本发明涉及曝光机领域，特别涉及一种净化装置及带有净化装置的曝光机。
背景技术
在lcd(liquidcrystaldisplay，液晶显示器)制备过程中，曝光机是基板制备精细画素图案的关键设备。现有曝光机的光源结构中，采用小型化的汞灯mlh(multilamphouse)。但此类小型汞灯在曝光生产过程中，会产生杂质，如汞蒸汽，进而不可避免地会对光源部的单元镜组造成污染，导致镜组雾化，基板的曝光照度及曝光均一性受到影响。
目前曝光机的光路结构图如图1所示，包括发光单元101、第一平面镜102，第二平面镜103、物镜108、蝇眼104、弧形镜105、第三平面镜106，在曝光过程中，所述发光单元101发出的光线经过所述第一平面镜102、所述第二平面镜103、所述物镜108、所述蝇眼104、所述弧形镜105以及所述第三平面镜106照射到掩膜板107上，通过所述掩膜板107实现对基板100上的膜层的图案化。其中，所述发光单元101、所述第一平面镜102、所述第二平面镜103、所述物镜108以及所述蝇眼104组成光源部10，所述发光单元101采用汞灯，所述汞灯在发光过程中会产生杂质，如汞蒸汽，杂质会沉积在所述第一平面镜102、所述第二平面镜103、所述物镜108以及所述蝇眼104上，即不可避免地会对所述光源部10的单元镜组造成污染，导致单元镜组雾化，进而所述基板100的曝光照度及曝光均一性受到影响。
技术实现要素：
本发明的目的在于提供一种净化装置与曝光机，以解决杂质对光源部单元镜组的污染所导致的基板的曝光照度及曝光均一性受到影响的技术问题。
本发明提供一种净化装置，用于对曝光机中光源部的净化，包括第一管道、第一净化器以及与所述第一净化器连接的循环单元，所述光源部通过所述第一管道与所述第一净化器连接；
其中，进入所述光源部的气体将所述光源部内的杂质带出后进入所述第一管道，所述第一净化器对从所述第一管道输出的气体进行净化处理，并将净化处理后的气体输出到所述循环单元；所述循环单元内的气体在杂质浓度大于阈值浓度时被排出。
其中，所述净化装置还包括第二管道，所述循环单元包括储气室以及设于所述储气室内的循环件，所述第一净化器与所述储气室连接，所述循环件通过所述第二管道与所述光源部连接，所述储气室用于储存气体，所述循环件用于将所述储气室中的气体通过所述第二管道运送到所述光源部。
其中，所述循环单元还包括与储气室连接的浓度监测器，所述浓度监测器用于比较所述储气室内的气体的杂质浓度与所述阈值浓度以确定所述气体的净化程度。
其中，所述储气室还连接有与所述第一净化器间隔设置的第二净化器，所述第二净化器用于净化外界的气体。
其中，所述净化装置还包括集气单元与输入管道，所述集气单元通过所述输入管道与所述第二净化器连接，所述集气单元用于收集外界的气体，且所述集气单元用于为所述循环单元提供气体。
其中，所述净化装置还包括抽气件，所述抽气件设于所述输入管道上，所述抽气件用于将所述集气单元中的气体抽送到所述第二净化器。
其中，所述净化装置还包括加压装置，所述加压装置与所述光源部连接，所述加压装置用于向所述光源部施加压力以使所述光源部内的气体进入所述第一净化器。
其中，所述循环单元连接有温度传感器，所述温度传感器用于感应所述循环单元的温度。
其中，所述循环单元还设有温度调节件，所述温度调节件与所述温度传感器连接，所述温度调节件用于在所述循环单元的温度发生变化时调节所述循环单元的温度。
本发明还提供一种曝光机，包括上述的净化装置。
综上所述，本发明通过所述第一管道将携带有所述光源部内的杂质的气体运送到所述第一净化器，所述第一净化器对所述光源部内的杂质进行净化，减少了所述光源部内的杂质，避免了所述杂质沉积在所述第一平面镜、所述第二平面镜、所述物镜以及所述蝇眼上，即避免了所述杂质对所述光源部的单元镜组的污染，单元镜组不会发生雾化，所述基板的曝光照度及曝光均一性均不会受到影响，提高了曝光机的使用寿命，同时避免了产能损失和产品异常。进一步，当所述杂质不沉积在所述光源部的单元镜组上时，省去了对单元镜组的清洁或更换，进一步提升了产能和节约了成本。在本发明中，排出的气体进行集中回收处理，减少了对大气的污染。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是曝光机包括的光路结构示意图。
