技术编号：15653804
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及等离子处理设备领域，特别是一种全自动LP8常压等离子处理设备。背景技术等离子处理设备广泛应用于等离子清洗、刻蚀、等离子镀、等离子涂覆、等离子灰化和表面活化、改性等场合。通过其处理，能够改善材料的润湿能力，使多种材料能够进行涂覆、镀等操作，增强粘合力、键合力，同时去除有机污染物、油污或油脂。中国专利文献CN 201754646 U公开了等离子处理设备,该专利通过设置输出终端冷却系统的形式，使其装置温度能够保持在预设温度，从而延长电源的使用寿命，同时提高了产品处理均匀性，改善了处理效果...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。