技术编号:1558633
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种用于清洁各种易受杂质影响的基片处理设备,例如半导 体、平面显示器、印刷电路板等的制造或测试设备的清洁片,及使用此清洁 片清洁基片处理设备的方法,和用此清洁方法清洁的基片处理设备。背景技术在各种基片处理设备中,各种传输系统和基片是在相互物理接触的情况 下输送的。在此过程中,当基片或传输系统有粘附其上的杂质时,后续的基 片会依次被污染。这样,必需定时地中止衬底处理设备的操作,以进行清洁, 从而导致了工作效率的下降或需要大量劳动力。为了解决这些问题...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。