图2是本发明实施例提供的净化装置的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明的净化装置可以应用于曝光机。曝光机包括如图2所示的净化装置，所述净化装置包括第一管道110、第一净化器20以及与所述第一净化器20连接的循环单元30，所述光源部10通过所述第一管道110与所述第一净化器20连接。
其中，进入所述光源部10的气体将所述光源部20内的杂质带出后进入所述第一管道110，所述第一净化器20对从所述第一管道110输出的气体进行净化处理，并将净化处理后的气体输出到所述循环单元30。所述循环单元30内的气体在杂质浓度大于阈值浓度时被排出。在本发明中，所述循环单元30上连接有第一加压装置130以及与所述循环单元30连通的输出管道120，当所述循环单元30内的气体的杂质浓度大于阈值浓度时，所述第一加压装置130向所述循环单元30内施加压力以使所述循环单元30内的气体通过所述输出管道120排出。所述净化装置净化的杂质主要为所述光源部10内的汞蒸气。
本发明通过所述第一管道110将携带有所述光源部10内的杂质的气体运送到所述第一净化器20，所述第一净化器20对所述光源部10内的杂质进行净化，减少了所述光源部10内的杂质，避免了所述杂质沉积在所述第一平面镜10、所述第二平面镜103、所述物镜108以及所述蝇眼104上，即避免了所述杂质对所述光源部10的单元镜组的污染，单元镜组不会发生雾化，所述基板100的曝光照度及曝光均一性均不会受到影响，提高了曝光机的使用寿命，同时避免了产能损失和产品异常。进一步，当所述杂质不沉积在所述光源部10的单元镜组上时，省去了对单元镜组的清洁或更换，进一步提升了产能和节约了成本。在本发明中，排出的气体进行集中回收处理，减少了对大气的污染。
因此，当所述光源部10内的杂质被净化后，所述光源部10的单元镜组不会发生雾化，从所述光源部10内出射照射到所述弧形镜105、所述第三平面镜106以及照射到掩膜板107上的光线均不会受到影响，进而通过所述掩膜板107对基板100上的膜层图案化的过程也不会受到影响。
所述净化装置还包括第二管道140，所述循环单元30包括储气室301以及设于所述储气室301内的循环件302，所述第一净化器20与所述储气室301连接，所述循环件302通过所述第二管道140与所述光源部10连接，所述储气室301用于储存气体，所述循环件302用于将所述储气室301中的气体通过所述第二管道140运送到所述光源部10。所述储气室301连接有浓度监测器40，所述浓度监测器40用于比较所述储气室301内的气体的杂质浓度与阈值浓度以确定所述气体的净化程度。具体为，当所述浓度监测器40监测的所述气体中的杂质浓度小于所述阈值浓度时，即表明所述第一净化器20的净化功能是较好的，经所述第一净化器20净化后的气体中的杂质含量是较少的，所述循环件302将杂质含量较少的所述气体输送到所述光源部10内继续将所述光源部10内的杂质带出所述光源部10；当所述浓度监测器40监测的所述气体中的杂质浓度大于等于所述阈值浓度时，即表明所述第一净化器20的净化功能是不足的或所述第一净化器20发生损坏，经所述第一净化器20净化后的气体中的杂质含量是较多的，比如汞蒸气的含量较多，或者所述汞蒸气与所述第一净化器20内的净化材料反应所生成的有机物含量较多，此时，所述循环件302停止工作，所述第一加压装置130向所述循环单元30内施加压力以使所述循环单元30内的气体通过所述输出管道120排出到外界。同时更换所述第一净化器20，以保证通过所述第一净化器20净化且进入所述光源部10的气体可将所述光源部10内的杂质带出所述光源部10，避免杂质对所述光源部10的单元镜组的污染，进而保证单元镜组不会发生雾化，所述基板100的曝光照度及曝光均一性均不会受到影响。因此，本发明所述循环单元30的所述循环件302实现了在所述气体中的杂质浓度小于所述阈值浓度时，将所述储气室301内的气体输送到所述光源部10，实现了所述气体的循环利用，节约了气体，节约了成本。所述第一净化器20可以为化学过滤器。所述浓度监测器40为具有同时监测有机物浓度与元素浓度的检测器。
