整紫外光的照射量，但也改变了紫外光照射强度，对于制作工艺产生新变异。
此外，由于紫外线照射装置5在产生紫外线光源的同时，也产生大量的红外线，因此，膜材1在经过紫外线照射装置5时表面温度会升高，传统的解决方式则是利用设置在膜材1下方的一冷却水盘6以降低膜材1的温度。然而，当膜材1在经过紫外线照射装置5及冷却水盘6时，两面温度有差异，且在差异大时或是湿度高时，膜材1下方易产生结雾现象。
发明内容
有鉴于此，本发明的目的是提供一种光学膜涂布设备及紫外光照射装置，可利用遮板来调节紫外光光源的照射剂量。
根据本发明，提供一种光学膜涂布设备，包括一传送装置、一涂布头、以及一紫外光照射装置，其中传送装置传送一膜材，涂布头涂布一光学涂液在膜材上，而紫外光照射装置具有一遮板总成，当已涂布光学涂液的膜材被传送通过紫外光照射装置时，遮板总成可调节紫外光照射装置照射至已涂布的膜材的照射剂量。
在一优选实施例中，紫外光照射装置还包括一紫外光光源以及一滑轨，遮板总成可在滑轨上滑动，以调节紫外光光源的照射剂量。
在另一优选实施例中，遮板总成还包括多个遮板，以可滑动的方式设置在滑轨上。
在另一优选实施例中，紫外光照射装置还包括一冷却单元，设置在遮板总成之中，以冷却膜材上方温度。
在另一优选实施例中，紫外光照射装置还包括一冷却单元，设置在膜材与遮板总成之间，以冷却膜材上方温度。
在另一优选实施例中，冷却单元还包括多个冷却水管，以调节膜材上方温度。
在另一优选实施例中，紫外光照射装置还包括一冷却单元，设置在膜材的下方，以冷却膜材下方温度。
在另一优选实施例中，冷却单元为一冷却水盘。
在另一优选实施例中，遮板总成以可于膜材与紫外光光源之间来回运动的方式设置在紫外光照射装置中。
在另一优选实施例中，遮板总成还包括多个第一挡板及多个第二挡板，其中第一挡板固定于遮板总成上，而第二挡板以可调整面积的方式设置在本体上，且第一档板与第二挡板可调节紫外光光源的照射剂量。
根据本发明，提供一种紫外光照射装置，用以照射一膜材，包括一本体、一紫外光光源、以及一遮板总成，紫外光光源设置在本体，遮板总成设置在紫外光光源的下方，其中遮板总成可调节紫外光光源照射至膜材的照射剂量。
在一优选实施例中，遮板总成还包括一滑轨以及多个遮板，遮板设置在滑轨上，且在滑轨上滑动以调节紫外光光源的照射剂量。
在另一优选实施例中，紫外光照射装置还包括一冷却单元，设置在遮板总成之中，以冷却膜材上方温度。
在另一优选实施例中，紫外光照射装置还包括一冷却单元，设置在膜材与遮板总成之间，以冷却膜材上方温度。
在另一优选实施例中，冷却单元还包括多个冷却水管，以调节膜材上方温度。
在另一优选实施例中，紫外光照射装置还包括一冷却单元，设置在膜材的下方，以冷却膜材下方温度。
在另一优选实施例中，冷却单元为一冷却水盘。
在另一优选实施例中，遮板总成以可于膜材与紫外光光源之间来回运动的方式设置在紫外光照射装置中。
在另一优选实施例中，遮板总成还包括多个第一挡板及多个第二挡板，其中第一挡板固定于遮板总成上，而第二挡板以可调整面积的方式设置在遮板总成上，且第一档板与第二挡板可调节紫外光光源的照射剂量。
为使本发明的上述及其它目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举一具体的优选实施例，并配合附图做详细说明。
图1为传统光学膜涂布设备的示意图；图2为本发明光学膜涂布设备的示意图；图3为图2中的紫外光照射装置的第一实施例的示意图；图4为图2中的紫外光照射装置的第一实施例的立体图；以及图5为图2中的紫外光照射装置的第二实施例的示意图。
主要组件符号说明1～膜材2～传送装置2a～放卷机2b～收卷机3～涂布头4～烘箱5～紫外光照射装置6～冷却水盘
