本发明涉及液浸部件、曝光装置、曝光方法、器件制造方法、程序及记录介质。
本申请基于2012年12月27日提出申请的美国临时专利申请第61/746,497号主张优先权，并在此引用其内容。
背景技术：
在光刻工序中所使用的曝光装置中，已知例如下述专利文献1所公开那样的、经由液体并以曝光用光对衬底进行曝光的液浸曝光装置。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：美国专利第7864292号
技术实现要素：
在液浸曝光装置中，若例如液体从规定的空间流出或残留在衬底等物体上，则有可能产生曝光不良。其结果为，有可能产生不良器件。
本发明方式的目的在于提供一种能够抑制产生曝光不良的液浸部件、曝光装置、及曝光方法。另外，本发明方式的目的还在于提供一种能够抑制产生不良器件的器件制造方法、程序、及记录介质。
根据本发明的第1方式，提供一种液浸部件，其在液浸曝光装置中使用，能够在与射出曝光用光的光学部件的射出面相对的物体的表面上形成液浸空间，该液浸部件具有：第1部件，其包含配置在曝光用光的光路周围的第1部分，在第1部分上设有能够供曝光用光通过的第1开口部、及配置在第1开口部的周围的至少一部分上且能够与物体的表面相对的第1液体供给部；和第2部件，其具有能够与物体的表面相对的第1液体回收部，能够相对于光路在第1部分的外侧相对于第1部件移动。
根据本发明的第2方式，提供一种液浸部件，其在液浸曝光装置中使用，能够在与射出曝光用光的光学部件的射出面相对的物体的表面上形成液浸空间，该液浸部件具有：第1部件，其包含配置在曝光用光的光路周围的第1部分，在第1部分上设有能够供曝光用光通过的第1开口部；和第2部件，其具有能够与物体的表面相对的第1液体回收部、及关于相对于光学部件的光轴而言的放射方向而配置在第1液体回收部的外侧且能够与物体的表面相对的第1气体供给部，能够相对于光路在第1部分的外侧相对于第1部件移动。
根据本发明的第3方式，提供一种液浸部件，其在液浸曝光装置中使用，能够在与射出曝光用光的光学部件的射出面相对的物体的表面上形成液浸空间，该液浸部件具有：第1部件，其包含配置在曝光用光的光路周围的第1部分，在第1部分上设有能够供曝光用光通过的第1开口部；和第2部件，其具有能够与物体的表面相对的第1液体回收部、及关于相对于光学部件的光轴而言的放射方向而配置在光路与第1液体回收部之间且能够与物体的表面相对的第2液体供给部，能够相对于光路在第1部分的外侧相对于第1部件移动。
根据本发明的第4方式，提供一种液浸部件，其在液浸曝光装置中使用，能够在与射出曝光用光的光学部件的射出面相对的物体的表面上形成液浸空间，该液浸部件具有：第1部件，其包含配置在曝光用光的光路周围的第1部分，在第1部分上设有能够供曝光用光通过的第1开口部；第2部件，其具有能够与物体的表面相对的第1液体回收部，能够相对于光路在第1部分的外侧相对于第1部件移动；和第2液体回收部，其配置在第1部件上，能够回收从物体上流入到第1部件与第2部件之间的间隙中的液体的至少一部分。
根据本发明的第5方式，提供一种液浸部件，其在液浸曝光装置中使用，能够在与射出曝光用光的光学部件的射出面相对的物体的表面上形成液浸空间，该液浸部件具有：第1部件，其包含配置在曝光用光的光路周围的第1部分，在第1部分上设有能够供曝光用光通过的第1开口部；第2部件，其具有能够与物体的表面相对的第1液体回收部，能够相对于光路在第1部分的外侧相对于第1部件移动；和第2液体回收部，其能够回收从物体上流入到第1部件与第2部件之间的间隙中的液体的至少一部分，第1部件与第2部件之间的间隙包含第1尺寸的第1间隙部分、和相对于光学部件的光轴配置在第1间隙部分的外侧且比第1尺寸小的第2尺寸的第2间隙部分，第2液体回收部能够从第1间隙部分回收液体。
根据本发明的第6方式，提供一种曝光装置，其经由液体并以曝光用光对衬底进行曝光，该曝光装置具有第1～第5中任一方式的液浸部件。
根据本发明的第7方式，提供一种曝光装置，其经由液体并以曝光用光对衬底进行曝光，该曝光装置具有：光学部件，其具有射出曝光用光的射出面；液浸部件，其能够在能在光学部件的下方移动的物体上形成液体的液浸空间，具有第1部件和第2部件，其中，该第1部件配置在曝光用光的光路周围的至少一部分上，该第2部件的至少一部分以能够在第1部件的下方与物体相对的方式配置，且该第2部件能够相对于第1部件移动；和气体供给部，其向液浸空间的周围的至少一部分供给气体。
根据本发明的第8方式，提供一种器件制造方法，该方法包含以下步骤：使用第6或第7方式的曝光装置对衬底进行曝光、和对曝光后的衬底进行显影。
根据本发明的第9方式，提供一种曝光方法，其经由射出曝光用光的光学部件的射出面与衬底之间的液体并以曝光用光对衬底进行曝光，该曝光方法包含以下步骤：使用液浸部件在衬底的表面上形成液体的液浸空间，该液浸部件具有第1部件和第2部件，其中，该第1部件包含配置在曝光用光的光路周围的第1部分，在第1部分上设有能够供曝光用光通过的第1开口部、及配置在第1开口部的周围的至少一部分上且能够与衬底的表面相对的第1液体供给部，该第2部件具有能够与衬底的表面相对的第1液体回收部，能够相对于光路在第1部分的外侧相对于第1部件移动；经由液浸空间的液体并以从射出面射出的曝光用光对衬底进行曝光；和在衬底的曝光的至少一部分中，相对于第1部件移动第2部件。
根据本发明的第10方式，提供一种曝光方法，其经由射出曝光用光的光学部件的射出面与衬底之间的液体并以曝光用光对衬底进行曝光，该曝光方法包含以下步骤：使用液浸部件在衬底的表面上形成液体的液浸空间，该液浸部件具有第1部件和第2部件，其中，该第1部件包含配置在曝光用光的光路周围的第1部分，在第1部分上设有能够供曝光用光通过的第1开口部，该第2部件具有能够与物体的表面相对的第1液体回收部、以及关于相对于光学部件的光轴而言的放射方向而配置在第1液体回收部的外侧且能够与物体的表面相对的第1气体供给部，能够相对于光路在第1部分的外侧相对于第1部件移动；经由液浸空间的液体并以从射出面射出的曝光用光对衬底进行曝光；和在衬底的曝光的至少一部分中，相对于第1部件移动第2部件。
根据本发明的第11方式，提供一种曝光方法，其经由射出曝光用光的光学部件的射出面与衬底之间的液体并以曝光用光对衬底进行曝光，该曝光方法包含以下步骤：使用液浸部件在衬底的表面上形成液体的液浸空间，该液浸部件具有第1部件和第2部件，其中，该第1部件包含配置在曝光用光的光路周围的第1部分，在第1部分上设有能够供曝光用光通过的第1开口部，该第2部件具有能够与物体的表面相对的第1液体回收部、以及关于相对于光学部件的光轴而言的放射方向而配置在光路与第1液体回收部之间且能够与物体的表面相对的第2液体供给部，能够相对于光路在第1部分的外侧相对于第1部件移动；经由液浸空间的液体并以从射出面射出的曝光用光对衬底进行曝光；和在衬底的曝光的至少一部分中，相对于第1部件移动第2部件。
根据本发明的第12方式，提供一种曝光方法，其经由射出曝光用光的光学部件的射出面与衬底之间的液体并以曝光用光对衬底进行曝光，该曝光方法包含以下步骤：使用液浸部件在衬底的表面上形成液体的液浸空间，该液浸部件具有第1部件、第2部件和第2液体回收部，其中，该第1部件包含配置在曝光用光的光路周围的第1部分，在第1部分上设有能够供曝光用光通过的第1开口部，该第2部件具有能够与物体的表面相对的第1液体回收部，能够相对于光路在第1部分的外侧相对于第1部件移动，该第2液体回收部配置在第1部件上，且能够回收从物体上流入到第1部件与第2部件之间的间隙中的液体的至少一部分；经由液浸空间的液体并以从射出面射出的曝光用光对衬底进行曝光；和在衬底的曝光的至少一部分中，相对于第1部件移动第2部件。
根据本发明的第13方式，提供一种曝光方法，其经由射出曝光用光的光学部件的射出面与衬底之间的液体并以曝光用光对衬底进行曝光，该曝光方法包含以下步骤：使用液浸部件在衬底的表面上形成液体的液浸空间，该液浸部件具有第1部件、第2部件和第2液体回收部，其中，该第1部件包含配置在曝光用光的光路周围的第1部分，在第1部分上设有能够供曝光用光通过的第1开口部，该第2部件具有能够与物体的表面相对的第1液体回收部，能够相对于光路在第1部分的外侧相对于第1部件移动，该第2液体回收部能够回收从物体上流入到第1部件与第2部件之间的间隙中的液体的至少一部分，第1部件与第2部件之间的间隙包含第1尺寸的第1间隙部分、和相对于光学部件的光轴配置在第1间隙部分的外侧且比第1尺寸小的第2尺寸的第2间隙部分，第2液体回收部能够从第1间隙部分回收液体；经由液浸空间的液体并以从射出面射出的曝光用光对衬底进行曝光；和在衬底的曝光的至少一部分中，相对于第1部件移动第2部件。
根据本发明的第14方式，提供一种曝光方法，其经由射出曝光用光的光学部件的射出面与衬底之间的液体并以曝光用光对衬底进行曝光，该曝光方法包含以下步骤：使用第1液浸部件在能够在光学部件的下方移动的衬底上形成液体的液浸空间，该第1液浸部件具有第1部件和第2部件，其中，该第1部件配置在曝光用光的光路周围的至少一部分上，该第2部件的至少一部分以能够在第1部件的下方与物体相对的方式配置，且该第2部件相对于第1部件可动；经由液浸空间的液体并以从射出面射出的曝光用光对衬底进行曝光；在衬底的曝光的至少一部分中，相对于第1部件移动第2部件；和从气体供给部向液浸空间的周围的至少一部分供给气体。
根据本发明的第15方式，提供一种器件制造方法，该方法包含以下步骤：使用第9～第14中任一方式的曝光方法对衬底进行曝光、和对曝光后的衬底进行显影。
根据本发明的第16方式，提供一种程序，其使计算机执行液浸曝光装置的控制，其中液浸曝光装置经由射出曝光用光的光学部件的射出面与衬底之间的液体并以曝光用光对衬底进行曝光，该程序执行以下步骤：使用液浸部件在衬底的表面上形成液体的液浸空间，该液浸部件具有第1部件和第2部件，其中，该第1部件包含配置在曝光用光的光路周围的第1部分，在第1部分上设有能够供曝光用光通过的第1开口部、及配置在第1开口部的周围的至少一部分上且能够与衬底的表面相对的第1液体供给部，该第2部件具有能够与衬底的表面相对的第1液体回收部，能够相对于光路在第1部分的外侧相对于第1部件移动；经由液浸空间的液体并以从射出面射出的曝光用光对衬底进行曝光；和在衬底的曝光的至少一部分中，相对于第1部件移动第2部件。
