专利名称：喷嘴清洁装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种清洁装置，特别是一种喷嘴清洁装置。
技术背景于平面显示设备制程或半导体设备制程中，须历经多道光微影技术(photolithography)以曝光定义区域以及对薄膜进行蚀刻(etching)等步骤。 其中曝光定义区域的步骤，是将光致抗蚀剂(photoresist)等感光液涂布于 基板或晶圆上而形成感光薄膜。在涂布机(Coater)每一次涂布光致抗蚀剂时，都必须清除光致抗蚀剂 喷嘴(Nozzle)表面在前次涂布时所残留的光致抗蚀剂，避免其影响到后续 光致抗蚀剂涂布的质量，因此，涂布机进行涂布完后即会以橡胶(Rubber) 清洁喷嘴。而现有的橡胶工具利用机台参数进行对位，但由于机械对位的精 度受限于机器设备的对位精度极限，并无法由机台控制，于是在长时间反复 动作的情况下，橡胶与喷嘴的机械对位精度逐渐产生偏差，使得橡胶无法完 整清洁喷嘴，进而于基板上产生胶体残留而严重影响制程。虽可以加装弹簧 的方式控制机械对位精度的偏差，但此种方式会造成橡胶的不当磨损，不仅 会使得膜厚异常，且仍旧无法解决基板上产生胶体残留的问题。因此，如何提供一种喷嘴清洁装置，使其不仅可抑制机械对位精度的偏 差的缺陷，进而避免橡胶在清洁过程中发生不当磨损，并解决基板上产生胶 体的问题，是一个刻不容缓的待解决课题。发明内容有鉴于此，本发明的目的在于提供一种喷嘴清洁装置，使其能够避免橡 胶在清洁过程中发生不当磨损，并解决基板上产生胶体的问题。本发明的喷嘴清洁装置包含具有至少一个倾斜面的喷嘴，喷嘴清洁装置 包含基座、擦拭件及至少一个磁力件。擦拭件位于基座上，包含嵌置部及至少一个导斜面，导斜面位于嵌置部的周缘并对应于倾斜面设置。磁力件位 于基座的侧边，用以产生磁力吸引喷嘴而使导斜面贴合倾斜面。本发明亦提出一种喷嘴清洁装置，包含具有至少一个倾斜面的喷嘴，喷 嘴清洁装置包含基座、擦拭件、至少一个辅助杆及至少一个磁力件。擦拭 件位于基座上，包含嵌置部及至少一个导斜面，导斜面位于嵌置部的周缘并 对应于该倾斜面设置。辅助杆位于基座的侧边。磁力件位于辅助杆的一端， 用以产生磁力吸引喷嘴而使导斜面贴合倾斜面。本发明提出一种喷嘴清洁装置，适用于涂布机，包含具有至少一个倾斜 面的喷嘴，喷嘴清洁装置包含基座、擦拭件及至少一个磁力件。擦拭件位 于基座上，包含嵌置部及至少一个导斜面，导斜面位于嵌置部的一侧并对应 于倾斜面设置。磁力件位于基座的侧边，用以产生磁力吸引喷嘴而使导斜面 贴合倾斜面。本发明的有益技术效果在于，本发明以磁力吸附方式使喷嘴与擦拭件完 成自动对位校正，不仅可避免现有技术中以机械对位方式造成喷嘴或擦拭件 磨损的问题，并可提高本发明的喷嘴清洁装置在位移时的稳定性。有关本发明的较佳实施例及其功效，现配合
如后。
图1为本发明第一实施例的分解示意图。图2为本发明第一实施例的动作示意图(一)。 图3为本发明第一实施例的动作示意图(二)。 图4为本发明第一实施例的动作示意图(三)。 图5A为本发明第二实施例的动作示意图(一)。 图5B为本发明第二实施例的动作示意图(二)。 图6A为本发明第三实施例的动作示意图(一)。 图6B为本发明第三实施例的动作示意图(二)。 其中，附图标记说明如下 l喷嘴清洁装置 10基座12容纳部 14穿孔30擦拭件 31嵌置部311导斜面 40定位板 50辅助杆 50b第二端 60磁力件 9喷嘴8锁固元件 91倾斜面32定位孔 41定位柱 50a第一端 51区段具体实施方式
