专利名称：掩膜母版清洁法的制作方法
技术领域：
本发明涉及制作掩膜版过程中母版的清洁技术。
发明内容
本发明的目的是提供一种高效、简单的掩膜母版清洁方法。
实现本发明目的的方法为清洁液由下列组分配比而成双氧水1份，浓硫酸0.5-3份，每次需要清洁母版时，先用镊子将待清洁的母版放到清洁液中清洗，再用镊子夹出，放置于板架上，再用去离子水冲洗多次，自然风干即可。
此过程利用双氧水在酸性环境中分解，产生氧气，氧气泡从溶液中逸出时，产生破碎，形成激波，这种激波把粘附在基片上的物质洗掉，而硫酸不仅能溶掉一些碱性物质，而且酸性的清洗环境易于使玻璃基片表面防潮。
经过此法清洗的母版表面非常干净，无异物、无油渍、无灰尘、无水汽，可保证一次性清洗干净，而且清洁液可多次重复使用，使用周期为一个月，是一种省时、省力、高效的清洁掩膜母版的方法。
具体实施方式
，但本发明的内容完全不局限于此
权利要求
1一种掩膜母板清洁法，其特征在于清洁液由下列组分配比而成双氧水1份浓硫酸0.5-3份
2如权利要求1所述的清洁法，其特征在于每次需要清洁母版时，先用镊子将待清洁的母版放到清洁液中清洗，再用镊子夹出，放置于板架上，再用去离子水冲洗多次，自然风干即可。
全文摘要
本发明涉及制作掩膜版过程中母版的清洁技术，清洁液由下列组分配比而成双氧水1份，浓硫酸0.5－3份，每次需要清洁母版时，先用镊子将待清洁的母版放到清洁液中清洗，再用镊子夹出，放置于板架上，再用去离子水冲洗多次，自然风干即可，经过此法清洗的母版表面非常干净，无异物、无油渍、无灰尘、无水汽，可保证一次性清洗干净，而且清洁液可多次重复使用，使用周期为一个月，是一种省时、省力、高效的清洁掩膜母版的方法。
文档编号B08B11/00GK1421285SQ02145560
公开日2003年6月4日 申请日期2002年12月30日 优先权日2002年12月30日
发明者李铁军, 宁晓梅, 于瑞娟, 杜焕玲, 房林平 申请人:中国航天科技集团公司第九研究院七七一研究所