使用具有晶片图像数据的设计数据改进半导体晶片检验器的缺陷敏感度的制作方法技术资料下载

技术编号:15286063

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本申请主张于2016年1月15日申请且指定为第62/279,483号美国申请案的临时专利申请的优先权,所述申请的揭示内容特此以引用的方式并入。技术领域本发明涉及缺陷检测。背景技术晶片检验系统有助于半导体制造商通过检测在制程期间发生的缺陷而增加且维持集成电路(IC)芯片良率。检验系统的一个目的是监测制程是否符合规范。如果制程在既定标准的范围外,那么检验系统指示问题及/或问题的来源,接着半导体制造商可解决所述问题。半导体制造产业的发展对良率管理,及特定来说,计量及检验系统的要求越来越高。关键尺寸日益...
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