技术编号:1521284
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及半导体基板生产,具体涉及一种半导体基板清洗装置。 背景技术一般半导体基板(如TFT阵列基板)在制作完成后,须分别经过清洗与风干处理, 然后方可进行下一步的工序处理。目前,对半导体基板进行清洗的机器,具有清洗与风干的功能,但是在实际生产过程中,设计人发现这些机器在对半导体基板清洗时,其每个喷头能够清洗的面积较小且清洗不够均勻,从而导致清洗效果不好,严重影响了清洗机的工作效率。实用新型内容本实用新型所要解决的技术问题是提供一种半导体基板清洗装置,...
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