技术编号：15978708
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本申请涉及显示技术领域，特别是涉及一种曝边机。背景技术在LTPS(Low Temperature Poly-silicon，低温多晶硅)液晶显示器和AMOLED(Activematrix Organic Light-Emitting Diode，有源矩阵有机发光二极管显示器件)的制造过程中，会经常用到光刻制程。在光刻制程中，基板的四周边缘经常会有光阻(即光刻胶)残留，一般会通过曝边机对基板的四周边缘进行曝光，以将残留的光阻去除。现有曝边机由于设计原因，内部空间封闭，无气流循环，PM(Preven...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。