技术编号：1547836
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及晶片清洗，尤其是涉及一种晶片清洗设备、特别是用于太阳能硅片的 清洗设备。背景技术传统的硅片清洗机在清洗室和烘干室之间直接气体连通，硅片清洗之后被放到传 输部上运输入烘干室中。由于烘干室的进料口处非完全密封，大量的气体将很容易从清洗 室进入烘干室中，这时，含有大量清洗用化学品的气体将会造成已清洗完成的硅片表面的 污染，导致清洗不完全。另外，由于烘干室的出料口处也非密封，因此，外部空气也很容易进 入烘干室中污染硅片表面。发明内容有鉴于此，需要提供一种...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。