1.一种分散进液的进液结构，其特征在于，包括反应槽、固定架、进液口和分液板，所述固定架固定在反应槽内，且用于固定待处理的产品，所述反应槽上设有进液口，所述分液板设置在所述进液口与固定架之间，由所述进液口进入反应槽内的液体、通过所述分液板均匀分流。
2.根据权利要求1所述的进液结构，其特征在于，所述进液口和固定架之间设有挡板，所述分液板设置在所述进液口和挡板之间。
3.根据权利要求2所述的进液结构，其特征在于，所述挡板的面积大于或等于所述固定架的截面面积。
4.根据权利要求1所述的进液结构，其特征在于，所述分液板上贯通设有一个或多个分液孔；
所述分液孔为一个时，所述分液孔内沿轴向分布有多个分流道；
所述分液孔为多个时，多个所述分液孔成蜂窝状均匀分布在所述分液板上。
5.根据权利要求4所述的进液结构，其特征在于，所述分液孔的截面形状为圆形、椭圆形和多边形中的一种或几种的组合。
6.根据权利要求1所述的进液结构，其特征在于，所述进液口设置在反应槽的底部、顶部或侧壁上。
7.根据权利要求1-6任一项所述的进液结构，其特征在于，所述分液板与进液口之间设有缓冲腔。
8.根据权利要求7所述的进液结构，其特征在于，所述分液板与进液口之间固定有支撑板，通过所述支撑板将所述分液板与进液口之间围成所述缓冲腔。
9.根据权利要求7所述的进液结构，其特征在于，所述固定架的外围设有多个相互连接的所述分液板，每个所述分液板的端部之间通过挡板连接，以将所述反应槽的内壁与分液板之间分隔成所述缓冲腔，所述进液口与缓冲腔连通。
10.一种刻蚀装置，其特征在于，包括如权利要求1-9任一项所述的进液结构。