本实用新型涉及光伏和半导体生产设备技术领域，尤其涉及一种分散进液的进液结构及具有该结构的刻蚀装置。
背景技术：
目前的光伏和半导体生产工艺及设备的一些特殊的工艺处理过程中，需要先将待加工的产品放入设备的反应槽内以后，再向反应槽内通入液体。例如光伏和半导体生产工艺流程中的刻蚀工艺过程。
现有的光伏和半导体生产设备中，往往采用大口径大流量的开放式管件作为进液口直接进液，而该进液口的结构设置容易在进液时，因液体流量过大、以及液体流量不均，而导致对提前放入的产品产生冲击，对产品的质量造成影响，甚至会造成产品的破碎导致产品浪费。
技术实现要素：
(一)要解决的技术问题
本实用新型要解决的技术问题是提供了一种分散进液的进液结构及具有该结构的刻蚀装置，既能将进入反应槽的液体打散分流，又能保证进液的均匀性，有效保护待加工的产品。
(二)技术方案
为了解决上述技术问题，本实用新型提供了一种分散进液的进液结构，包括反应槽、固定架、进液口和分液板，所述固定架固定在反应槽内，且用于固定待处理的产品，所述反应槽上设有进液口，所述分液板设置在所述进液口与固定架之间，由所述进液口进入反应槽内的液体、通过所述分液板均匀分流。
优选的，所述进液口和固定架之间设有挡板，所述分液板设置在所述进液口和挡板之间。
优选的，所述挡板的面积大于或等于所述固定架的截面面积。
优选的，所述分液板上贯通设有一个或多个分液孔；
所述分液孔为一个时，所述分液孔内沿轴向分布有多个分流道；
所述分液孔为多个时，多个所述分液孔成蜂窝状均匀分布在所述分液板上。
优选的，所述分液孔的截面形状为圆形、椭圆形和多边形中的一种或几种的组合。
优选的，所述进液口设置在反应槽的底部、顶部或侧壁上。
优选的，所述分液板与进液口之间设有缓冲腔。
优选的，所述分液板与进液口之间固定有支撑板，通过所述支撑板将所述分液板与进液口之间围成所述缓冲腔。
优选的，所述固定架的外围设有多个相互连接的所述分液板，每个所述分液板的端部之间通过所述挡板连接，以将所述反应槽的内壁与分液板之间分隔成所述缓冲腔，所述进液口与缓冲腔连通。
本实用新型还提供了一种刻蚀装置，包括如上所述的进液结构。
(三)有益效果
本实用新型的上述技术方案具有以下有益效果：本实用新型的分散进液的进液结构包括反应槽、固定架、进液口和分液板，固定架固定在反应槽内，且用于固定待处理的产品，反应槽上设有进液口，分液板设置在进液口与固定架之间，由进液口进入反应槽内的液体、通过分液板均匀分流，从而既能将进入反应槽的液体均匀的打散分流，又能保证进液的均匀性，有效保护待加工的产品，防止其由于在后进入反应槽内的液体流速过快、流量过大、或流速不均，而使产品受到直接冲击，从而避免产品的质量受到影响，同时分液板还能减少产品的破碎率，有效减少工艺过程中产品的浪费；通过设置，还能在不影响液体进液总流量的基础上，保证进入反应槽内的液体打散后的充分融合，有利于后续的工艺反应效果；设有本结构的刻蚀装置能够在保证刻蚀效果的前提下，减少进入反应槽的液体对产品的直接冲击，提高反应效率，且保证了反应溶液的进液流量不变，从而确保最终的刻蚀反应效果。
附图说明
图1为本实用新型实施例一的分散进液的进液结构的结构示意图；
图2为本实用新型实施例二的分散进液的进液结构的结构示意图；
图3为本实用新型实施例二的分散进液的进液结构的俯视图；
图4为本实用新型实施例三的分散进液的进液结构的结构示意图；
图5为本实用新型实施例四的分散进液的进液结构的结构示意图。
其中，1、固定架；2、产品；3、挡板；4、进液口；5、分液板；6、反应槽；7、缓冲腔。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本实用新型的实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本实用新型，但不能用来限制本实用新型的范围。
在本实用新型的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。术语“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”、“前端”、“后端”、“头部”、“尾部”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
实施例一
如图1所示，本实施例所述的分散进液的进液结构包括反应槽6、固定架1、进液口4和分液板5，固定架1固定在反应槽6内，且用于固定待处理的产品2，反应槽6上设有进液口4，分液板5设置在进液口4与固定架1之间，由进液口4进入反应槽6内的液体、通过分液板5均匀分流，分液板的设置既能将进入反应槽6的液体均匀的打散分流，又能保证进液的均匀性，有效保护待加工的产品2，防止其由于在后进入反应槽6内的液体流速过快、流量过大、或流速不均，而使产品2受到直接冲击，从而避免产品2的质量受到影响，同时还能减少产品2的破碎率，有效减少工艺过程中产品2的浪费；此外，还能使得进入反应槽6内的液体进液总流量保持不变，并在此基础上，保证进入反应槽6内的液体打散后的充分融合，有利于后续的工艺反应效果。
