技术编号：15613688
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光刻机技术领域，具体为一种半导体芯片生产用浸没式光刻机。背景技术光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序，意思是用光来制作一个图形。光刻机在工作时需要对硅片进行放置，然而现有的硅片放置处，大多是固定不变的，无法根据使用需求调节硅片的位置，操作不够便捷。针对上述问题，急需在原有硅片放置处的基础上进行创新设计。发明内容本发明的目的在于提供一种半导体芯片生...
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