图1所示为本发明的第一实施例。第一实施例的喷嘴清洁装置1适用于清洁涂布机，该清洁涂布机包含具 有倾斜面91的喷嘴9，其中喷嘴清洁装置l包含基座IO、擦拭件30、磁 力件60。基座IO于上半部设有凸部，而于凸部之间形成概呈凹陷状的容纳部12， 此外，容纳部12的侧边可设有穿孔14。擦拭件30设置于基座10的容纳部12内，设有概呈凹陷状的嵌置部31， 并于嵌置部31的一侧设有导斜面311，其中，导斜面311较佳地可设置于嵌 置部31的周缘，并对应于喷嘴9的倾斜面91设置，但并非以此为限，熟悉 此技术的人员可依实际需求来调整其结构。此外，擦拭件30的材质可为橡 胶或塑料，但本发明不限于此。本实施例的喷嘴清洁装置另包含定位板40，其可为概呈矩形状的片体， 其中，定位板40上设有定位柱41，擦拭件30设有与定位柱41相对应的定 位孔32，当锁固元件8穿过定位板40而锁固于基座10的穿孔14时，定位 板40的定位柱41嵌入擦拭件30的定位孔32，以此使定位板40定位擦拭件 30。于前述说明中，定位板40上设有定位柱41、擦拭件30设有定位孔32 仅是举例，但本发明不限于此，在其它实施例中，定位板40上可设有定位 孔，擦拭件30可设有与其相对应的定位柱，以此使定位柱嵌入定位孔而结 合定位板40与擦拭件30，相关技术人员可依实际需求来调整其结构。磁力件60设置于基座10的侧边，用以吸引喷嘴9而使基座10的导斜 面311贴合喷嘴9的倾斜面91，在本实施例中，磁力件60较佳地概呈圆环形，并可经由锁固元件8锁固于定位板40上。此外，磁力件60的材质可为 永久性磁铁或电磁铁，但本发明不限于此。如图2、图3及图4所示，喷嘴9在开始时与本发明的喷嘴清洁装置1 的距离未在磁力件60的磁力感应范围内，当喷嘴9需清洁时，移动本发明 的喷嘴清洁装置1靠近喷嘴9。当本发明的喷嘴清洁装置1移动至预设位置 处，使喷嘴9进入磁力件60的磁力感应范围内，即可经由磁力件60吸附喷 嘴9，使喷嘴9对准并嵌入嵌置部31，其中，嵌置部31的导斜面311会沿 着喷嘴9的倾斜面91位移，当喷嘴9完全嵌入嵌置部31时，嵌置部31的 导斜面311贴合喷嘴9的倾斜面91 ，达到以磁力完成自动对位校正的目的。本发明以磁力方式吸引喷嘴9，使喷嘴9嵌入嵌置部31，避免以机械对 位方式而造成喷嘴9或擦拭件30磨损的缺陷，并可提高本发明的喷嘴清洁 装置1在位移时的稳定性。于前述说明中，移动本发明的喷嘴清洁装置1靠近喷嘴9仅是举例，但 本发明不限于此，在其它实施例中，可移动喷嘴9靠近本发明的喷嘴清洁装 置l，相关技术的人员可依实际需求来调整其结构。图5A与图5B所示为本发明的第二实施例。在本实施例中，喷嘴清洁装置还包含辅助杆50，具有相对的第一端 50a与第二端50b，其中，辅助杆50的第一端50a枢接于基座10，第二端 50b用以连接磁力件60，使磁力件60可以第一端50a为固定端而相对基座 IO转动。以此可经由改变辅助杆50的角度而调整磁力件60与喷嘴9产生磁力相 吸的距离，此外，当使用者欲更换擦拭件30时，可先调整辅助杆50的角度， 使其可轻易地由基座10上拆除定位板40而更换擦拭件30，待更换完成后再 将辅助杆50的角度调整为更换前的角度，大幅提升更换擦拭件30的便利性。 再者，当喷嘴9因操作不当而发生晃动、倾斜等现象，使用者可改变辅助杆 50的角度，以配合喷嘴9所产生的偏差。图6A与图6B所示为本发明的第三实施例。在本实施例中，辅助杆50区分为两个区段51，其中，两个区段51以螺 纹结构相螺合而形成伸縮结构，通过旋转其中一区段51而达到伸縮的目的， 即可经由伸縮方式调整第一端50a与第二端50b之间的距离而改变辅助杆50的长度，以此调整磁力件60与喷嘴9产生磁力相吸的距离。于前述说明中， 两个区段51以螺纹结构相螺合而形成伸縮结构仅是举例，但本发明不限于 此，相关技术的人员可依实际需求来调整或改变其伸縮结构。
本发明以磁力吸附方式使喷嘴与擦拭件完成自动对位校正，不仅可避免 现有技术中以机械对位方式造成喷嘴或擦拭件磨损的问题，并可提高本发明 的喷嘴清洁装置在位移时的稳定性，此外，本发明可经由旋转辅助杆，或辅 助杆以伸縮方式调整其长度，达到调整磁力件与喷嘴产生磁力相吸的距离的 目的，使本发明在不改变元件结构、尺寸的情况下，能适用于清洁不同的喷 嘴，进而提升使用者更换擦拭件的便利性。