根据本发明的第17方式，提供一种程序，其使计算机执行液浸曝光装置的控制，其中液浸曝光装置经由射出曝光用光的光学部件的射出面与衬底之间的液体并以曝光用光对衬底进行曝光，该程序执行以下步骤：使用液浸部件在衬底的表面上形成液体的液浸空间，该液浸部件具有第1部件和第2部件，其中，该第1部件包含配置在曝光用光的光路周围的第1部分，在第1部分上设有能够供曝光用光通过的第1开口部，该第2部件具有能够与物体的表面相对的第1液体回收部、以及关于相对于光学部件的光轴而言的放射方向而配置在第1液体回收部的外侧且能够与物体的表面相对的第1气体供给部，能够相对于光路在第1部分的外侧相对于第1部件移动；经由液浸空间的液体并以从射出面射出的曝光用光对衬底进行曝光；和在衬底的曝光的至少一部分中，相对于第1部件移动第2部件。
根据本发明的第18方式，提供一种程序，其使计算机执行液浸曝光装置的控制，其中液浸曝光装置经由射出曝光用光的光学部件的射出面与衬底之间的液体并以曝光用光对衬底进行曝光，该程序执行以下步骤：使用液浸部件在衬底的表面上形成液体的液浸空间，该液浸部件具有第1部件和第2部件，其中，该第1部件包含配置在曝光用光的光路周围的第1部分，在第1部分上设有能够供曝光用光通过的第1开口部，该第2部件具有能够与物体的表面相对的第1液体回收部、以及关于相对于光学部件的光轴而言的放射方向而配置在光路与第1液体回收部之间且能够与物体的表面相对的第2液体供给部，能够相对于光路在第1部分的外侧相对于第1部件移动；经由液浸空间的液体并以从射出面射出的曝光用光对衬底进行曝光；和在衬底的曝光的至少一部分中，相对于第1部件移动第2部件。
根据本发明的第19方式，提供一种程序，其使计算机执行液浸曝光装置的控制，其中液浸曝光装置经由射出曝光用光的光学部件的射出面与衬底之间的液体并以曝光用光对衬底进行曝光，该程序执行以下步骤：使用液浸部件在衬底的表面上形成液体的液浸空间，该液浸部件具有第1部件、第2部件和第2液体回收部，其中该第1部件包含配置在曝光用光的光路周围的第1部分，在第1部分上设有能够供曝光用光通过的第1开口部，该第2部件具有能够与物体的表面相对的第1液体回收部，能够相对于光路在第1部分的外侧相对于第1部件移动，该第2液体回收部配置在第1部件上，能够回收从物体上流入到第1部件与第2部件之间的间隙中的液体的至少一部分；经由液浸空间的液体并以从射出面射出的曝光用光对衬底进行曝光；和在衬底的曝光的至少一部分中，相对于第1部件移动第2部件。
根据本发明的第20方式，提供一种程序，其使计算机执行液浸曝光装置的控制，其中液浸曝光装置经由射出曝光用光的光学部件的射出面与衬底之间的液体并以曝光用光对衬底进行曝光，该程序执行以下步骤：使用液浸部件在衬底的表面上形成液体的液浸空间，该液浸部件具有第1部件、第2部件和第2液体回收部，其中，该第1部件包含配置在曝光用光的光路周围的第1部分，在第1部分上设有能够供曝光用光通过的第1开口部，该第2部件具有能够与物体的表面相对的第1液体回收部，能够相对于光路在第1部分的外侧相对于第1部件移动，该第2液体回收部能够回收从物体上流入到第1部件与第2部件之间的间隙中的液体的至少一部分，第1部件与第2部件之间的间隙包含第1尺寸的第1间隙部分、和相对于光学部件的光轴配置在第1间隙部分的外侧且比第1尺寸小的第2尺寸的第2间隙部分，第2液体回收部能够从第1间隙部分回收液体；经由液浸空间的液体并以从射出面射出的曝光用光对衬底进行曝光；和在衬底的曝光的至少一部分中，相对于第1部件移动第2部件。
根据本发明的第21方式，提供一种程序，其使计算机执行液浸曝光装置的控制，其中液浸曝光装置经由射出曝光用光的光学部件的射出面与衬底之间的液体并以曝光用光对衬底进行曝光，该程序执行以下步骤：使用第1液浸部件在能够在光学部件的下方移动的衬底上形成液体的液浸空间，该第1液浸部件具有第1部件和第2部件，其中，该第1部件配置在曝光用光的光路周围的至少一部分上，该第2部件的至少一部分以能够在第1部件的下方与物体相对的方式配置，且该第2部件相对于第1部件可动；经由液浸空间的液体并以从射出面射出的曝光用光对衬底进行曝光；在衬底的曝光的至少一部分中，相对于第1部件移动第2部件；和从气体供给部向液浸空间的周围的至少一部分供给气体。
根据本发明的第22方式，提供一种记录介质，是计算机能够读取的记录介质，其记录了第16～第21中任一方式的程序。
发明效果
根据本发明的方式，能够抑制曝光不良的产生。另外，根据本发明的方式，能够抑制不良器件的产生。
附图说明
图1是表示第1实施方式的曝光装置的一个例子的图。
图2是表示第1实施方式的液浸部件的一个例子的侧剖视图。
图3是表示第1实施方式的液浸部件的一部分的侧剖视图。
图4是第1实施方式的液浸部件的从下方观察到的图。
图5是第1实施方式的第1部件的从下方观察到的图。
图6是用于说明第1实施方式的曝光装置的动作的一个例子的图。
图7是用于说明第1实施方式的第2部件的动作的一个例子的图。
图8是用于说明第1实施方式的曝光装置的动作的一个例子的图。
图9是用于说明第1实施方式的曝光装置的动作的一个例子的图。
图10是用于说明第1实施方式的曝光装置的动作的一个例子的图。
图11是表示第2实施方式的第2部件的一个例子的图。
图12是表示第2实施方式的第2部件的一个例子的图。
图13是表示第2实施方式的第2部件的一个例子的图。
图14是表示第2实施方式的第2部件的一个例子的图。
图15是表示第2实施方式的第2部件的一个例子的图。
图16是表示第2实施方式的第2部件的一个例子的图。
图17是表示第3实施方式的液浸部件的一个例子的图。
图18是表示第4实施方式的液浸部件的一个例子的图。
图19是表示第5实施方式的液浸部件的一个例子的图。
图20是表示第6实施方式的液浸部件的一个例子的图。
图21是用于说明第7实施方式的液浸部件的一个例子的图。
图22是表示第8实施方式的液浸部件的一个例子的图。
图23是表示第9实施方式的液浸部件的一个例子的图。
图24是用于说明第10实施方式的曝光装置的动作的一个例子的图。
图25是表示第11实施方式的液浸部件的一部分的侧剖视图。
图26是第11实施方式的液浸部件的从下方观察到的图。
图27是用于说明第11实施方式的液浸部件的动作的一个例子的图。
图28是表示第11实施方式的液浸部件的一部分的侧剖视图。
图29是表示第11实施方式的液浸部件的一部分的侧剖视图。
图30是表示第11实施方式的液浸部件的一部分的侧剖视图。
图31是表示衬底载台的一个例子的图。
图32是用于说明器件的制造方法的一个例子的流程图。
具体实施方式
以下参照附图说明本发明的实施方式，但是本发明并不限定于此。在以下的说明中，设定XYZ正交坐标系，并参照该XYZ正交坐标系对各部分的位置关系进行说明。将水平面内的规定方向设为X轴方向，将在水平面内与X轴方向正交的方向设为Y轴方向，将与X轴方向及Y轴方向分别正交的方向(即铅垂方向)设为Z轴方向。另外，将绕X轴、Y轴及Z轴的旋转(倾斜)方向分别设为θX、θY及θZ方向。
＜第1实施方式＞
说明第1实施方式。图1是表示第1实施方式的曝光装置EX的一个例子的概略构成图。本实施方式的曝光装置EX是经由液体LQ并以曝光用光EL对衬底P进行曝光的液浸曝光装置。在本实施方式中，以向衬底P照射的曝光用光EL的光路中被液体LQ充满的方式形成液浸空间LS。所谓液浸空间LS是指被液体充满的部分(空间、区域)。衬底P经由液浸空间LS的液体LQ而被曝光用光EL曝光。在本实施方式中，作为液体LQ，使用水(纯水)。
本实施方式的曝光装置EX是例如美国专利第6897963号及欧洲专利申请公开第1713113号等所公开那样的、具有衬底载台和计测载台的曝光装置。
在图1中，曝光装置EX具有：光罩载台1，其保持光罩M且能够移动；衬底载台2，其保持衬底P且能够移动；计测载台3，其不保持衬底P而搭载有对曝光用光EL进行计测的计测部件(计测器)C且能够移动；计测系统4，其对衬底载台2及计测载台3的位置进行计测；照明系统IL，其以曝光用光EL对光罩M进行照明；投影光学系统PL，其将以曝光用光EL照明了的光罩M的图案的像投影到衬底P上；液浸部件5，其形成液体LQ的液浸空间LS；控制装置6，其控制曝光装置EX整体的动作；和存储装置7，其与控制装置6连接，且存储与曝光相关的各种信息。
另外，曝光装置EX具有：基准框架8A，其支承投影光学系统PL、及包含计测系统4在内的各种计测系统；装置框架8B，其支承基准框架8A；和防振装置10，其配置在基准框架8A与装置框架8B之间，且抑制振动从装置框架8B向基准框架8A的传递。防振装置10包含弹簧装置等。在本实施方式中，防振装置10包含气体弹簧(例如空气弹簧(air mount))。此外，也可以将检测衬底P的对准标记的检测系统及检测衬底P等物体的表面的位置的检测系统中的一方或双方支承在基准框架8A上。
另外，曝光装置EX具有对曝光用光EL所行进的空间CS的环境(温度、湿度、压力及洁净度中的至少一个)进行调整的处理腔装置9。处理腔装置9具有向空间CS供给气体Gs的空调装置9S。空调装置9S将调整了温度、湿度及洁净度的气体Gs供给至空间CS。
在空间CS中至少配置有投影光学系统PL、液浸部件5、衬底载台2及计测载台3。在本实施方式中，光罩载台1及照明系统IL的至少一部分也配置在空间CS中。
光罩M包含标线片，该标线片上形成有被投影到衬底P上的器件图案。光罩M包含透过型光罩，该透过型光罩具有例如玻璃板等透明板、和在该透明板上使用铬等遮光材料形成的图案。此外，作为光罩M，也能够使用反射型光罩。
衬底P是用于制造器件的衬底。衬底P包含例如半导体晶片等基材、和在该基材上形成的感光膜。感光膜是感光材料(光致抗蚀剂)的膜。另外，衬底P除了感光膜以外也可以包含其他的膜。例如，衬底P既可以包含防止反射膜，也可以包含保护感光膜的保护膜(表面涂覆(topcoat)膜)。
照明系统IL对照明区域IR照射曝光用光EL。照明区域IR包含从照明系统IL射出的曝光用光EL所能够照射的位置。照明系统IL以均一照度分布的曝光用光EL对配置在照明区域IR中的光罩M的至少一部分进行照明。作为从照明系统IL射出的曝光用光EL，例如使用从水银灯射出的辉线(g线、h线、i线)及KrF准分子激光光(波长248nm)等远紫外光(DUV光)、ArF准分子激光光(波长193nm)及F2激光光(波长157nm)等真空紫外光(VUV光)等。在本实施方式中，作为曝光用光EL，使用作为紫外光(真空紫外光)的ArF准分子激光光。
光罩载台1能够在保持着光罩M的状态下移动。光罩载台1通过包含例如美国专利第6452292号所公开那样的平面马达在内的驱动系统11的动作而移动。在本实施方式中，光罩载台1通过驱动系统11的动作而能够在X轴、Y轴、Z轴、θX、θY及θZ方向这六个方向上移动。此外，驱动系统11也可以不包含平面马达。驱动系统11也可以包含线性马达。
