技术编号：15735481
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种OPC数据收集方法及OPC数据收集装置。背景技术随着半导体制造技术的不断成熟发展，当集成电路的关键特征尺寸降到一定程度时，例如，当芯片的特征尺寸降低到小于光刻光源的波长时，由于衍射和干涉效应导致晶圆上的图形与掩膜版上的图形出现不同程度的变形和偏差，这种现象称为光学邻近效应(Optical Proximity Effect，OPE)。为了抵消光刻过程中光学邻近效应的影响，一种有效的方法是光学邻近修正(Optical Proximity Correction...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。