技术编号：15077610
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于半导体设备技术领域，特别是涉及一种宏观划痕长度测量装置。背景技术目检(Visual Inspection，VI)在半导体领域具有重要的意义，使用目检设备可以检测出半导体工艺过程中产生的很多种缺陷。其中一种目检可以检测到的重要缺陷为宏观划痕(macro scratch)，宏观划痕对芯片的性能会产生严重的不良影响。目检设备被广泛应用于确定宏观划痕的总长度以满足客户的需求。现有的目检设备如图1及图2所示，其中图1为所述目检设备的局部立体图，图2为所述目检设备中的夹持有待测晶圆的旋转夹具的俯视...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。