技术编号:15740669
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本申请要求于2016年1月29日提交的题为“METHOD AND SYSTEM FOR FORMING MEMORY FIN PATTERNS”的美国临时专利申请第62/288,846号的权益,该临时专利申请通过引用整体并入本文。背景技术本公开内容涉及基板处理,并且更具体地,涉及用于使包括图案化半导体晶片的基板图案化的技术。在光刻工艺中收缩线宽的方法历史上涉及使用更大NA光学器件(数值孔径)、更短曝光波长或除空气之外的界面介质(例如,水浸)。随着常规光刻工艺的分辨率接近理论极限,制造商已开始转向...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。