投影光学系统PL向投影区域PR照射曝光用光EL。投影区域PR包含从投影光学系统PL射出的曝光用光EL所能够照射的位置。投影光学系统PL将光罩M的图案的像以规定的投影倍率投影到配置在投影区域PR中的衬底P的至少一部分上。在本实施方式中，投影光学系统PL是缩小系统。投影光学系统PL的投影倍率是1/4。此外，投影光学系统PL的投影倍率也可以是1/5、或1/8等。此外，投影光学系统PL也可以是等倍系统及扩大系统中的任一个。在本实施方式中，投影光学系统PL的光轴与Z轴平行。投影光学系统PL可以是不包含反射光学元件的折射系统、不包含折射光学元件的反射系统、包含反射光学元件和折射光学元件的反射折射系统中的任一个。投影光学系统PL可以形成倒立像及正立像中的任一个。
投影光学系统PL包含终端光学元件13，该终端光学元件13具有射出曝光用光EL的射出面12。射出面12朝向投影光学系统PL的像面射出曝光用光EL。终端光学元件13是投影光学系统PL的多个光学元件中的、最接近投影光学系统PL的像面的光学元件。投影区域PR包含从射出面12射出的曝光用光EL所能够照射的位置。在本实施方式中，射出面12朝向-Z轴方向。从射出面12射出的曝光用光EL向-Z轴方向行进。射出面12与XY平面平行。此外，朝向-Z轴方向的射出面12既可以是凸面，也可以是凹面。此外，射出面12既可以相对于XY平面倾斜，也可以包含曲面。在本实施方式中，终端光学元件13的光轴AX与Z轴平行。
关于与终端光学元件13的光轴AX平行的方向，射出面12侧是-Z侧，入射面侧是+Z侧。关于与投影光学系统PL的光轴平行的方向，投影光学系统PL的像面侧是-Z侧，投影光学系统PL的物体面侧是+Z侧。在本实施方式中，射出面12侧(像面侧)是下侧(下方)，入射面侧(物体面侧)是上侧(上方)。
衬底载台2在保持着衬底P的状态下，能够在包含来自射出面12的曝光用光EL所能够照射的位置(投影区域PR)的XY平面内移动。计测载台3在搭载了计测部件(计测器)C的状态下，能够在包含来自射出面12的曝光用光EL所能够照射的位置(投影区域PR)的XY平面内移动。衬底载台2及计测载台3分别能够在基座部件14的引导面14G上移动。引导面14G与XY平面实质上是平行的。
衬底载台2具有例如美国专利申请公开第2007/0177125号、美国专利申请公开第2008/0049209号等所公开那样的第1保持部和第2保持部，其中，第1保持部以能够释放衬底P的方式保持衬底P，第2保持部配置在第1保持部的周围，且以能够释放罩盖部件T的方式保持罩盖部件T。第1保持部以使衬底P的表面(上表面)与XY平面实质上平行的方式保持衬底P。保持在第1保持部上的衬底P的上表面、与保持在第2保持部上的罩盖部件T的上表面实质上配置在同一平面内。关于Z轴方向，射出面12与保持在第1保持部上的衬底P的上表面之间的距离同射出面12与保持在第2保持部上的罩盖部件T的上表面之间的距离实质上相等。
此外，关于Z轴方向，射出面12与衬底P的上表面之间的距离同射出面12与罩盖部件T的上表面之间的距离实质上相等包含如下情况：射出面12与衬底P的上表面之间的距离同射出面12与罩盖部件T的上表面之间的距离之差为衬底P曝光时的射出面12与衬底P的上表面之间的距离(所谓的工作距离)的例如10％以内的情况。此外，保持在第1保持部上的衬底P的上表面、与保持在第2保持部上的罩盖部件T的上表面也可以不配置在同一平面内。例如，关于Z轴方向，衬底P的上表面的位置与罩盖部件T的上表面的位置也可以不同。例如，衬底P的上表面与罩盖部件T的上表面之间可以具有层差。此外，罩盖部件T的上表面也可以相对于衬底P的上表面倾斜。罩盖部件T的上表面也可以包含曲面。
衬底载台2及计测载台3通过包含例如美国专利第6452292号所公开那样的平面马达在内的驱动系统15的动作而移动。驱动系统15具有：配置在衬底载台2上的可动件2C、配置在计测载台3上的可动件3C、和配置在基座部件14上的固定件14M。衬底载台2及计测载台3分别通过驱动系统15的动作而能够在引导面14G上沿X轴、Y轴、Z轴、θX、θY及θZ轴方向这六个方向移动。此外，驱动系统15也可以不包含平面马达。驱动系统15也可以包含线性马达。
计测系统4包含干涉仪系统。干涉仪系统包含对衬底载台2的计测镜及计测载台3的计测镜照射计测光而对该衬底载台2及计测载台3的位置进行计测的单元。此外，计测系统也可以包含例如美国专利申请公开第2007/0288121号所公开那样的编码器系统。此外，计测系统4也可以仅包含干涉仪系统及编码器系统中的任意一方。
在执行衬底P的曝光处理时、或在执行规定的计测处理时，控制装置6基于计测系统4的计测结果，来执行衬底载台2(衬底P)及计测载台3(计测部件C)的位置控制。
接下来说明本实施方式的液浸部件5。此外，也可以将液浸部件称为喷嘴部件。图2是与XZ平面平行的、终端光学元件13及液浸部件5的剖视图。图3是图2的局部放大图。图4是液浸部件5的从下侧(-Z侧)观察到的图。图5是液浸部件5的第1部件21的从下侧(-Z侧)观察到的图。
终端光学元件13具有：朝向-Z轴方向的射出面12、和配置在射出面12周围的外表面131。曝光用光EL从射出面12射出。曝光用光EL不从外表面131射出。曝光用光EL从射出面12通过而不从外表面131通过。外表面131是不射出曝光用光EL的非射出面。在本实施方式中，外表面131关于相对于终端光学元件13的光轴AX而言的放射方向，朝向外侧且向上方倾斜。
液浸部件5在能够在终端光学元件13的下方移动的物体的表面(上表面)上形成液体LQ的液浸空间LS。
能够在终端光学元件13的下方移动的物体可在包含与射出面12相对的位置在内的XY平面内移动。该物体的表面(上表面)能够与射出面12相对，且能够配置在投影区域PR中。该物体能够在液浸部件5的下方移动，且能够与液浸部件5相对。
在本实施方式中，该物体包含衬底载台2的至少一部分(例如衬底载台2的罩盖部件T)、保持在衬底载台2(第1保持部)上的衬底P、及计测载台3中的至少一个。
以在衬底P的曝光中终端光学元件13的射出面12与衬底P之间的曝光用光EL的光路K被液体LQ充满的方式形成液浸空间LS。以当在衬底P上照射有曝光用光EL时，仅包含投影区域PR的衬底P的表面的一部分区域被液体LQ覆盖的方式形成液浸空间LS。
在以下的说明中，物体为衬底P。此外，如上所述，物体还可以是衬底载台2及计测载台3中的至少一方，也可以是与衬底P、衬底载台2及计测载台3不同的物体。
液浸空间LS存在以跨着两个物体的方式形成的情况。例如，液浸空间LS存在以跨着衬底载台2的罩盖部件T和衬底P的方式形成的情况。液浸空间LS存在以跨着衬底载台2和计测载台3的方式形成的情况。
液浸空间LS以从终端光学元件13的射出面12射出的曝光用光EL的光路K被液体LQ充满的方式形成。液浸空间LS的至少一部分形成在终端光学元件13与衬底P(物体)之间的空间中。液浸空间LS的至少一部分形成在液浸部件5与衬底P(物体)之间的空间中。
液浸部件5具有：第1部件21，其包含配置在曝光用光EL的光路周围的至少一部分上的第1部分211；和第2部件22，其至少一部分相对于光路K配置在第1部分211的外侧。第2部件22能够相对于曝光用光EL的光路在第1部分211的外侧相对于第1部件21移动。
在本实施方式中，第1部分211配置在从射出面12射出的曝光用光EL的光路K的周围的至少一部分上。此外，第1部分211也可以配置在从射出面12射出的曝光用光EL的光路K的周围的至少一部分上、以及终端光学元件13中的曝光用光EL的光路KL(在终端光学元件13中行进的曝光用光EL的光路KL)的周围的至少一部分上。换言之，在本实施方式中，曝光用光EL的光路既可以是包含射出面12与衬底P(物体)之间的曝光用光EL的光路K的概念，也可以是包含终端光学元件13中的曝光用光EL的光路KL的概念。第1部分211既可以是配置在光路K的周围的至少一部分上的部分，也可以是配置在光路K及光路KL(光路K及终端光学元件13)的周围的至少一部分上的部分。
第1部件21的第1部分211包含第1部件21的最下部。第1部件21的第1部分211包含第1部件21的、最接近衬底P(物体)的表面(上表面)的部位。在本实施方式中，第1部件21的第1部分211与终端光学元件13的射出面12相比配置在下方。此外，也可以是第1部分211的至少一部分与射出面12相比配置在上方的概念。
第2部件22是能够移动的可动部件。终端光学元件13实质上不移动。第1部件21实质上也不移动。第1部件21相对于终端光学元件13实质上不移动。
第1部件21以不与终端光学元件13接触的方式配置。在终端光学元件13与第1部件21之间形成有间隙。第2部件22以不与终端光学元件13及第1部件21接触的方式配置。在第1部件21与第2部件22之间形成有间隙。第2部件22以不与终端光学元件13及第1部件21接触的方式移动。
衬底P(物体)能够隔着间隙与终端光学元件13的至少一部分相对。衬底P(物体)能够隔着间隙与第1部件21的至少一部分相对。衬底P(物体)能够隔着间隙与第2部件22的至少一部分相对。衬底P(物体)能够在终端光学元件13、第1部件21及第2部件22的下方移动。
第1部件21的至少一部分隔着间隙与终端光学元件13相对。在本实施方式中，第1部件21与外表面131相对，而不与射出面12相对。
第2部件22的至少一部分隔着间隙与第1部件21相对。第2部件22不与终端光学元件13相对。在第2部件22与终端光学元件13之间配置第1部件21。
第1部件21包含：第1部分211，其配置在光路K的周围的至少一部分上；和第2部分212，其配置在终端光学元件13的周围的至少一部分上。第2部分212配置在第1部分211的上方。在本实施方式中，第1部件21是环状的部件。第1部分211配置在光路K的周围。第2部件212配置在终端光学元件13的周围。
第1部件21具有：能够供从射出面12射出的曝光用光EL通过的第1开口部23；配置在第1开口部23的周围、且朝向-Z轴方向的下表面24；至少一部分与终端光学元件13的外表面131相对的内表面25；朝向内表面25的相反方向的外表面26；朝向+Z轴方向的上表面27；朝向上表面27的相反方向的下表面28；和关于相对于光轴AX而言的放射方向而朝向外侧的外表面29。
下表面24配置在第1开口部23的下端的周围。衬底P(物体)的表面(上表面)能够与下表面24相对。下表面24不与第2部件22相对。第1开口部23及下表面24设在第1部分211上。
内表面25的至少一部分隔着间隙与外表面131相对。内表面25的一部分(下部)配置在光路K的周围。内表面25的一部分(上部)配置在终端光学元件13的周围。第1部分211包含内表面25的一部分(下部)，第2部分212包含内表面25的一部分(上部)。
