技术编号：15495256
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及湿刻蚀领域，尤其涉及一种湿刻蚀装置。背景技术湿法刻蚀工艺主要是指采用液态化学药品对刻蚀物进行去除的刻蚀技术，具体为通过刻蚀液与刻蚀物进行化学反应，改变刻蚀物的结构，使无光刻胶覆盖的刻蚀物部分脱离基板表面，而把有光刻胶覆盖的刻蚀物区域保存下来，这样在基板上就得到了所需要的刻蚀物图形。湿法刻蚀设备一般是在刻蚀槽内利用酸性液体通过喷嘴对待刻蚀基板进行喷淋，从而达到刻蚀目的。随着平板显示行业中基板尺寸的增大，高世代线规模变大，以8.5G为例，参考图1所示，待刻蚀基板依次经过三个刻蚀槽01的最快...
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