10～光学膜涂布设备20～传送装置21～膜材30～涂布头31～光学涂液40～烘箱50～紫外光照射装置51～遮板总成51a～遮板52～紫外光光源53～滑轨54～第一冷却单元54a～第一冷却水管55～第二冷却单元60～遮板总成61～第一挡板62～第二挡板70～冷却水管70a～第一冷却水管70b～第二冷却水管具体实施方式
第一实施例参考图2及图3，本发明的光学膜涂布设备10，包括一传送装置20、一涂布头30、一烘箱40、以及一紫外光照射装置50，传送装置20传送一膜材21，涂布头30涂布一光学涂液31在膜材21上，烘箱40可将光学涂液31中的有机溶剂蒸发去除，紫外光照射装置50具有一遮板总成51，当已涂布光学涂液31的膜材21被传送通过紫外光照射装置50时，遮板总成51可调节紫外光照射装置50照射至的膜材21上的照射面积。
参考图4，紫外光照射装置50除了包括遮板总成51外，还包括一紫外光光源52、一滑轨53、一第一冷却单元54、以及一第二冷却单元55。
紫外光光源52提供已涂布光学涂液31的膜材21照射的光源，可使光学涂液硬化，遮板总成51还包括两个遮板51a，遮板51a以可滑动的方式设置在滑轨53上，可相互移动以调整紫外光光源52的照射面积，因此膜材21的照射时间也可随之而改变。另外，第一冷却单元54则包括多个第一冷却水管54a，设置在膜材21的上方，利用流通过于第一冷却水管54a的冷却循环水，可冷却由于紫外光光源52照射时产生的热量，而第二冷却单元55设置在膜材21的下方，可为一冷却水盘，用以冷却膜材21下方的温度，第一冷却单元54与第二冷却单元55同时调节膜材21上下方的温度，以防止膜材21因为上下温度不均导致扭曲变形，且能避免在膜材21下方产生结雾现象。
当本发明的光学涂布设备10运作时，先将膜材21设置在传送装置20上，接着由涂布头30涂上光学涂液31，然后膜材21通过烘箱40，除去涂布于其上的光学涂液31的有机溶剂，然后再利用紫外光照射装置50硬化膜材21上的光学涂液31，在通过紫外光照射装置50时，可利用遮板装置51调节紫外光照射于膜材21上的照射面积，此时第一冷却单元54与第二冷却单元55也发挥作用，调节了膜材21的温度，改善了传统膜材21上下温度不均扭曲的问题，也确保膜材21的良品率。
第二实施例参考图5，本发明第二实施例的光学涂布设备的结构大致相同，不同之处在于第二实施例中紫外光照射装置50上的一遮板总成60与一冷却水管70，因此只针对这些部分详细描述，其余与第一实施例相同的组件将不再赘述。
遮板总成60由多个第一挡板61多个第二挡板62组成，并来回运动于膜材21及紫外光光源52，且运动方向为横向于膜材21移动的方向。第一挡板61固定式，而第二挡板62以可调整面积大小的方式设置在遮板总成60上，以调节紫外光光源52的照射面积。
此外，冷却单元70包括一第一冷却水管70a与一第二冷却水管70b，其中具有一冷却循环水，并依序通过第一冷却水管70a及第一挡板61接着流向第二冷却水管70b中排至一水槽(未图示)，并可再循环流动应用。因此冷却单元70可以在遮板总成60来回运动调节紫外光光源52时，同时降低膜材21上方的温度，以使得膜材21上下方温度较为平均，防止膜材21的变形。与第一实施例不同的是，其遮板总成60为可来回运动，较易调整聚焦型紫外光光源的照射量。
应注意的是，遮板总成60的位置并不限定如图5中于紫外光光源52与膜材21之间来回运动，亦可旋转于紫外光光源52或是膜材21旋转，以达到调节紫外光光源52照射面积的目的。
虽然本发明已以优选实施例公开于上，然其并非用以限定本发明，任何业内人士，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作些许的更动与润饰，因此本发明的保护范围当视权利要求书所界定者为准。
权利要求
