本申请涉及显示技术领域，特别是涉及一种曝边机。
背景技术
在ltps(lowtemperaturepoly-silicon，低温多晶硅)液晶显示器和amoled(activematrixorganiclight-emittingdiode，有源矩阵有机发光二极管显示器件)的制造过程中，会经常用到光刻制程。在光刻制程中，基板的四周边缘经常会有光阻(即光刻胶)残留，一般会通过曝边机对基板的四周边缘进行曝光，以将残留的光阻去除。
现有曝边机由于设计原因，内部空间封闭，无气流循环，pm(preventmaintain，预防维修)上油及人员进入动作导致内部产生的粉尘停留机台内部，pr(photoresist，光刻胶或光阻)残留严重超标，良率损失很高，尤其是大颗粒造成的圆形pr残留对中小尺寸的基板aa区有效图形的影响很大。
技术实现要素：
本申请主要解决的技术问题是提供一种曝边机，能够解决现有曝边机容易产生pr残留的问题。
为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种曝边机，包括：送风机构和曝光腔室；曝光腔室的顶壁设置有进气口，送风机构用于通过进气口向曝光腔室内输送气体；曝光腔室的底壁设置有第一排放口，以使得曝光腔室内的残留物通过第一排放口排出曝光腔室。
本申请的有益效果是：区别于现有技术的情况，本申请的部分实施例中，曝边机利用送风机构，通过曝光腔室顶壁设置的进气口向曝光腔室内部输送气体，利用该气体可以将曝光腔室内部的大颗粒或光阻挥发的油气等容易导致pr残留的残留物输送到曝光腔室底部，并通过底壁设置的第一排放口排出曝光腔室，从而可以为曝光制程提供良好的环境，减少曝光过程产生的pr残留，进而提高显示面板的良率。
附图说明
图1是本申请曝边机第一实施例的结构示意图；
图2是图1的曝边机中送风机构包括过滤装置的结构示意图；
图3是本申请曝边机第二实施例的结构示意图；
图4是本申请曝边机第三实施例的结构示意图；
图5是图4的曝边机中第二排放口包括多个第二通孔的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本申请的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
如图1所示，本申请曝边机第一实施例中，曝边机10包括：送风机构101和曝光腔室102。曝光腔室102的顶壁设置有进气口1021，送风机构101用于通过进气口1021向曝光腔室102内输送气体。曝光腔室102的底壁设置有第一排放口1022，以使得曝光腔室102内的残留物通过第一排放口1022排出曝光腔室102。
其中，送风机构101输送的气体通常为洁净干燥的气体(cleandryair，cda)，例如压缩氮气等，具体气体类型可以根据实际需求选择，此处不做具体限定。
其中，该进气口1021和该第一排放口1022的数量可以分别为一个，也可以为多个，具体根据实际需求设置，此处不做具体限定。
具体地，在一个应用例中，当pm上油或人员进入曝光腔室102内部工作时，容易在曝光腔室102内部产生粉尘，在对基板进行曝光时，极易导致pr残留。因此，在对基板进行曝光之前，该曝光腔室102可以先利用送风机构101通过该曝光腔室102顶壁设置的进气口1021，向曝光腔室102内部输送cda气体，该cda气体产生的气流可以带走曝光腔室102内部的大颗粒粉尘(大于0.3μm)或光阻挥发的油气等容易导致pr残留的残留物，并通过曝光腔室102底壁设置的排放口1022排出该曝光腔室102，从而可以为曝光制程提供良好的环境，减少曝光过程产生的pr残留，尤其是圆形pr残留，进而提高显示面板(如小于15英尺的中小尺寸显示面板)的良率。
可选地，该送风机构101可以是具有过滤功能的装置，例如ffu(fanfilterunit，风机过滤机组)，是一种自带动力的具有过滤功效的模块化的末端送风过滤装置。该风机过滤机组从顶部将空气吸和并经hepa(highefficiencyparticulateair，高效空气过滤器)过滤，过滤后的洁净空气在整个出风面以0.45m/s±20％左右的速度均匀送出。当然，在其他实施例中，如图2所示，该送风机构101也可以是包括有过滤装置1011的送风机。该过滤装置1011可以将进入该过滤装置1011的气体(如空气)进行干燥，以产生洁净干燥的气体，以输送到曝光腔室内。
在其他实施例中，为了进一步提高残留物的排放效率，可以将该底壁倾斜设置。
具体如图3所示，本申请曝边机第二实施例中，曝边机20包括送风机构101和曝光腔室102。曝光腔室102的顶壁设置有进气口1021，送风机构101用于通过进气口1021向曝光腔室102内输送气体。曝光腔室102的底壁设置有第一排放口1022，以使得曝光腔室102内的残留物通过第一排放口1022排出曝光腔室102。
曝光腔室102内部设置有曝光平台103，曝光平台103用于承载基板，曝光腔室103的底壁倾斜设置，底壁与第一表面a之间形成第一夹角α；其中，该第一表面a平行于曝光平台103所在的表面。
其中，该第一夹角α的具体角度可以根据实际需求设置，例如30度。可选地，第一夹角α不大于45度。
该曝光平台103可以是固定于曝光腔室102内部，用于承载基板的平台，也可以是一个可以相对曝光腔室102移动的平台，例如采用传送台或滑轨等方式滑动连接于曝光腔室102，从而可以将承载的基板移入/移出曝光腔室102。
