基准器、测量和涂布装置、测量精度保证和膜制造方法与流程

技术特征：

技术总结
本发明提供一种基准器、测量和涂布装置、测量精度保证和膜制造方法。基准器构成为，具备具有槽部的非透光性的第一块体、以及层叠于所述第一块体的透光性的第二块体，由分光干涉式测量装置经由所述第二块体向所述第一块体的所述槽部照射光，由来自所述第二块体的靠所述第一块体侧的面的反射光和来自所述槽部的底面的反射光形成与所述槽部的深度对应的规定的干涉光。

技术研发人员：道平创;近藤信
受保护的技术使用者：日东电工株式会社
技术研发日：2017.09.08
技术公布日：2018.05.25