技术编号:1473761
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。金属相容的光致抗蚀剂和/或牺牲性抗反射涂层去除组合物 发明领域本发明涉及用于微电子器件制备过程的液体去除组合物和方法, 尤其是用于光致抗蚀剂去除和硅酸盐剥离,例如从其上沉积有牺牲性 抗反射硅酸盐材料的微电子器件上液体去除所述材料,尤其是当所述 牺牲性抗反射硅酸盐材料与期望不受所述液体去除组合物影响的永久 硅酸盐材料和互连金属共存时。相关技术的描述目前,有四种用于光刻工业的辐照显影波长436 nm、 365 nm、 248 nm和193nm,近期的努力集中于...
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