外表面26的至少一部分隔着间隙与第2部件22相对。第1部分211包含外表面26的一部分(下部)，第2部分212包含外表面26的一部分(上部)。
下表面24以将内表面25的下端与外表面26的下端连结的方式配置。下表面24的内缘与内表面25的下端连结。下表面24的外缘与外表面26的下端连结。
上表面27面向空间CS。上表面27不与第2部件22相对。上表面27与内表面25的上端连结。上表面27配置在内表面25的上端的周围。第2部分212包含上表面27。
下表面28的至少一部分隔着间隙与第2部件22相对。下表面28与外表面26的上端连结。下表面28配置在上表面26的上端的周围。第2部分212包含下表面28。
外表面29面向空间CS。外表面29不与第2部件22相对。外表面29以将上表面27的外缘与下表面28的外缘连结的方式配置。第2部分212包含外表面29。
下表面24、内表面25、外表面26、上表面27、下表面28及外表面29分别是无法回收液体LQ的非回收部。下表面24能够在其与衬底P(物体)之间保持液体LQ。内表面25能够在其与终端光学元件13之间保持液体LQ。外表面26及下表面28能够在其与第2部件22之间保持液体LQ。
在以下的说明中，将具有下表面24、内表面25及外表面26的第1部件21的一部分适当称为包围部213，将具有上表面27、下表面28及外表面29的第1部件21的一部分适当称为上板部214。
包围部213的至少一部分与终端光学元件13的外表面131相对。包围部213配置在光路K及终端光学元件13(光路KL)的周围。上板部214配置在包围部213的上方。上板部214与包围部213的上端连结。包围部213包含第1部分211。包围部213包含第2部分212的一部分。上板部214包含第2部分212的一部分。在上板部214(第2部分212)的下方配置第2部件22。此外，包围部213也可以不包含第2部分212。此外，上板部214也可以包含第1部分211。
下表面24与射出面12相比配置在下方。下表面24同与终端光学元件13的光轴AX(Z轴)垂直的平面(XY平面)实质上平行。
内表面25与下表面24相比配置在上方。内表面25的至少一部分关于相对于光轴AX而言的放射方向而朝向外侧且向上方倾斜。在本实施方式中，内表面25包含：区域251，其与下表面24的内缘连结，且与光轴AX(Z轴)实质上平行；和区域252，其与区域251相比配置在上方，且关于相对于光轴AX而言的放射方向而朝向外侧且向上方倾斜。关于Z轴方向，区域252的尺寸比区域251的尺寸大。
外表面26与下表面24相比配置在上方。外表面26的至少一部分关于相对于光轴AX而言的放射方向而朝向外侧且向上方倾斜。外表面26关于相对于光轴AX而言的放射方向而与下表面24相比配置在外侧。
上表面27与下表面24、内表面25、外表面26及下表面28相比配置在上方。上表面27与XY平面实质上平行。
下表面28与下表面24及外表面26相比配置在上方。下表面28关于相对于光轴AX而言的放射方向而与下表面24及外表面26相比配置在外侧。在下表面26与下表面28之间形成有层差。下表面28与XY平面实质上平行。
第2部件22以包围第1部分211及第2部分212的至少一部分的方式配置。此外，第2部件22也可以以包围第1部分211的至少一部分的方式配置而不包围第2部分212。在本实施方式中，第2部件22是环状的部件。
在本实施方式中，第2部件22配置在包围部213的外侧。第2部件22的至少一部分配置在上板部214的下方。换言之，第2部件22的至少一部分配置在上板部214与衬底P(物体)之间。在本实施方式中，第2部件22在上板部214的下方配置在包围部213的外侧的空间。第2部件22在上板部214的下方且在包围部213的外侧的空间中移动。
第2部件22具有：能够供从射出面12射出的曝光用光EL通过的第2开口部30；配置在第2开口部30的周围且朝向-Z轴方向的下表面31；至少一部分与第1部件21的外表面26相对的内表面32；至少一部分朝向+Z轴方向的上表面33；和关于相对于光轴AX而言的放射方向而朝向外侧的外表面34。
在XY平面内，第2开口部30比第1开口部23大。在第2开口部30的内侧配置有光路K及第1部件21的至少一部分。在本实施方式中，在第2开口部30的内侧配置有第1部件21的第1部分211。
在以下的说明中，将第1部件21与第2部件22之间的间隙的一端(下端)的开口部适当地称为开口部301。开口部301配置在第1部分211与第2部件22之间。开口部301配置在下表面24的外缘与下表面31的内缘之间。第1部件21与第2部件22之间的间隙的一端(开口部301)以与衬底P(物体)的表面(上表面)相对的方式配置。衬底P(物体)上的液体LQ能够从开口部301流入到第1部件21与第2部件22之间的间隙。
下表面31配置在第2开口部30(开口部301)的下端的周围。在本实施方式中，下表面31配置在下表面24的周围。衬底P(物体)的表面(上表面)能够与下表面31相对。开口部301配置在下表面24与下表面31之间。
内表面32的至少一部分隔着间隙与第1部件21相对。在本实施方式中，内表面32的至少一部分隔着间隙与外表面26相对。内表面32的至少一部分配置在包围部213的周围。下表面31的内缘与内表面32的下端连结。
上表面33的至少一部分隔着间隙与第1部件21相对。上表面33与内表面32的上端连结。上表面33配置在内表面32的上端的周围。
外表面34面向空间CS。外表面34不与第1部件21相对。外表面34以将上表面33的外缘与下表面31的外缘连结的方式配置。
下表面31、内表面32、上表面33及外表面34分别是无法回收液体LQ的非回收部。下表面31能够在其与衬底P(物体)之间保持液体LQ。内表面32及上表面33能够在其与第1部件21之间保持液体LQ。
下表面31与射出面12相比配置在下方。下表面31同与终端光学元件13的光轴AX(Z轴)垂直的平面(XY平面)实质上平行。在本实施方式中，下表面24和下表面31配置在同一平面内(为同一平面)。
内表面32与下表面31相比配置在上方。内表面32的至少一部分关于相对于光轴AX而言的放射方向而朝向外侧且向上方倾斜。在本实施方式中，内表面32包含：区域321，其与下表面31的内缘连结且与光轴AX(Z轴)实质上平行；和区域322，其与区域321相比配置在上方并关于相对于光轴AX而言的放射方向而朝向外侧且向上方倾斜。关于Z轴方向，区域322的尺寸比区域321的尺寸大。
上表面33与下表面31及外表面32相比配置在上方。上表面33关于相对于光轴AX而言的放射方向而与内表面32相比配置在外侧。在本实施方式中，上表面33包含：区域331，其与内表面32的上端连结；和区域332，其关于相对于光轴AX而言的放射方向而配置在区域331的外侧，且与区域331相比配置在上方。在本实施方式中，关于相对于光轴AX而言的放射方向，区域332的尺寸比区域331的尺寸小。区域331与XY平面实质上平行。区域332与XY平面实质上平行。在区域331与区域332之间形成有层差。
在本实施方式中，第2部件22在区域331的周围具有凸部(壁部)333。区域332包含凸部333的上表面。
如图4所示，在XY平面内，第1开口部23实质上为圆形。第2开口部30也实质上为圆形。开口部301为环状(圆环状)。
如图4所示，在XY平面内，第1部件21的外形实质上为圆形。第2部件22的外形为四边形。区域332为环状(圆环状)。
在以下的说明中，将射出面12所面向的空间适当地称为光路空间SPK。光路空间SPK是射出面12侧的空间。光路空间SPK是终端光学元件13与衬底P(物体)之间的空间。光路空间SPK是包含射出面12与衬底P(物体)的上表面之间的光路K的空间。
另外，将下表面24所面向的空间适当地称为第1空间SP1。第1空间SP1是下表面24侧的空间。第1空间SP1是第1部件21与衬底P(物体)之间的空间。第1空间SP1是下表面24与衬底P(物体)的上表面之间的空间。
另外，将下表面31所面向的空间适当地称为第2空间SP2。第2空间SP2是下表面31侧的空间。第2空间SP2是第2部件22与衬底P(物体)之间的空间。第2空间SP2是下表面31与衬底P(物体)的上表面之间的空间。
此外，在本实施方式中，第2空间SP2的Z轴方向上的尺寸、即Z轴方向上的下表面31与衬底P(物体)的上表面之间的距离为0.1mm～0.2mm。
另外，将内表面25所面向的空间适当地称为第3空间SP3。第3空间SP3是内表面25侧的空间。第3空间SP3是第1部件21与终端光学元件13之间的空间。第3空间SP3是内表面25与外表面131之间的空间。
另外，将内表面32及上表面33所面向的空间适当地称为第4空间SP4。第4空间SP4是内表面32及上表面33所面向的空间。第4空间SP4是第1部件21与第2部件22之间的间隙(空间)。第4空间SP4是内表面32及上表面33、与外表面26及下表面28之间的空间。
另外，将第4空间SP4中的、包围部213(第1部分211)与第2部件22之间的空间适当地称为空间SP4a，将上板部214(第2部分212)与第2部件22之间的空间SP4适当地称为空间SP4b。
在本实施方式中，第1部件21与第2部件22之间的间隙(第4空间SP4)包含：尺寸为Ha的第1间隙部分；和相对于终端光学元件13的光轴AX配置在第1间隙部分的外侧、且比尺寸Ha小的尺寸为Hb的第2间隙部分。
在本实施方式中，第1间隙部分包含区域331与下表面28之间的间隙(空间)。第2间隙部分包含区域332与下表面28之间的间隙(空间)。规定第2间隙部分的第1部件21的下表面28、和与该下表面28相对的第2部件22的区域332与XY平面实质上平行。
在本实施方式中，面向第1部件21与第2部件22之间的间隙(第4空间SP4)的第1部件21的表面及第2部件22的表面中的一方或双方的至少一部分可以相对于液体LQ具有疏液性。例如，第2部件22的上表面33可以相对于液体LQ具有疏液性。第1部件21的下表面28可以相对于液体LQ具有疏液性。相对于液体LQ具有疏液性的表面包含例如相对于液体LQ的接触角为90度以上的表面。此外，相对于液体LQ具有疏液性的表面可以是例如相对于液体LQ的接触角为100度以上的表面，可以是110度以上的表面，也可以是120度以上的表面。相对于液体LQ具有疏液性的表面包含相对于液体LQ具有疏液性的膜的表面。该膜可以是例如含氟树脂膜。例如，上表面33可以是含氟树脂膜的表面。下表面28可以是含氟树脂膜的表面。相对于液体LQ具有疏液性的膜也可以是包含PFA(Tetra fluoro ethylene-perfluoro alkylvinyl ether copolymer)的膜。相对于液体LQ具有疏液性的膜还可以是包含PTFE(Poly tetra fluoroethylene)的膜。