所述储气室301还连接有与所述第一净化器20间隔设置的第二净化器50，所述第二净化器50用于净化外界的气体。具体为，所述储气室301连接的所述第二净化器50用于净化进入所述循环单元30的气体，即所述第二净化器50将外界的气体进行了过滤，免除了外界带来的杂质对所述光源部10的净化效果的影响，同时减小了所述第一净化器20的净化强度，进而提高了所述第一净化器20的使用寿命。所述第二净化器50可以为化学过滤器。在本实施例中，进入所述第二净化器50的气体为大气。
所述净化装置还包括集气单元60与输入管道150，所述集气单元60通过所述输入管道150与所述第二净化器50连接，所述集气单元60用于收集外界的气体，且所述集气单元60用于为所述循环单元30提供气体。所述净化装置还包括抽气件70，所述抽气件70设于所述输入管道150上，所述抽气件70用于将所述集气单元60中的气体抽送到所述第二净化器50。
具体为，当所述集气单元60收集大气中的气体后，所述输入管道150上的所述抽气件70将所述集气单元60内的气体抽送到所述第二净化器50，所述气体经过所述第二净化器50过滤后进入所述储气室301。且当所述气体进入所述储气室301中时，所述循环件302将所述储气室301中的气体运送到所述光源部10。
所述净化装置还包括第二加压装置80，所述第二加压装置80与所述光源部10连接，所述第二加压装置80用于向所述光源部10施加压力以使所述光源部10内的气体进入所述第一净化器20。具体为，当所述气体进入所述光源部10内与所述光源部10内的杂质混合后，为了使所述光源部10内的气体快速进入所述第一净化器20内，所述第二加压装置80开启将所述气体压入所述第一净化器20内，减少了杂质在所述光源部10内的停留时间，减小了杂质沉积在所述光源部10的单元镜组的概率，进而保证单元镜组不会发生雾化，所述基板100的曝光照度及曝光均一性均不会受到影响。
所述循环单元30连接有温度传感器90，所述温度传感器90用于感应所述循环单元30内的温度。所述循环单元30内设有温度调节件(图中未示出)，所述温度调节件与所述温度传感器90连接，且所述温度调节件用于在所述循环单元30的温度发生变化时调节所述循环单元30的温度。具体为，为了保证所述第一净化器20与所述第二净化器50的净化效果，所述第一净化器20与所述第二净化器50需设置为恒定温度，进而排除温度对过滤效果的影响。因此，需将所述循环单元30的温度调为恒定，则与所述储气室301连接的所述第一净化器20与所述第二净化器50的温度为恒定。同时，为了保证所述气体中的杂质不在所述循环单元30内沉积，所述循环单元30也需设置为温度恒定。且当所述循环单元30的温度恒定，所述气体中杂质不在所述循环单元30内沉积时，省去了对所述循环单元30的清洁，进一步节约了成本。进一步地，当所述循环单元30的温度发生变化时，所述温度传感器90可感应所述循环单元30的温度变化，进而将感应的结果传送给所述温度调节件，所述温度调节件将所述循环单元30的温度调节为预设温度，保证了所述循环单元30的温度恒定，以及保证了与所述储气室301连接的所述第一净化器20与所述第二净化器50的温度恒定。因此，本申请的所述温度传感器90与所述温度调节件保证了所述循环单元30的温度恒定以及保证了所述第一净化器20与所述第二净化器50的温度恒定，进而保证了所述第一净化器20与所述第二净化器50的净化效果，避免了杂质在所述循环单元30内的沉积，省去了对所述循环单元30的清洁，节约了成本。在本实施例中，所述温度传感器90与所述储气室301连接，所述温度调节件设于所述储气室301内。
以上所揭露的仅为本发明较佳实施例而已，当然不能以此来限定本发明之权利范围，本领域普通技术人员可以理解实现上述实施例的全部或部分流程，并依本发明权利要求所作的等同变化，仍属于发明所涵盖的范围。