技术编号:14703090
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种三氯化硼纯化装置,属于三氯化硼纯化技术领域。背景技术高纯三氯化硼作为干式蚀刻气体广泛用于LED行业、电子芯片行业,通常需要三氯化硼中的有害杂质小于1ppm。在传统三氯化硼BCl3的纯化过程中,其中Cl2、HCl、COCl2、SiCl4会溶解在BCl3的液相中,形成共沸混合物,采用精馏的传统工艺无法脱除至1ppm。由于介质都是酸性物质,而常规的分子筛都为偏碱性物质,常规分子筛也会对BCl3产生很大的吸附作用,所以常规分子筛很难脱除HCl、Cl2、SiCl4等成分。为了使三氯化硼原料中...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。