在本实施方式中，液浸空间LS的液体LQ的界面LG的一部分形成在第2部件22与衬底P(物体)之间。液浸空间LS的液体LQ的界面LG的一部分形成在第1部件21与第2部件22之间。液浸空间LS的液体LQ的界面LG的一部分形成在终端光学元件13与第1部件21之间。
在以下的说明中，将形成在第2部件22与衬底P(物体)之间的界面LG适当地称为第1界面LG1。将形成在第1部件21与第2部件22之间的液体LQ的界面LG适当地称为第2界面LG2。将形成在终端光学元件13与第1部件21之间的界面LG适当地称为第3界面LG3。
液浸部件5具有：能够供给液体LQ的第1液体供给部41、第2液体供给部42及第3液体供给部43；能够回收液体LQ的第1液体回收部51、第2液体回收部52及第3液体回收部53；和能够供给气体的第1气体供给部61。
第1液体供给部41配置在第1部件21的第1部分211上。第1液体供给部41配置在第1开口部23的周围的至少一部分上。第1液体供给部41以能够与衬底P(物体)的上表面相对的方式配置。第1液体供给部41以面向第1空间SP1的方式配置。第1液体供给部41配置在下表面24上。
在本实施方式中，第1液体供给部41包含配置在下表面24上且能够供给液体LQ的开口(第1液体供给口)41M。如图4所示，第1液体供给口41M在下表面24上配置多个。第1液体供给口41M以包围光路K的方式配置多个。第1液体供给口41M在光路K的周围隔开间隔地配置多个。在本实施方式中，多个第1液体供给口41M以在XY平面内沿着圆形的假想线的方式配置。
第1液体供给部41(第1液体供给口41M)经由形成在第1部件21的内部的供给流路41R而与液体供给装置(未图示)连接。液体供给装置包含使所供给的液体LQ变得洁净的过滤装置、及能够调整所供给的液体LQ的温度的温度调整装置等，能够供给洁净且经温度调整了的液体LQ。从液体供给装置送出的液体LQ经由供给流路41R被输送至第1液体供给部41。第1液体供给部41将经由供给流路41R从液体供给装置供给的液体LQ供给至第1空间SP1。
第2液体供给部42配置在第2部件22上。第2液体供给部42配置在第2开口部30的周围的至少一部分上。第2液体供给部42以能够与衬底P(物体)的上表面相对的方式配置。第2液体供给部42以面向第2空间SP2的方式配置。第2液体供给部42配置在下表面31上。
在本实施方式中，第2液体供给部42包含配置在下表面31上且能够供给液体LQ的开口(第2液体供给口)42M。如图4所示，第2液体供给口42M在下表面31上配置多个。第2液体供给口42M以包围光路K的方式配置多个。第2液体供给口42M在光路K的周围隔开间隔地配置多个。在本实施方式中，多个第2液体供给口42M以在XY平面内沿着四边形的假想线的方式配置。
第2液体供给部42(第2液体供给口42M)经由形成在第2部件22的内部的供给流路42R而与液体供给装置(未图示)连接。从液体供给装置送出的液体LQ经由供给流路42R被输送至第2液体供给部42。第2液体供给部42将经由供给流路42R从液体供给装置供给的液体LQ供给至第2空间SP2。
第3液体供给部43配置在第1部件21上。在本实施方式中，第3液体供给部43配置在第1部件21的第1部分211上。第3液体供给部43配置在光路K的周围的至少一部分上。第3液体供给部43以面向光路K的方式配置。第3液体供给部43以面向光路空间SPK的方式配置。第3液体供给部43配置在内表面25上。
在本实施方式中，第3液体供给部43包含配置在内表面25上且能够供给液体LQ的开口(第3液体供给口)43M。第3液体供给口43M在内表面25上配置多个。第3液体供给口43M可以相对于光路K分别配置在+X侧及-X侧。第3液体供给口43M也可以相对于光路K分别配置在+Y侧及-Y侧。第3液体供给口43M也可以相对于光路K分别配置在+X侧、-X侧、+Y侧及-Y侧。第3液体供给口43M可以以包围光路K的方式配置多个。
第3液体供给部43(第3液体供给口43M)经由形成在第1部件21的内部的供给流路43R而与液体供给装置(未图示)连接。从液体供给装置送出的液体LQ经由供给流路43R被输送至第3液体供给部43。第3液体供给部43将经由供给流路43R从液体供给装置供给的液体LQ供给至光路空间SPK。
此外，第3液体供给部43(第3液体供给口43M)也可以以面向第3空间SP3的方式配置在第1部件21上。即，第3液体供给口43M也可以以与外表面131相对的方式配置在第1部件21的内表面25上。第3液体供给部43可以向第1部件21与终端光学元件13之间的间隙(第3空间SP3)供给液体LQ。在第1部分211是配置在光路K及光路KL(终端光学元件13)的周围的第1部件21的一部分的情况下，第3液体供给部43也可以以与终端光学元件13的外表面131相对的方式配置在第1部分211上。
第1液体回收部51配置在第2部件22上。第1液体回收部51配置在第2开口部30的周围的至少一部分上。第1液体回收部51以能够与衬底P(物体)的上表面相对的方式配置。第1液体回收部51以面向第2空间SP2的方式配置。第1液体回收部51配置在下表面31上。
在本实施方式中，第1液体回收部51包含配置在下表面31上且能够回收液体LQ的开口(第1液体回收口)51M。如图4所示，第1液体回收口51M在下表面31上配置多个。第1液体回收口51M以包围光路K的方式配置多个。第1液体回收口51M在光路K的周围隔开间隔地配置多个。在本实施方式中，多个第1液体回收口51M以在XY平面内沿着四边形的假想线的方式配置。
第1液体回收部51(第1液体回收口51M)经由形成在第2部件22的内部的回收流路51R而与液体回收装置(未图示)连接。液体回收装置能够将第1液体回收部51和真空系统(吸引装置)连接。液体回收装置可以具有将所回收的液体LQ收纳的水箱。第1液体回收部51能够回收第2空间SP2的液体LQ的至少一部分。从第1液体回收部51回收的液体LQ经由回收流路51R被液体回收装置回收。
在本实施方式中，第1液体回收部51(第1液体回收口51M)回收(吸引)第2空间SP1的液体LQ和气体G双方。第1液体回收部51能够一起回收液体LQ和气体G。换言之，第1液体回收部51进行气液混合回收。另外，在第1液体回收部51(第1液体回收口51M)之下没有液体LQ存在时，也可以从第1液体回收部51(第1液体回收口51M)仅回收气体。
第2液体回收部52配置在第1部件21上。第2液体回收部52能够回收从衬底P(物体)上流入到第1部件21与第2部件22之间的间隙(第4空间SP4)中的液体LQ的至少一部分。第2液体回收部52能够回收经由开口部301流入到第1部件21与第2部件22之间的第4空间SP4中的液体LQ的至少一部分。第2液体回收部52以面向第4空间SP4的方式配置。第2液体回收部52在第4空间SP4的内侧与开口部301相比配置在上方。在本实施方式中，第2液体回收部52配置在第1部件21的第2部分212上。在本实施方式中，第2液体回收部52以面向上板部214(第2部分212)与第2部件22之间的空间SP4b的方式，配置在上板部214(第2部分212)上。在本实施方式中，第2液体回收部52配置在下表面28上。第2液体回收部52从空间SP4b中的、尺寸为Ha的第1间隙部分回收液体LQ。
第2液体回收部52(第2液体回收口52M)经由形成在第1部件21的内部的回收流路52R而与液体回收装置(未图示)连接。第2液体回收部52能够回收第4空间SP4的液体LQ的至少一部分。从第2液体回收部52回收的液体LQ经由回收流路52R被液体回收装置回收。
在本实施方式中，第2液体回收部52包含多孔部件57。多孔部件57包含网眼孔板。多孔部件57具有能够与上表面33相对的下表面、面向回收流路52R的上表面、和将下表面与上表面连结的多个孔。下表面28配置在多孔部件57的下表面的周围。第2液体回收部52经由多孔部件57的孔来回收液体LQ。在本实施方式中，多孔部件57的孔作为能够回收液体LQ的开口(第2液体回收口)52M发挥功能。从第2液体回收部52(第2液体回收口52M)回收的第4空间SP4的液体LQ流入到回收流路52R，并在该回收流路52R中流过而被液体回收装置回收。
在本实施方式中，实质上仅液体LQ经由第2液体回收部52被回收，气体G的回收受到限制。控制装置6对多孔部件57的下表面侧的压力(第4空间SP4的压力)与上表面侧的压力(回收流路52R的压力)之差进行调整，以使第4空间SP4的液体LQ从多孔部件57的孔通过并流入到回收流路52R而气体G不通过。此外，经由多孔部件仅回收液体的技术的一个例子例如在美国专利第7292313号等中有所公开。
此外，第2液体回收部52也可以经由多孔部件57回收(吸引)液体LQ及气体G双方。即，第2液体回收部52也可以将液体LQ连同气体一起回收。另外，在第2液体回收部52之下没有液体LQ存在时，也可以从第2液体回收部52仅回收气体。此外，第2液体回收部52也可以不具有多孔部件57。即，也可以不经由多孔部件而回收第4空间SP4的流体(液体LQ及气体G中的一方或双方)。
第3液体回收部53配置在第1部件21上。第3液体回收部53从终端光学元件13与第1部件21之间的间隙(第3空间SP3)回收液体LQ。第3液体回收部53能够回收流入到终端光学元件13与第1部件21之间的第3空间SP3中的液体LQ的至少一部分。第3液体回收部53以面向第3空间SP3的方式配置。第3液体回收部53与第1开口部23相比配置在上方。第3液体回收部53与第3液体供给部43相比配置在上方。第3液体回收部53与射出面12相比配置在上方。第3液体回收部53以与终端光学元件13的外表面131相对的方式配置。第3液体回收部53配置在第1部分211上。第1部分211既可以是配置在光路K的周围的第1部件21的一部分，也可以是包含配置在光路KL(终端光学元件13)的周围的第1部件21的一部分的概念。在本实施方式中，第3液体回收部53配置在内表面25上。
第3液体回收部53(第3液体回收口53M)经由形成在第1部件21的内部的回收流路53R而与液体回收装置(未图示)连接。第3液体回收部53能够回收第3空间SP3的液体LQ的至少一部分。从第3液体回收部53回收的液体LQ经由回收流路53R被液体回收装置回收。