该底壁的倾斜方向可以是向左、也可以是向右等，具体可以根据实际需求设置，此处不做具体限定。
具体地，在一个应用例中，曝光平台103平行于水平面设置，如图3中平行于xoy平面，即该第一表面a平行于xoy平面，曝光腔室103的底壁倾斜设置，且与第一表面a之间形成第一夹角α(如25度)，则当曝光腔室102内的cda气流从顶壁向底壁输送时，由于底壁倾斜设置，起到导流作用，该cda气流携带残留物从底壁的第一排放口1022排出的效率会提高。
可选地，为了更进一步提高残留物排放效率，减少气体回流，底壁可以设置为孔板，即该第一排放口1022可以包括多个形成于底壁的第一通孔1022a，第一通孔1022a用于将曝光腔室102内的残留物排出。
其中，该第一通孔1022a可以呈网格状均匀分布于底壁。当然，在其他实施例中，第一通孔1022a也可以是随机分布于底壁。
具体地，在上述应用例中，当曝光腔室102内的cda气流从顶壁向底壁输送时，由于底壁形成有多个第一通孔1022a，该第一通孔1022a可以呈网格状均匀分布于底壁，cda气流携带残留物可以充分通过多个第一通孔1022a排出曝光腔室102，气体反弹回流较少，因此可以提高残留物的排放效果。
可选地，如图3所示，该曝边机20可以进一步包括设置于曝光平台103朝向进气口1021一侧的照明机构104，及设置于照明机构104和曝光平台103之间的掩膜105。
该照明机构104用于提供光束，掩膜105具有图案信息，用于产生包含该图案信息的出射光，以对曝光平台103上放置的基板进行曝光。
其中，该照明机构104可以是超高压水银灯，可以发出uv紫外光线。
具体地，在一个应用例中，该掩膜105具有的图案信息可以是露出基板边缘的图案，涂布有光阻的基板被该掩膜105掩盖后，进入曝光腔室102，照明机构104发射的uv紫外光线通过该掩膜105，出射到基板上，曝光后的基板进行显影后，即可以去除基板边缘的光阻。在其他应用例中，该曝边机也可以是投影式曝光机，掩膜和曝光平台之间还可以根据需求设置光学镜组等，此处不做具体限定。
可选地，进一步参阅图3，曝边机20进一步包括废物收集机构106，该废物收集机构106连通该第一排放口1022，用于收集该第一排放口1022排出的残留物。
其中，该废物收集机构106可以是包括过滤装置，用于将气流中的残留物过滤，过滤后的气流可以循环利用。该废物收集机构106还可以是包括真空负压管路的机构，通过该真空负压管理可以将残留物输送到对废物进行集中处理的厂务。
如图4所示，本申请曝边机第三实施例中，曝边机30的结构与本申请曝边机第二实施例的结构类似，相同之处不再重复，不同之处在于：本实施例曝边机30进一步包括支撑曝边机30的底板107，该底板107对应底壁的位置形成有第二排放口1071，用于将第一排放口1022排出的残留物排出曝边机30。
具体地，在一个应用例中，为了进一步减少气流回流，提高残留物排放效果，本实施例中，将支撑曝边机30的底板107，例如支撑该曝边机30的高架地板，设置为具有第二排放口1071的孔板，且该底板107相对于该曝光腔室102的底壁设置。当携带有残留物的气流从第一排放口1022排出时，由于与该底壁相对设置的底板107设置有第二排放口1071，该气流可以通过第二排放口1071排放出去，而不会被反弹回流，从而可以进一步提高残留物的排放效果，进而为曝光制程提供良好的环境，减少曝光过程的pr残留，提高显示面板的良率。
可选地，结合图5所示，该第二排放口1071可以包括多个形成于底板107的第二通孔1071a，第二通孔1071a沿气体的输送方向的投影与第一通孔1022a至少部分重合。
具体地，由于该底板107相对于该曝光腔室102的底壁设置，且该第二通孔1071a沿气体的输送方向的投影与第一通孔1022a至少部分重合，因此，当携带有残留物的气流从第一通孔1022a排出时，该气流可以通过至少部分重合的第二通孔1071a排出，遇到实板的阻挡较少，回流较少，排出效率提高。
其中，该底板107可以是高架地板，该高架地板支撑曝边机30，使得该曝边机30放置在上层(l20层)，而该高架地板隔开的下层/底层(l10层)则可以用于放置电箱等其他设备。
可选地，如图4所示，本申请曝边机30进一步包括废物收集机构108，废物收集机构108连通该第二排放口1071，用于收集第二排放口1071排出的残留物。
其中，该废物收集机构108可以是包括过滤装置，用于将气流中的残留物过滤，过滤后的气流可以循环利用。该废物收集机构108还可以是包括真空负压管路的机构，通过该真空负压管理可以将残留物输送到对废物进行集中处理的厂务。
本申请的曝边机利用送风机构，通过曝光腔室顶壁设置的进气口向曝光腔室内部输送气体，利用该气体可以将曝光腔室内部的大颗粒或光阻挥发的油气等容易导致pr残留的残留物输送到曝光腔室底部，并通过底壁设置的第一排放口排出曝光腔室，从而可以为曝光制程提供良好的环境，减少曝光过程产生的pr残留，进而提高显示面板的良率。
以上所述仅为本申请的实施方式，并非因此限制本申请的专利范围，凡是利用本申请说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本申请的专利保护范围内。