技术编号:1557061
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种清洁装置,特别是一种喷嘴清洁装置。技术背景于平面显示设备制程或半导体设备制程中,须历经多道光微影技术(photolithography)以曝光定义区域以及对薄膜进行蚀刻(etching)等步骤。 其中曝光定义区域的步骤,是将光致抗蚀剂(photoresist)等感光液涂布于 基板或晶圆上而形成感光薄膜。在涂布机(Coater)每一次涂布光致抗蚀剂时,都必须清除光致抗蚀剂 喷嘴(Nozzle)表面在前次涂布时所残留的光致抗蚀剂,避免其影响到后续...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。