技术编号:14926719
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及超声波清洗技术领域,具体为一种硅片超声波清洗装置。背景技术在硅片的加工过程中,每一道工序都涉及到清洗,由于很多半导体分立器件是在硅研磨片表面直接制造或衬底扩散而成,因此,硅研磨片清洗质量的好坏将直接影响下一道工序,甚至影响器件的成品率和可靠性。目前,常规的半导体硅研磨片的清洗方法有两种:手洗和超声波清洗。手洗硅板时,需要浪费大量的人力,洗涤用的清洁液有毒性,对工人的身体也会造成影响,而且手洗的硅板容易造成残渣的残留,和边角内的残渣不宜清理出来,使用超声波清理时虽然不需要工人直接接触...
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