技术编号:16151153
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及液浸部件、曝光装置、曝光方法、器件制造方法、程序及记录介质。本申请基于2012年12月27日提出申请的美国临时专利申请第61/746,497号主张优先权,并在此引用其内容。背景技术在光刻工序中所使用的曝光装置中,已知例如下述专利文献1所公开那样的、经由液体并以曝光用光对衬底进行曝光的液浸曝光装置。现有技术文献专利文献专利文献1:美国专利第7864292号发明内容在液浸曝光装置中,若例如液体从规定的空间流出或残留在衬底等物体上,则有可能产生曝光不良。其结果为,有可能产生不良器件。本发明方...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。