技术编号:15347685
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及光伏和半导体生产设备技术领域,尤其涉及一种分散进液的进液结构及具有该结构的刻蚀装置。背景技术目前的光伏和半导体生产工艺及设备的一些特殊的工艺处理过程中,需要先将待加工的产品放入设备的反应槽内以后,再向反应槽内通入液体。例如光伏和半导体生产工艺流程中的刻蚀工艺过程。现有的光伏和半导体生产设备中,往往采用大口径大流量的开放式管件作为进液口直接进液,而该进液口的结构设置容易在进液时,因液体流量过大、以及液体流量不均,而导致对提前放入的产品产生冲击,对产品的质量造成影响,甚至会造成产品的破...
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