为了有效避免液体直接冲击产品2，优选在进液口4和固定架1之间设有挡板3，分液板5设置在进液口4和挡板3之间，分液板5和挡板3相结合，共同对流经进液口4的液体施加缓冲效果，且挡板3还对通过分液板5分流后的液体起到了良好的导流效果；优选的，挡板3的面积大于或等于固定架1的截面面积，以保证挡板3将直接冲向固定架1的液体与产品2之间相隔离，并有足够的面积覆盖固定架1的任一侧面，从而将液体导向反应槽6内的其他位置。
本实施例中，分液板5上贯通设有一个或多个分液孔。其中，当分液孔为一个时，分液孔内沿轴向分布有多个分流道，相邻两个分流道之间通过隔板隔开，这样保证通入该分液孔的液体由分流道分割打散；当分液孔为多个时，多个分液孔成蜂窝状均匀分布在分液板5上，以保证液体被打散的充分且均匀，并在经过分液板5后能够快速的充分融合。具体的，优选分液孔的截面形状为圆形、椭圆形和多边形中的一种或几种的组合，为了便于加工，优选分液孔为圆形。
为了便于在打散液体前对液体进行导流，以便于保证液体与分液板5的全面接触，从而避免分液板5上的某一点受力过大而降低可靠性，优选在分液板5与进液口4之间设有缓冲腔7。
本实施例一所述的进液结构中，进液口4设置在反应槽6的底部，分液板5与进液口4之间固定有支撑板，通过支撑板将分液板5与进液口4之间围成缓冲腔7。换言之，支撑板围绕在进液口4的外缘，且支撑板的底端固定在反应槽6的内壁上，顶端固定连接在分液板5的外围，从而将分液板5与进液口4之间围成缓冲腔7，液体通过进液口4进入反应槽6后，先在缓冲腔7内累积，以使液体与分液板5的表面充分接触，使得分液板5的受力较为均匀。
实施例二
本实施例二所述的分散进液的进液结构与实施例一所述的结构基本相同，相同之处不再赘述，不同之处在于：如图2和图3所示，本实施例三所述的进液结构中，固定架1的侧面的外围设有多个相互连接的分液板5，每个分液板5的一端通过另一个分液板5或者一个挡板3连接，另一端与另一个挡板3连接，以将固定架1包围在内部，并将反应槽6的内壁与分液板5之间分隔成缓冲腔7，由于进液口4设置在反应槽6的底部，因此在朝向进液口4的一端设置挡板3，以避免液体直接对产品2进行冲击，进液口4与缓冲腔7连通，则通过进液口4进入反应槽6内的液体在打向挡板3后，重新落回缓冲腔7内，并随着液体流入而升高液面，与此同时，液体通过分液板5分流，从而实现与产品2之间缓慢接触，有效保护产品2安全。
实施例三
本实施例三所述的分散进液的进液结构与实施例二所述的结构基本相同，相同之处不再赘述，不同之处在于：如图4所示，本实施例三所述的进液结构中，进液口4设置在反应槽6的顶部，在进液口4的正下方设置挡板3，围装在固定架1的侧围和底部的多个分液板5、分别与反应槽6的内壁之间留有缓冲腔7，则液体由进液口4进入反应槽6内时，先通过挡板3向周围扩散，然后在缓冲腔7内通过自由落体运动落至反应槽6的底部，在液面升高过程中，液体由各个分液板5均匀打散，并与固定架1中的产品2相接触，从而完成正常的工艺反应。
实施例四
本实施例四所述的分散进液的进液结构与实施例二所述的结构基本相同，相同之处不再赘述，不同之处在于：如图5所示，本实施例四所述的进液结构中，进液口4设置在反应槽6的任一侧壁上。
实施例五
在上述各个实施例的基础上，本实施例五提出了一种刻蚀装置，其包括如实施例一至实施例四中任一个实施例所述的分散进液的进液结构，该刻蚀装置能够在保证刻蚀效果的前提下，减少进入反应槽6的液体对产品2的直接冲击，提高反应效率，且保证了反应溶液的进液流量不变，从而确保最终的刻蚀反应效果。
需要说明的是，除了本实施例五所述的刻蚀装置外，在光伏和半导体生产工艺流程中，需要先将待加工的产品放入设备的反应槽6内以后，再向反应槽6内通入液体的各类生产设备，均可以设置上述的进液结构。因此，以上各实施例仅用以说明本发明的实施例的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本实用新型的实施例进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明的实施例各实施例技术方案的范围。
综上所述，本实施例的分散进液的进液结构包括反应槽6、固定架1、进液口4和分液板5，固定架1固定在反应槽6内，且用于固定待处理的产品2，反应槽6上设有进液口4，分液板5设置在进液口4与固定架1之间，由进液口4进入反应槽6内的液体、通过分液板5均匀分流，从而既能将进入反应槽6的液体均匀的打散分流，又能保证进液的均匀性，有效保护待加工的产品2，防止其由于在后进入反应槽6内的液体流速过快、流量过大、或流速不均，而使产品2受到直接冲击，从而避免产品2的质量受到影响，同时还能减少产品2的破碎率，有效减少工艺过程中产品2的浪费；通过设置分液板，还能在不影响液体进液总流量的基础上，保证进入反应槽6内的液体打散后的充分融合，有利于后续的工艺反应效果；设有本结构的刻蚀装置能够在保证刻蚀效果的前提下，减少进入反应槽6的液体对产品2的直接冲击，提高反应效率，且保证了反应溶液的进液流量不变，从而确保最终的刻蚀反应效果。
本实用新型的实施例是为了示例和描述起见而给出的，而并不是无遗漏的或者将本实用新型限于所公开的形式。很多修改和变化对于本领域的普通技术人员而言是显而易见的。选择和描述实施例是为了更好说明本实用新型的原理和实际应用，并且使本领域的普通技术人员能够理解本实用新型从而设计适于特定用途的带有各种修改的各种实施例。