技术特征：
技术总结
发明提供一种净化装置，用于对曝光机中光源部的净化，包括第一管道、第一净化器以及与所述第一净化器连接的循环单元，所述光源部通过所述第一管道与所述第一净化器连接；其中，进入所述光源部的气体将所述光源部内的杂质带出后进入所述第一管道，所述第一净化器对从所述第一管道输出的气体进行净化处理，并将净化处理后的气体输出到所述循环单元；所述循环单元内的气体在所述循环单元内的气体的杂质浓度大于阈值浓度时被排出。本发明解决了杂质对光源部单元镜组的污染所导致的基板的曝光照度及曝光均一性受到影响的技术问题。
技术研发人员：罗祝义;林晓丹;何鹏达;刘志强;王洪涛
受保护的技术使用者：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
技术研发日：2018.06.27
技术公布日：2018.11.16