涂布装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种涂布装置，将涂布液涂布于半导体晶片(wafer)、液晶显示装置用玻璃(glass)基板、等离子体显示面板(Plasma Display Panel，PDP)用玻璃基板、有机电致发光(Electroluminescence，EL)显示面板用玻璃基板、太阳电池用基板、磁盘或光盘用玻璃或陶瓷(ceramic)基板等各种被处理基板。
【背景技术】
[0002]例如，在有机EL显示装置的制造时，作为将包含空穴(hole)传输材料的流动性材料或包含有机EL材料的流动性材料等涂布液涂布于基板的涂布装置，已知有如下装置:使连续地喷出涂布液的多个喷嘴(nozzle)，相对于基板而在主扫描方向及与主扫描方向正交的副扫描方向上相对移动，借此，将涂布液呈条纹状地涂布于基板上的涂布区域(例如，专利文献I)。
[0003][现有技术文献]
[0004][专利文献]
[0005][专利文献I]日本专利特开2011-72974号公报
【发明内容】
[0006][发明所要解决的问题]
[0007]对于此种涂布装置，要求涂布于基板上的涂布液的膜厚的均匀性。为了使涂布液的膜厚均匀，需要使从喷嘴喷出的涂布液的流量均匀。
[0008]然而，在通过涂布液供给管对移动的喷嘴供给涂布液的构成中产生如下问题:在涂布液供给管内流动的涂布液被赋予伴随喷嘴移动的惯性力，因所述惯性力的影响而导致从喷嘴喷出的涂布液的流量紊乱。
[0009]本发明是为了解决所述问题而完成的，目的在于提供一种涂布装置，在利用涂布液供给管对移动的喷嘴输送涂布液的构成中，可减少从喷嘴喷出的涂布液的流量紊乱。
[0010][解决问题的技术手段]
[0011]本发明的第一实施方式的涂布装置包括:基板保持部，保持基板；涂布单元(unit)，保持至少一个喷嘴，所述喷嘴对保持于所述基板保持部的所述基板的主表面喷出涂布液；移位机构，使所述涂布单元沿着主扫描方向移位，所述主扫描方向与保持于所述基板保持部的所述基板的所述主表面平行；配管，为至少一个，将从涂布液供给源供给的涂布液输送至所述至少一个喷嘴；以及压力变动吸收部，为至少一个，吸收在所述配管的内部流动的涂布液的压力变动；所述配管具有上游侧的第一管路区间与下游侧的第二管路区间，所述第二管路区间相对地固定配置于所述涂布单元，所述第二管路区间具有所述第二管路区间中的上游侧的上游侧固定管路区间、与所述第二管路区间中的下游侧的下游侧固定管路区间，所述下游侧固定管路区间沿着与所述主扫描方向正交的面内而配设，所述压力变动吸收部设于所述下游侧固定管路区间。
[0012]本发明的第二实施方式的涂布装置是根据第一实施方式的涂布装置，其中所述第二管路区间具有分支部，所述分支部使被捆扎的多个所述配管分支，所述第二管路区间中的比所述分支部更靠上游侧为所述上游侧固定管路区间，所述第二管路区间中的比所述分支部更靠下游侧为所述下游侧固定管路区间，在所述第一管路区间及所述上游侧固定管路区间中，多个所述配管被捆扎。
[0013]本发明的第三实施方式的涂布装置包括:基板保持部，保持基板；涂布单元，保持至少一个喷嘴，所述喷嘴对保持于所述基板保持部的所述基板的主表面喷出涂布液；移位机构，使所述涂布单元沿着主扫描方向移位，所述主扫描方向与保持于所述基板保持部的所述基板的所述主表面平行；配管，为至少一个，将从涂布液供给源供给的涂布液输送至所述至少一个喷嘴；以及，压力变动吸收部，为至少一个，吸收在所述配管的内部流动的涂布液的压力变动；所述配管具有上游侧的第一管路区间与下游侧的第二管路区间，所述第二管路区间相对地固定配置于所述涂布单元，所述第二管路区间配设于与所述主扫描方向正交的面内，所述压力变动吸收部设于所述第二管路区间。
[0014]本发明的第四实施方式的涂布装置是根据第三实施方式的涂布装置，其中还具有配管支撑构件，所述配管支撑构件与利用所述移位机构使所述涂布单元沿着所述主扫描方向的移位同步地，沿着所述主扫描方向移位，所述配管支撑构件配设于所述第一管路区间的中途，在所述第一管路区间中的比所述配管支撑构件更靠上游侧，多个所述配管被捆扎，在所述第一管路区间中的比所述配管支撑构件更靠下游侧，多个所述配管分支。
