技术编号：15735490
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及抗蚀剂剥离液组合物，更详细而言，涉及不阻碍剥离设备中的过滤器通过且顺利通过过滤器的抗蚀剂剥离液组合物。背景技术一般而言，半导体/LED/LCD元件的微细电路经由一系列光刻工序而完成。光刻工序是如下工序：在基板上均匀地涂布金属膜或绝缘膜等，且在其上均匀地涂布光致抗蚀剂后，通过刻有图案的掩模而照射光，通过显影工序而形成期望的图案的光致抗蚀剂。此时，利用干式/湿式蚀刻将图案转印至处于光致抗蚀剂下部的金属膜和绝缘膜后，无用的光致抗蚀剂通过剥离工序来去除。光致抗蚀剂根据由射线照射引起的对于显影液...
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