技术编号：1485390
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及。更详细地讲，涉及适用于平板显示器、 光掩模(photomask)、硬盘或半导体的基板的清洗剂和清洗方法。背景技术电子材料的清洗技术中，由于制造时基板上残留的微量有机物污垢、碎玻璃 (glass cullet)以及砂粒等杂质对电子材料的性能和产量有大的影响，因此其处理变得非 常重要。特别是成为清洗对象的杂质变得更加微粒(颗粒)化，比以往任何时候都更容易 附着、残留在表面上，因此高度清洗技术的确立已成为当务之急。因此，为了防止这些微粒 造成的污染，...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。