在本实施方式中，第3液体回收部53包含多孔部件58。多孔部件58包含网眼孔板。多孔部件58具有能够与外表面131相对的一个面、面向回收流路53R的另一个面、和将一个面与另一个面连结的多个孔。在本实施方式中，内表面25配置在多孔部件58的一个面的周围。第3液体回收部53经由多孔部件58的孔来回收液体LQ。在本实施方式中，多孔部件58的孔作为能够回收液体LQ的开口(第3液体回收口)53M发挥功能。从第3液体回收部53(第3液体回收口53M)回收的第3空间SP3的液体LQ流入到回收流路53R，并在该回收流路53R中流过而被液体回收装置回收。
在本实施方式中，实质上仅液体LQ经由第3液体回收部53被回收，气体G的回收受到限制。控制装置6对多孔部件58的一个面侧的压力(第3空间SP3的压力)与另一个面侧的压力(回收流路53R的压力)之差进行调整，以使第3空间SP3的液体LQ从多孔部件58的孔通过并流入到回收流路53R而气体G不通过。此外，经由多孔部件仅回收液体的技术的一个例子例如在美国专利第7292313号等中有所公开。
此外，第3液体回收部53也可以经由多孔部件58回收(吸引)液体LQ及气体G双方。即，第3液体回收部53也可以将液体LQ连同气体一起回收。另外，在第3液体回收部53与终端光学元件13之间没有液体LQ存在时，也可以从第3液体回收部53仅回收气体。此外，第3液体回收部53也可以不具有多孔部件58。即，也可以不经由多孔部件而回收第3空间SP3的流体(液体LQ及气体G中的一方或双方)。
第1气体供给部61配置在第2部件22上。第1气体供给部61配置在第2开口部30的周围的至少一部分上。第1气体供给部61以能够与衬底P(物体)的上表面相对的方式配置。第1气体供给部61以面向第2空间SP2的方式配置。第1气体供给部61配置在下表面31上。
在本实施方式中，第1气体供给部61包含配置在下表面31上且能够供给气体G的开口(第1气体供给口)61M。如图4所示，第1气体供给口61M在下表面31上配置多个。第1气体供给口61M以包围光路K的方式配置多个。第1气体供给口61M在光路K的周围隔开间隔地配置多个。在本实施方式中，多个第1气体供给口61M以在XY平面内沿着四边形的假想线的方式配置。
第1气体供给部61(第1气体供给口61M)经由形成在第2部件22的内部的供给流路61R而与气体供给装置(未图示)连接。气体供给装置包含使所供给的气体G变得洁净的过滤装置、及能够调整所供给的气体G的温度的温度调整装置等，能够供给洁净且经温度调整了的气体G。另外，在本实施方式中，气体供给装置包含能够调整所供给的气体G的湿度的湿度调整装置，能够供给例如加湿后的气体G。湿度调整装置能够通过形成液浸空间LS的液体LQ(曝光用的液体LQ)来提高气体G的湿度。从气体供给装置送出的气体G经由供给流路61R被输送至第1气体供给部61。第1气体供给部61将经由供给流路61R从气体供给装置供给的气体G供给至第2空间SP2。
在本实施方式中，第1气体供给部61关于相对于光路K(光轴AX)而言的放射方向，配置在第1液体回收部51的外侧。
第2液体供给部42关于相对于光路K(光轴AX)而言的放射方向，配置在光路K与第1液体回收部51之间。第2液体供给部42关于相对于第2开口部30的中心而言的放射方向，配置在第2开口部30的中心与第1液体回收部51之间。
第1液体供给部41关于相对于光路K(光轴AX)而言的放射方向，配置在光路K与第2液体供给部42之间。第1液体供给部41关于相对于第1开口部23的中心而言的放射方向，配置在第1开口部23的中心与开口部301之间。
第3液体供给部43与第2液体供给部42相比配置在光路K侧。第3液体供给部43与第1、第2液体供给部41、42相比配置在上方。第3液体供给部43与第3液体回收部53相比配置在下方。第3液体供给部43与第3液体回收部53相比配置在光路K侧。
第2液体回收部52与第1、第2液体供给部41、42相比配置在上方。第2液体回收部52与开口部301相比配置在上方。第2液体回收部52关于相对于光路K(光轴AX)而言的放射方向而与开口部301相比配置在外侧。
第3空间SP3经由与第1开口部23不同的开口部35，与液浸部件5的外部的空间CS连通。开口部35配置在终端光学元件13与第1部件21的间隙的上端。第3空间SP3经由开口部35向空间CS(液浸部件5的周围的气体环境)开放。在空间CS为大气压的情况下，第3空间SP3经由开口部35向大气开放。此外，空间CS的压力既可以比大气压高，也可以比大气压低。
开口部35配置在比第1开口部23高的位置上。开口部35配置在外表面131与上表面27(上表面27的内缘)之间。开口部35不与衬底P(物体)上的液体LQ接触。
第4空间SP4经由与开口部301不同的开口部302，与液浸部件5的外部的空间CS连通。开口部302配置在第1部件21与第2部件22之间的间隙(第4空间SP4)的另一端上。第4空间SP4经由开口部302向空间CS(液浸部件5的周围的气体环境)开放。在空间CS为大气压的情况下，第4空间SP4经由开口部302向大气开放。此外，空间CS的压力既可以比大气压高，也可以比大气压低。
第1部件21与第2部件22之间的间隙的另一端(开口部302)配置在比第1部件21与第2部件22之间的间隙的一端(开口部301)高的位置上。开口部302配置在下表面28(下表面28的外缘)与上表面33(上表面33的外缘)之间。换言之，开口部302配置在外表面29与外表面34之间。开口部302以不与衬底P(物体)的表面相对的方式配置。开口部302不与衬底P(物体)上的液体LQ接触。
第2空间SP2经由开口部36，与液浸部件5的外部的空间CS连通。开口部36配置在第2部件22与衬底P(物体)之间的间隙的另一端上。开口部36配置在下表面31(下表面31的外缘)与衬底P(物体)的上表面之间。第2空间SP2经由开口部36向空间CS(液浸部件5的周围的气体环境)开放。在空间CS为大气压的情况下，第2空间SP2经由开口部36向大气开放。此外，空间CS的压力既可以比大气压高，也可以比大气压低。
第2空间SP2和第4空间SP4经由开口部301而连结。第1空间SP1和第4空间SP4经由开口部301而连结。第1空间SP1和光路空间SPK经由第1开口部23而连结。光路空间SPK和第3空间SP3经由射出面12与内表面25之间的开口部37而连结。
即，流体(液体LQ及气体G中的一方或双方)能够在光路空间SPK与第3空间SP3之间流通(移动)，能够在光路空间SPK与第1空间SP1之间流通(移动)，能够在第1空间SP1与第3空间SP3之间流通(移动)，能够在第2空间SP1与第3空间SP3之间流通，能够在第1空间SP1与第2空间SP2之间流通。
另外，第2液体回收部52(多孔部件57)所面向的第4空间SP4的压力能够通过处理腔装置9来调整。回收流路57R的压力能够通过与该回收流路57R连接的液体回收装置来调整。
另外，第3液体回收部53(多孔部件58)所面向的第3空间SP3的压力能够通过处理腔装置9来调整。回收流路58R的压力能够通过与该回收流路58R连接的液体回收装置来调整。
在本实施方式中，与从第1液体供给部41、第2液体供给部42及第3液体供给部43进行的至少一个的液体LQ的供给动作并行地执行从第1液体回收部51进行的液体LQ的回收动作，由此在一方侧的终端光学元件13及液浸部件5、与另一方侧的衬底P(物体)之间通过液体LQ形成液浸空间LS。
在进行第1液体供给部41的液体LQ的供给动作的情况下，第1液体回收部51能够回收来自第1液体供给部41的液体LQ的至少一部分。在进行第2液体供给部42的液体LQ的供给动作的情况下，第1液体回收部51能够回收来自第2液体供给部42的液体LQ的至少一部分。在进行第3液体供给部43的液体LQ的供给动作的情况下，第1液体回收部51能够回收来自第3液体供给部43的液体LQ的至少一部分。
通过进行从第1液体回收部51进行的液体LQ的回收动作，液浸空间LS的液体LQ的界面LG(第1界面LG1)关于相对于光轴AX(光路K)而言的放射方向，与第1液体回收部51相比被维持于内侧。第1界面LG1至少与第1液体回收部51(第1液体回收口51M)的外侧的端部相比被维持于内侧。
例如，与从第2液体供给部42进行的液体LQ的供给动作并行地执行从第1液体回收部51进行的液体LQ的回收动作，由此液浸空间LS的液体LQ的界面LG(第1界面LG1)关于相对于光轴AX(光路K)而言的放射方向，被维持在第2液体供给部42与第1液体回收部51之间。第1界面LG1至少被维持在第2液体供给部42与第1液体回收部51(第1液体回收口51M)的外侧的端部之间。与从第2液体供给部42进行的液体LQ的供给动作并行地执行从第1液体回收部51进行的液体LQ的回收动作，由此即使在形成了液浸空间LS的状态下第2部件22在XY平面内移动，第1界面LG1也会被维持在第2液体供给部42与第1液体回收部51之间。
另外，在本实施方式中，与从第1液体供给部41、第2液体供给部42及第3液体供给部43进行的至少一个的液体LQ的供给动作、以及从第1液体回收部51进行的液体LQ的回收动作并行地执行从第2液体回收部52进行的液体LQ的回收动作。由此，抑制经由开口部301流入到第4空间SP4中的液体LQ从第4空间SP4流出。
另外，在本实施方式中，与从第1液体供给部41、第2液体供给部42及第3液体供给部43进行的至少一个的液体LQ的供给动作、以及从第1液体回收部51进行的液体LQ的回收动作并行地执行从第3液体回收部53进行的液体LQ的回收动作。由此，抑制流入到第3空间SP3中的液体LQ从第3空间SP3流出。
另外，在本实施方式中，与从第1液体供给部41、第2液体供给部42及第3液体供给部43进行的至少一个的液体LQ的供给动作、以及从第1液体回收部51进行的液体LQ的回收动作并行地执行从第1气体供给部61进行的气体G的供给动作。第1气体供给部61能够在液浸空间LS的外侧供给气体G。通过从第1气体供给部61供给的气体G，在液浸空间LS的外侧形成气封。由此，抑制第2空间SP2的液体LQ从第2空间SP2流出。
在本实施方式中，也可以从第1气体供给部61供给加湿后的气体G。从第1气体供给部61供给的气体G的湿度比从处理腔装置9的空调装置9S供给的气体Gs的湿度高。通过供给加湿后的气体G，来抑制汽化热的产生。由此，抑制随着汽化热的产生而产生的衬底P(物体)的温度变化、液浸部件5的温度变化、液浸空间LS的液体LQ的温度变化及配置有液浸部件5的空间(环境)的温度变化等。
接下来，说明第2部件22的动作的一个例子。
第2部件22能够相对于第1部件21移动。第2部件22能够相对于终端光学元件13移动。第2部件22与第1部件21的相对位置会变化。第2部件22与终端光学元件13的相对位置会变化。