1.一种光学膜涂布设备，包括一传送装置，传送一膜材；一涂布头，涂布一光学涂液在该膜材上；以及一紫外光照射装置，具有一遮板总成，其中当该已涂布光学涂液的膜材被传送通过该紫外光照射装置时，该遮板总成可调节该紫外光照射装置照射至该已涂布的膜材的照射剂量。
2.根据权利要求1所述的光学膜涂布设备，其特征在于，该紫外光照射装置还包括一紫外光光源；以及一滑轨，遮板总成可在滑轨上滑动，其中该遮板总成可以滑动的方式调节该紫外光光源的照射面积。
3.根据权利要求2所述的光学膜涂布设备，其特征在于，该遮板总成还包括多个遮板，以可滑动的方式设置在该滑轨上。
4.根据权利要求1所述的光学膜涂布设备，其特征在于，该紫外光照射装置还包括一冷却单元，设置在该遮板总成之中，以冷却该膜材上方温度。
5.根据权利要求1所述的光学膜涂布设备，其特征在于，该紫外光照射装置还包括一冷却单元，设置在该膜材与该遮板总成之间，以冷却该膜材上方温度。
6.根据权利要求4所述的光学膜涂布设备，其特征在于，该冷却单元还包括多个冷却水管，以调节该膜材上方温度。
7.根据权利要求1所述的光学膜涂布设备，其特征在于，该紫外光照射装置还包括一冷却单元，设置在该膜材的下方，以冷却该膜材下方温度。
8.根据权利要求7所述的光学膜涂布设备，其特征在于，该冷却单元为一冷却水盘。
9.根据权利要求2所述的光学膜涂布设备，其特征在于，该遮板总成以可于该膜材与该紫外光光源之间来回运动的方式设置在该紫外光照射装置中。
10.根据权利要求9所述的光学膜涂布设备，其特征在于，该遮板总成还包括多个第一挡板，固定于该遮板总成上；以及多个第二挡板，以可调整面积的方式设置在该遮板总成上，其中所述第一档板与所述第二挡板可调节该紫外光光源的照射剂量。
11.一紫外光照射装置，用以照射一膜材，包括一本体；一紫外光光源，设置在该本体；以及一遮板总成，设置在该紫外光光源的下方，其中该遮板总成可调节该紫外光光源照射至该膜材的剂量。
12.根据权利要求11所述的紫外光照射装置，其特征在于，该遮板总成还包括一滑轨；以及多个遮板，设置在该滑轨上，其中所述遮板在该滑轨上滑动以调节该紫外光光源的照射面积。
13.根据权利要求11所述的紫外光照射装置，其特征在于，该紫外光照射装置还包括一冷却单元，设置在遮板总成之中，以冷却该膜材上方温度。
14.根据权利要求11所述的紫外光照射装置，其特征在于，还包括一冷却单元，设置在该膜材与该遮板总成之间，以冷却该膜材上方温度。
15.根据权利要求14所述的紫外光照射装置，其特征在于，该冷却单元还包括多个冷却水管，以调节该膜材上方温度。
16.根据权利要求11所述的紫外光照射装置，其特征在于，紫外光照射装置还包括一冷却单元，设置在该膜材的下方，以冷却该膜材下方温度。
17.根据权利要求16所述的紫外光照射装置，其特征在于，该冷却单元为一冷却水盘。
18.根据权利要求11所述的紫外光照射装置，其特征在于，该遮板总成以可于该膜材与该紫外光光源之间来回运动的方式设置在该紫外光照射装置中。
19.根据权利要求18所述的紫外光照射装置，其特征在于，该遮板总成还包括多个第一挡板，固定于该遮板总成上；以及多个第二挡板，以可调整面积的方式设置在该遮板总成上，其中所述第一档板与所述第二挡板可调节该紫外光光源的照射剂量。
全文摘要
一种光学膜涂布设备，包括一传送装置、一涂布头、以及一紫外光照射装置。传送装置传送一膜材，并经过涂布头涂布一光学涂液在膜材上，而紫外光照射装置具有一遮板总成，当已涂布光学涂液的膜材被传送通过紫外光照射装置时，遮板总成可调节紫外光照射装置照射至已涂布的膜材的照射剂量。
文档编号B05D3/06GK101058089SQ200610075589
公开日2007年10月24日 申请日期2006年4月19日 优先权日2006年4月19日
发明者刘博滔, 赖宽国, 陈庆松, 杨昆炫 申请人:达信科技股份有限公司