技术编号:1549778
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及制作掩膜版过程中母版的清洁技术。发明内容本发明的目的是提供一种高效、简单的掩膜母版清洁方法。实现本发明目的的方法为清洁液由下列组分配比而成双氧水1份,浓硫酸0.5-3份,每次需要清洁母版时,先用镊子将待清洁的母版放到清洁液中清洗,再用镊子夹出,放置于板架上,再用去离子水冲洗多次,自然风干即可。此过程利用双氧水在酸性环境中分解,产生氧气,氧气泡从溶液中逸出时,产生破碎,形成激波,这种激波把粘附在基片上的物质洗掉,而硫酸不仅能溶掉一些碱性物质,而且酸...
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