[0015]本发明的第五实施方式的涂布装置是根据第一至第四中任一实施方式的涂布装置，其中所述压力变动吸收部具有可挠性的第一配管，所述第一配管的管径大于所述第一管路区间的配管的管径，所述配管的一部分包含所述第一配管。
[0016]本发明的第六实施方式的涂布装置是根据第一至第四中任一实施方式的涂布装置，其中所述压力变动吸收部具有可挠性的第二配管，所述第二配管的管径小于所述第一管路区间的配管的管径，所述配管的一部分包含所述第二配管。
[0017]本发明的第七实施方式的涂布装置是根据第一至第四中任一实施方式的涂布装置，其中所述压力变动吸收部具有T字配管，所述T字配管包括干路与支路，所述干路沿着所述配管中的所述涂布液的流路方向，所述支路是从所述干路向与所述主扫描方向正交的方向分支而成，所述配管的一部分包含所述T字配管。
[0018]本发明的第八实施方式的涂布装置是根据第一至第四中任一实施方式的涂布装置，其中所述涂布单元具有:可动元件，利用所述移位机构而沿着所述主扫描方向移位；以及喷嘴保持部，与所述可动元件结合而保持所述喷嘴；所述配管是将η根(η为2以上的整数)配管利用η-l个配管连接部串联连接而构成，从所述可动元件观察时，在所述喷嘴保持部侧至多仅配设有一个配管连接部。
[0019]本发明的第九实施方式的涂布装置是根据第八实施方式的涂布装置，其中所述喷嘴保持部是将所述喷嘴可动地保持的部分，所述涂布装置还包括喷嘴移动机构，所述喷嘴移动机构对所述喷嘴保持部中的所述喷嘴的位置进行调节。
[0020][发明的效果]
[0021]本发明的第一实施方式的涂布装置包括将从涂布液供给源供给的涂布液向至少一个喷嘴输送的至少一个配管。所述配管具有上游侧的第一管路区间与下游侧的第二管路区间，所述第二管路区间相对地固定配置于涂布单元。因此，即便涂布单元移动，配管的第二管路区间也不会因该移动而挠曲，从而可防止因挠曲而导致在配管内部流动的涂布液产生压力变动的情况。
[0022]第二管路区间具有上游侧固定管路区间与下游侧固定管路区间，所述上游侧固定管路区间位于所述第二管路区间中的上游侧，所述下游侧固定管路区间在所述第二管路区间中的下游侧沿着与涂布单元的扫描方向正交的面内而配设。因此，可有效防止如下情况:因通过涂布单元的扫描产生的惯性力(在扫描方向上作用的力)，而导致在配管的下游侧固定管路区间的内部流动的涂布液产生流路方向的压力变动。
[0023]而且，在配管的下游侧固定管路区间配设有压力变动吸收部，所述压力变动吸收部吸收在所述配管的内部流动的涂布液的压力变动。因此，能够将压力变动被充分吸收的涂布液供给至喷嘴。
[0024]本发明的第三实施方式的涂布装置包括将从涂布液供给源供给的涂布液向至少一个喷嘴输送的至少一个配管。所述配管具有上游侧的第一管路区间与下游侧的第二管路区间，所述第二管路区间相对地固定配置于涂布单元。因此，即便涂布单元移动，配管的第二管路区间也不会因该移动而挠曲，从而可防止因挠曲而导致在配管内部流动的涂布液产生压力变动的情况。
[0025]第二管路区间沿着与涂布单元的扫描方向正交的面内而配设。因此，可有效防止如下情况:因通过涂布单元的扫描产生的惯性力(在扫描方向上作用的力)，而导致在配管的第二管路区间的内部流动的涂布液产生流路方向的压力变动。
[0026]而且，在配管的第二管路区间配设有压力变动吸收部，所述压力变动吸收部吸收在所述配管的内部流动的涂布液的压力变动。因此，能够将压力变动被充分吸收的涂布液供给至喷嘴。
[0027]本发明的第八实施方式的涂布装置中，在将η根(η为2以上的整数)配管利用η-l个配管连接部串联连接而构成配管的情况下，从可动元件观察时，在喷嘴保持部侧至多仅配设有I个配管连接部。因此，可充分减少配设于喷嘴保持部侧的构件构成，从而当对喷嘴进行各种处理时，变得易于进行所述处理。
【附图说明】
[0028]图1是表示实施方式的涂布装置I的概略平面图。
[0029]图2是表示实施方式的涂布装置I的概略前视图。
[0030]图3是图2中的A-A剖面图。
[0031]图4是表示涂布单元50的构成的立体图。
[0032]图5是表示关于I根配管83的构件构成的示意图。
[0033]图6是表示变形例的涂布单元50Α的构成的立体图。
[0034]图7是表示关于变形例的I根配管83的构件构成的示意图。
[0035]图8是表示变形例的T字配管835的概略侧视