第2部件22能够在与终端光学元件13的光轴AX垂直的XY平面内移动。第2部件22能够与XY平面实质上平行地移动。在本实施方式中，第2部件22至少能够沿X轴方向移动。
此外，第2部件22可以能够沿X轴、Y轴、Z轴、θX、θY及θZ这六个方向移动，也可以能够沿这六个方向中的至少一个方向移动。此外，第2部件22也可以除了能够沿X轴方向移动以外，还能够沿Y轴、Z轴、θX、θY及θZ中的至少一个方向移动。
通过第2部件22在XY平面内的移动，例如第1部件21的外表面26与第2部件22的内表面32之间的间隙的尺寸会变化。换言之，通过第2部件22在XY平面内的移动，外表面26与内表面32之间的空间的大小会变化。例如，通过第2部件22沿-X轴方向的移动，相对于终端光学元件13在+X侧的外表面26与内表面32之间的间隙的尺寸减小(外表面26与内表面32之间的空间减小)。通过第2部件22沿+X轴方向的移动，相对于终端光学元件13在+X侧的外表面26与内表面32之间的间隙的尺寸增大(外表面26与内表面32之间的空间增大)。
在本实施方式中，以使第1部件21(外表面26)与第2部件22(内表面32)不接触的方式确定第2部件22的能够移动范围(可动范围)。
第2部件22能够与衬底P(物体)的移动协调地移动。第2部件22能够与衬底P(物体)独立地移动。第2部件22能够与衬底P(物体)的移动的至少一部分并行地移动。
第2部件22也可以与衬底P(物体)移动期间的至少一部分并行地移动。第2部件22也可以沿衬底P(物体)的移动方向移动。例如，也可以在衬底P移动期间的至少一部分中，第2部件22沿衬底P的移动方向移动。例如，也可以在衬底P沿XY平面内的一个方向(例如+X轴方向)移动时，第2部件22与该衬底P的移动同步地、沿XY平面内的一个方向(+X轴方向)移动。
第2部件22也可以在形成有液浸空间LS的状态下移动。第2部件22也可以在接触到液浸空间LS的液体LQ的状态下移动。第2部件22也可以在第2空间SP2及第4空间SP4中的一方或双方中存在液体LQ的状态下移动。
第2部件22也可以与从第1液体供给部41、第2液体供给部42及第3液体供给部43中的至少一个进行的液体LQ的供给动作并行地移动。
第2部件22也可以与从第1液体回收部51、第2液体回收部52及第3液体回收部53中的至少一个进行的液体LQ的回收动作并行地移动。
第2部件22也可以与从第1气体供给部61进行的气体G的供给动作并行地移动。
第2部件22也可以在从射出面12射出曝光用光EL的期间的至少一部分中移动。
第2部件22也可以与在形成了液浸空间LS的状态下衬底P(物体)移动的期间的至少一部分并行地移动。
第2部件22也可以在形成了液浸空间LS的状态下在从射出面12射出曝光用光EL的期间的至少一部分中移动。
第2部件22也可以在第2部件22与衬底P(物体)不相对时移动。第2部件22也可以在该第2部件22的下方没有物体存在时移动。
第2部件22也可以在第2部件22与衬底P(物体)之间的空间没有液体LQ存在时移动。第2部件22也可以在没有形成液浸空间LS时移动。
在本实施方式中，第2部件22基于例如衬底P(物体)的移动条件而移动。控制装置6基于例如衬底P(物体)的移动条件，与衬底P(物体)的移动的至少一部分并行地使第2部件22移动。控制装置6一边进行从第1、第2、第3液体供给部41、42、43中的至少一个进行的液体LQ的供给、和从第1液体回收部51进行的液体LQ的回收，一边使第2部件22移动，以便持续形成液浸空间LS。
在本实施方式中，第2部件22能够以其与衬底P(物体)的相对移动减小的方式移动。第2部件22能够以第2部件22与衬底P(物体)的相对移动同终端光学元件13与衬底P(物体)的相对移动相比减小的方式移动。第2部件22能够以第2部件22与衬底P(物体)的相对移动同第1部件21与衬底P(物体)的相对移动相比减小的方式移动。例如，第2部件22也可以与衬底P(物体)同步地移动。例如，第2部件22也可以以追随衬底P(物体)的方式移动。
相对移动包含相对速度及相对加速度中的至少一方。例如，第2部件22也可以在形成了液浸空间LS的状态下、即在第2空间SP2中存在液体LQ的状态下，以其与衬底P(物体)的相对速度减小的方式移动。
另外，第2部件22也可以在形成了液浸空间LS的状态下、即在第2空间SP2中有液体LQ存在的状态下，以其与衬底P(物体)的相对加速度减小的方式移动。
另外，第2部件22也可以在形成了液浸空间LS的状态下、即在第2空间SP2中有液体LQ存在的状态下，以其与衬底P(物体)的相对速度同第1部件21与衬底P(物体)的相对速度相比减小的方式移动。
另外，第2部件22也可以在形成了液浸空间LS的状态下、即在第2空间SP2中有液体LQ存在的状态下，以其与衬底P(物体)的相对加速度同第1部件21与衬底P(物体)的相对加速度相比减小的方式移动。
第2部件22例如能够沿衬底P(物体)的移动方向移动。例如在衬底P(物体)沿+X轴方向(或-X轴方向)移动时，第2部件22能够沿+X轴方向(或-X轴方向)移动。另外，在衬底P(物体)一边沿+X轴方向移动一边沿+Y轴方向(或-Y轴方向)移动时，第2部件22能够沿+X轴方向移动。另外，在衬底P(物体)一边沿-X轴方向移动一边沿+Y轴方向(或-Y轴方向)移动时，第2部件22能够沿-X轴方向移动。
即，在本实施方式中，在衬底P(物体)沿包含X轴方向的成分在内的某方向移动的情况下，第2部件22沿X轴方向移动。例如，第2部件22可以与衬底P(物体)的朝向包含X轴方向的成分在内的某方向的移动的至少一部分并行地沿X轴方向移动。
此外，第2部件22也能够沿Y轴方向移动。在衬底P(物体)沿包含Y轴方向的成分在内的某方向移动的情况下，第2部件22也可以沿Y轴方向移动。例如，第2部件22也可以与衬底P(物体)的朝向包含Y轴方向的成分在内的某方向的移动的至少一部分并行地、以其与衬底P(物体)的相对速度减小的方式沿Y轴方向移动。
接下来，说明使用上述的曝光装置EX对衬底P进行曝光的方法。
在以下的说明中，为了形成液浸空间LS，从第1液体供给部41、第2液体供给部42及第3液体供给部43分别供给液体LQ，并且从第1液体回收部51、第2液体回收部52及第3液体回收部53分别回收液体LQ。
另外，在以下的说明中，将第1、第2、第3液体供给部41、42、43适当地统称为液体供给部40。将第1、第2、第3液体回收部51、52、53适当地统称为液体回收部50。
此外，为了形成液浸空间LS，例如也可以从第3液体供给部43供给液体LQ而不从第1、第2液体供给部41、42供给液体LQ。也可以从第2、第3液体供给部42、43供给液体LQ而不从第1液体供给部41供给液体LQ。也可以从第2液体供给部42供给液体LQ而不从第1、第3液体供给部41、43供给液体LQ。也可以从第1、第2液体供给部41、42供给液体LQ而不从第3液体供给部43供给液体LQ。也可以从第1液体供给部41供给液体LQ而不从第2、第3液体供给部42、43供给液体LQ。
另外，例如也可以从第1液体回收部51回收液体LQ而不从第2、第3液体回收部51、52回收液体LQ。也可以从第1、第2液体回收部51、52回收液体LQ而不从第3液体回收部53回收液体LQ。也可以从第1、第3液体回收部51、53回收液体LQ而不从第2液体回收部52回收液体LQ。
在从液浸部件5分开的衬底更换位置，进行将曝光前的衬底P搬入(装载)到衬底载台2(第1保持部)上的处理。在衬底载台2从液浸部件5分开的期间的至少一部分中，将计测载台3以与终端光学元件13及液浸部件5相对的方式配置。控制装置6进行从液体供给部40进行的液体LQ的供给、和从液体回收部50进行的液体LQ的回收，并在计测载台3上形成液浸空间LS。
在曝光前的衬底P被装载在衬底载台2上、且使用计测载台3的计测处理结束后，控制装置6以使终端光学元件13及液浸部件5与衬底载台2(衬底P)相对的方式使衬底载台2移动。在终端光学元件13及液浸部件5与衬底载台2(衬底P)相对的状态下，与从液体供给部40进行的液体LQ的供给并行地进行从液体回收部50进行的液体LQ的回收，由此以光路K被液体LQ充满的方式，在终端光学元件13及液浸部件5与衬底载台2(衬底P)之间形成液浸空间LS。
控制装置6开始衬底P的曝光处理。控制装置6在衬底P上形成有液浸空间LS的状态下，从照明系统IL射出曝光用光EL。照明系统IL通过曝光用光EL对光罩M进行照明。来自光罩M的曝光用光EL经由投影光学系统PL及射出面12与衬底P之间的液浸空间LS的液体LQ而照射到衬底P上。由此，衬底P被经由终端光学元件13的射出面12与衬底P之间的液浸空间LS的液体LQ而从射出面12射出的曝光用光EL曝光，并将光罩M的图案的像投影到衬底P上。
本实施方式的曝光装置EX是一边使光罩M和衬底P沿规定的扫描方向同步移动、一边将光罩M的图案的像投影到衬底P上的扫描型曝光装置(所谓的扫描步进机(scanning-stepper))。在本实施方式中，使衬底P的扫描方向(同步移动方向)为Y轴方向，使光罩M的扫描方向(同步移动方向)也为Y轴方向。控制装置6使衬底P相对于投影光学系统PL的投影区域PR沿Y轴方向移动，并且与该衬底P的朝向Y轴方向的移动同步地，一边使光罩M相对于照明系统IL的照明区域IR沿Y轴方向移动、一边经由投影光学系统PL和衬底P上的液浸空间LS的液体LQ对衬底P照射曝光用光EL。
图6是表示保持在衬底载台2上的衬底P的一个例子的图。在本实施方式中，在衬底P上作为曝光对象区域的拍摄区域S以矩阵状配置多个。控制装置6一边使保持在第1保持部上的衬底P相对于从终端光学元件13的射出面12射出的曝光用光EL沿Y轴方向(扫描方向)移动，一边经由射出面12与衬底P之间的液浸空间LS的液体LQ并通过从射出面12射出的曝光用光EL对衬底P的多个拍摄区域S的每一个依次进行曝光。
为了对例如衬底P的一个拍摄区域S进行曝光，控制装置6在形成有液浸空间LS的状态下，使衬底P相对于从射出面12射出的曝光用光EL(投影光学系统PL的投影区域PR)沿Y轴方向移动，并且与该衬底P的朝向Y轴方向的移动同步地，一边使光罩M相对于照明系统IL的照明区域IR沿Y轴方向移动、一边经由投影光学系统PL与衬底P上的液浸空间LS的液体LQ对该拍摄区域S照射曝光用光EL。由此，光罩M的图案的像被投影到该拍摄区域S上，从而该拍摄区域S被从射出面12射出的曝光用光EL曝光。
在该拍摄区域S的曝光结束后，控制装置6为了开始下一拍摄区域S的曝光，在形成有液浸空间LS的状态下，使衬底P沿在XY平面内与Y轴交叉的方向(例如X轴方向、或是在XY平面内相对于X轴及Y轴方向倾斜的方向等)移动，使下一拍摄区域S移动到曝光开始位置。然后，控制装置6开始该拍摄区域S的曝光。