虽然本发明的技术内容已经以较佳实施例披露如上，然而其并非用以限 定本发明，任何具有本领域的通常知识的人员，在不脱离本发明的精神下所 作的一些更动与润饰，皆应涵盖于本发明的范畴内，本发明的保护范围当视 所附的权利要求书所界定的范围为准。
权利要求
1. 一种喷嘴清洁装置，包含具有至少一个倾斜面的一喷嘴，该喷嘴清洁装置包含一基座；一擦拭件，位于该基座上，该擦拭件包含一嵌置部及至少一个导斜面，该导斜面位于该嵌置部的周缘并对应于该倾斜面设置；及至少一个磁力件，位于该基座的侧边，用以产生磁力吸引该喷嘴而使该导斜面贴合该倾斜面。
2、 如权利要求1所述的喷嘴清洁装置，其中该基座包含一容纳部，该 容纳部用以置放该擦拭件。
3、 如权利要求1所述的喷嘴清洁装置，其中该喷嘴清洁装置还包含-一定位板，用以放置该擦拭件，经由该定位板与该基座相结合而定位该擦拭 件。
4、 如权利要求3所述的喷嘴清洁装置，其中该定位板经由一锁固元件 锁固于该基座。
5、 如权利要求4所述的喷嘴清洁装置，其中该磁力件经由该锁固元件 锁固于该定位板上。
6、 如权利要求3所述的喷嘴清洁装置，其中该定位板包含至少一个定 位柱，该擦拭件还包含至少一个定位孔，该定位柱嵌入该定位孔而结合该定 位板与该擦拭件。
7、 如权利要求3所述的喷嘴清洁装置，其中该定位板包含至少一个定 位孔，该擦拭件还包含至少一个定位柱，该定位柱嵌入该定位孔而结合该定 位板与该擦拭件。
8、 如权利要求1所述的喷嘴清洁装置，其中该磁力件可为永久性磁铁或电磁铁。
9、 一种喷嘴清洁装置，适用于涂布机，包含具有至少一个倾斜面的一 喷嘴，该喷嘴清洁装置包含一基座；一擦拭件，位于该基座上，该擦拭件具有一嵌置部及至少一个导斜面，该导斜面位于该嵌置部的一侧并对应于该倾斜面设置；及至少一个磁力件，设置于该基座的侧边，用以产生磁力吸引该喷嘴而使 该导斜面贴合该倾斜面。
10、 如权利要求9所述的喷嘴清洁装置，该喷嘴清洁装置还包含 一辅 助杆，其中该辅助杆具有一第一端与一第二端，其中该第一端用以连接该基 座，第二端用以连接该磁力件。
11、 如权利要求10所述的喷嘴清洁装置，其中该基座包含一容纳部， 该容纳部用以置放该擦拭件。
12、 如权利要求10所述的喷嘴清洁装置，其中该喷嘴清洁装置还包含: 一定位板，用以放置该擦拭件，经由该定位板与该基座相结合而定位该擦拭 件。
13、 如权利要求12所述的喷嘴清洁装置，其中该定位板经由一锁固元 件锁固于该基座。
14、 如权利要求12所述的喷嘴清洁装置，其中该定位板包含至少一个 定位柱，该擦拭件还包含至少一个定位孔，该定位柱嵌入该定位孔而结合该 定位板与该擦拭件。
15、 如权利要求12所述的喷嘴清洁装置，其中该定位板包含至少一个 定位孔，该擦拭件还包含至少一定位柱，该定位柱嵌入该定位孔而结合该定 位板与该擦拭件。
16、 如权利要求10所述的喷嘴清洁装置，其中该辅助杆能以伸縮方式调整长度。
17、 如权利要求10所述的喷嘴清洁装置，其中该辅助杆的一端枢接于 该基座，使该磁力件能相对该基座转动。
18、 如权利要求10所述的喷嘴清洁装置，其中该磁力件可为永久性磁铁或电磁铁。
全文摘要
一种喷嘴清洁装置，包含具有至少一个倾斜面的喷嘴，喷嘴清洁装置包含基座；擦拭件，位于基座上，擦拭件包含嵌置部及至少一个导斜面，导斜面位于嵌置部的周缘并对应于倾斜面设置；及至少一个磁力件，位于基座的侧边，用以产生磁力吸引喷嘴而使导斜面贴合倾斜面。本发明以磁力吸附方式使喷嘴与擦拭件完成自动对位校正，不仅可避免现有技术中以机械对位方式造成喷嘴或擦拭件磨损的问题，并可提高本发明的喷嘴清洁装置在位移时的稳定性。
文档编号B08B13/00GK101271277SQ200810096239
公开日2008年9月24日 申请日期2008年5月6日 优先权日2008年5月6日
发明者丁振原, 吴冠贤, 彭志强, 林书汉, 陈信昌 申请人:友达光电股份有限公司