技术编号:14647742
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及空调装置。背景技术例如在通过光刻形成半导体的电路图案时,下述装置等被使用:旋转涂布机等光致抗蚀剂的涂敷装置;使光致抗蚀剂曝光的曝光装置;使曝光后的光致抗蚀剂显影的显影装置;以及将通过显影而形成的抗蚀剂图案作为掩模来蚀刻基板的蚀刻装置。设置有这样的各种装置的洁净室或各种装置的内部空间的温度被要求严密地控制为所希望的温度,该温度控制一般通过空调装置来进行。作为能够应对洁净室等的温度控制的空调装置,一直以来提出有各种装置。例如在专利文献1中,公开了本申请的申请人的空调装置。在先技术文献专利文...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。