控制装置6在衬底P(衬底载台2)上形成有液浸空间LS的状态下，一边重复如下动作，一边对衬底P的多个拍摄区域的每一个依次进行曝光，所述动作为：一边使拍摄区域相对于来自射出面12的曝光用光EL所照射的位置(投影区域PR)沿Y轴方向移动、一边对该拍摄区域进行曝光的动作；和在该拍摄区域曝光后，在衬底P(衬底载台2)上形成有液浸空间LS的状态下，以使下一拍摄区域配置在曝光开始位置上的方式，使衬底P沿在XY平面内与Y轴方向交叉的方向(例如X轴方向、或在XY平面内相对于X轴及Y轴方向倾斜的方向等)移动的动作。
在以下的说明中，将为了对拍摄区域进行曝光而在衬底P(衬底载台2)上形成有液浸空间LS的状态下使衬底P(拍摄区域)相对于来自射出面12的曝光用光EL所照射的位置(投影区域PR)沿Y轴方向移动的动作适当地称为扫描移动动作。另外，将某拍摄区域的曝光结束后且在衬底P(衬底载台2)上形成有液浸空间LS的状态下，在到下一拍摄区域的曝光开始之前的期间使衬底P在XY平面内移动的动作适当地称为步进移动动作。
在本实施方式中，扫描移动动作包含从某拍摄区域S配置在曝光开始位置上的状态起到成为配置在曝光结束位置上的状态为止的、衬底P沿Y轴方向移动的动作。步进移动动作包含从某拍摄区域S配置在曝光结束位置上的状态起到成为下一拍摄区域S配置在曝光开始位置上的状态为止的、衬底P沿在XY平面内与Y轴方向交叉的方向移动的动作。
曝光开始位置包含为了某拍摄区域S的曝光而该拍摄区域S的关于Y轴方向的一端部从投影区域PR通过的时刻的衬底P的位置。曝光结束位置包含曝光用光EL所照射的该拍摄区域S的关于Y轴方向的另一端部从投影区域PR通过的时刻的衬底P的位置。
拍摄区域S的曝光开始位置包含用于对该拍摄区域S进行曝光的扫描移动动作开始位置。拍摄区域S的曝光开始位置包含用于将该拍摄区域S配置在曝光开始位置上的步进移动动作结束位置。
拍摄区域S的曝光结束位置包含用于对该拍摄区域S进行曝光的扫描移动动作结束位置。拍摄区域S的曝光结束位置包含用于在该拍摄区域S的曝光结束后将下一拍摄区域S配置到曝光开始位置上的步进移动动作开始位置。
在以下的说明中，将为了某拍摄区域S的曝光而进行扫描移动动作的期间适当地称为扫描移动期间。在以下的说明中，将为了从某拍摄区域S的曝光结束到下一拍摄区域S的曝光开始而进行步进移动动作的期间适当地称为步进移动期间。
扫描移动期间包含从某拍摄区域S的曝光开始起到曝光结束为止的曝光期间。步进移动期间包含从某拍摄区域S的曝光结束起到下一拍摄区域S的曝光开始为止的衬底P的移动期间。
在扫描移动动作中，从射出面12射出曝光用光EL。在扫描移动动作中，向衬底P(物体)照射曝光用光EL。在步进移动动作中，不从射出面12射出曝光用光EL。在步进移动动作中，不向衬底P(物体)照射曝光用光EL。
控制装置6一边重复扫描移动动作和步进移动动作，一边对衬底P的多个拍摄区域S的每一个依次进行曝光。此外，扫描移动动作是主要关于Y轴方向的等速移动。步进移动动作包含加减速度移动。例如，从某拍摄区域S的曝光结束起到下一拍摄区域S的曝光开始为止的期间的步进移动动作包含关于Y轴方向的加减速移动及关于X轴方向的加减速移动中的一方或双方。
此外，在扫描移动动作及步进移动动作的至少一部分中，存在液浸空间LS的至少一部分形成在衬底载台2(罩盖部件T)上的情况。在扫描移动动作及步进移动动作的至少一部分中，存在液浸空间LS以跨着衬底P和衬底载台2(罩盖部件T)的方式形成的情况。在衬底载台2和计测载台3接近或接触的状态下进行衬底P的曝光的情况下，在扫描移动动作及步进移动动作的至少一部分中，存在液浸空间LS以跨着衬底载台2(罩盖部件T)和计测载台3的方式形成的情况。
控制装置6基于衬底P上的多个拍摄区域S的曝光条件，控制驱动系统15，来使衬底P(衬底载台2)移动。多个拍摄区域S的曝光条件根据例如被称为曝光配方(recipe)的曝光控制信息而被规定。曝光控制信息存储在存储装置7中。
曝光条件(曝光控制信息)包含多个拍摄区域S的排列信息(衬底P中的多个拍摄区域S各自的位置)。另外，曝光条件(曝光控制信息)包含多个拍摄区域S各自的尺寸信息(关于Y轴方向的尺寸信息)。
控制装置6基于存储在存储装置7中的曝光条件(曝光控制信息)，一边以规定的移动条件使衬底P移动，一边对多个拍摄区域S的每一个依次进行曝光。衬底P(物体)的移动条件包含移动速度、加速度、移动距离、移动方向及XY平面内的移动轨迹中的至少一个。
作为一个例子，在对多个拍摄区域S的每一个依次进行曝光时，控制装置6一边以使投影光学系统PL的投影区域PR和衬底P沿着图6中箭头Sr所示的移动轨迹相对移动的方式使衬底载台2移动，一边对投影区域PR照射曝光用光EL，经由液体LQ并以曝光用光EL对多个拍摄区域S的每一个依次进行曝光。控制装置6一边重复扫描移动动作和步进移动动作，一边对多个拍摄区域S的每一个依次进行曝光。
在本实施方式中，第2部件22在衬底P的曝光处理的至少一部分中移动。第2部件22例如在形成有液浸空间LS的状态下，与衬底P(衬底载台2)的步进移动动作的至少一部分并行地移动。第2部件22例如在形成有液浸空间LS的状态下，与衬底P(衬底载台2)的扫描移动动作的至少一部分并行地移动。与第2部件22的移动并行地从射出面12射出曝光用光EL。
第2部件22也可以在例如衬底P(衬底载台2)进行步进移动动作时，以其与衬底P(衬底载台2)的相对移动(相对速度、相对加速度)同第1部件21与衬底P(衬底载台2)的相对移动(相对速度、相对加速度)相比减小的方式移动。
另外，第2部件22也可以在衬底P(衬底载台2)进行扫描移动动作时，以其与衬底P(衬底载台2)的相对移动(相对速度、相对加速度)同第1部件21与衬底P(衬底载台2)的相对移动(相对速度、相对加速度)相比减小的方式移动。
此外，在扫描移动动作中第2部件22也可以不移动。即，第2部件22也可以不与来自射出面12的曝光用光EL的射出并行地移动。
图7是表示第2部件22的动作的一个例子的示意图。图7是第2部件22的从上方观察到的图。
在以下的说明中，第2部件22沿X轴方向移动。此外，如上所述，第2部件22也可以沿Y轴方向移动，也可以沿包含X轴方向(或Y轴方向)的成分在内的XY平面内的任意方向移动。
第2部件22在关于X轴方向规定的能够移动范围(可动范围)内移动。来自射出面12的曝光用光EL从第1开口部23及第2开口部30通过，并且以第2部件22不与第1部件21接触的方式确定第2部件22的能够移动范围。
在衬底P(物体)移动的期间的至少一部分中，第2部件22如图7的(A)～图7的(E)所示，沿X轴方向移动。图7的(A)表示第2部件22配置在能够移动范围的最靠+X侧的一端的位置Jr上的状态。图7的(C)表示第2部件22配置在能够移动范围的中央的位置Jm上的状态。图7的(E)表示第2部件22配置在能够移动范围的最靠-X侧的一端的位置Js上的状态。
在以下的说明中，将图7的(A)所示的第2部件22的位置Jr适当地称为第1端部位置Jr。将图7的(C)所示的第2部件22的位置Jm适当地称为中央位置Jm。将图7的(E)所示的第2部件22的位置Js适当地称为第2端部位置Js。
另外，图7的(B)表示第2部件22配置在第1端部位置Jr与中央位置Jm之间的位置Jrm上的状态。图7的(D)表示第2部件22配置在第2端部位置Js与中央位置Jm之间的位置Jsm上的状态。
此外，在本实施方式中，第2部件22配置在中央位置Jm上的状态包含第2部件22的第2开口部30的中心与终端光学元件13的光轴AX实质上一致的状态。也可以将第2开口部30的中心与光轴AX一致的第2部件22的位置称为原点。
第2部件22的能够移动范围的尺寸包含关于X轴方向的第1端部位置Jr与第2端部位置Js的距离。
控制装置6能够使第2部件22相对于终端光学元件13(投影区域PR)的位置不同。控制装置6能够使第2部件22在从位置Jr、位置Jrm、位置Jm、位置Jsm及位置Js中所选择的两个位置之间移动。控制装置6能够使第2部件22在位置Jr、位置Jrm、位置Jm、位置Jsm及位置Js中的至少一个位置上停止。控制装置6不限于位置Jr、位置Jrm、位置Jm、位置Jsm及位置Js，也能够使第2部件22在除此以外的任意位置上停止。
位置Jr与位置Jm之间的第2部件22的移动距离比位置Jrm与位置Jm之间的第2部件22的移动距离长。位置Js与位置Jm之间的第2部件22的移动距离比位置Jsm与位置Jm之间的第2部件22的移动距离长。
控制装置6能够以所确定的移动条件使第2部件22移动。第2部件22的移动条件包含移动方向、移动速度、加速度及移动距离中的至少一个。控制装置6能够控制第2部件22的移动方向、移动速度、加速度及移动距离中的至少一个。
图8是示意地表示一边使衬底P进行包含+X轴方向的成分在内的步进移动、一边对各个拍摄区域Sa、拍摄区域Sb及拍摄区域Sc依次进行曝光时的衬底P的移动轨迹的一个例子的图。拍摄区域Sa、Sb、Sc配置在X轴方向上。
如图8所示，拍摄区域Sa、Sb、Sc被曝光时，衬底P在终端光学元件13之下依次在路径Tp1、路径Tp2、路径Tp3、路径Tp4及路径Tp5中移动，其中，路径Tp1是从投影区域PR配置在衬底P的位置d1上的状态起到配置在相对于该位置d1在+Y侧相邻的位置d2上的状态为止的路径；路径Tp2是从配置在位置d2上的状态起到配置在相对于该位置d2在+X侧相邻的位置d3上的状态为止的路径；路径Tp3是从配置在位置d3上的状态起到配置在相对于该位置d3在-Y侧相邻的位置d4上的状态为止的路径；路径Tp4是从配置在位置d4上的状态起到配置在相对于该位置d4在+X侧相邻的位置d5上的状态为止的路径；路径Tp5是从配置在位置d5上的状态起到配置在相对于该位置d5在+Y侧相邻的位置d6上的状态为止的路径。位置d1、d2、d3、d4、d5、d6是XY平面内的位置。
路径Tp1的至少一部分是与Y轴平行的直线。路径Tp3的至少一部分是与Y轴平行的直线。路径Tp5的至少一部分包含与Y轴平行的直线。路径Tp2包含经由位置d2.5的曲线。路径Tp4包含经由位置d4.5的曲线。位置d1包含路径Tp1的起始点，位置d2包含路径Tp1的终点。位置d2包含路径Tp2的起始点，位置d3包含路径Tp2的终点。位置d3包含路径Tp3的起始点，位置d4包含路径Tp3的终点。位置d4包含路径Tp4的起始点，位置d5包含路径Tp4的终点。位置d5包含路径Tp5的起始点，位置d6包含路径Tp5的终点。路径Tp1是衬底P沿-Y轴方向移动的路径。路径Tp3是衬底P沿+Y轴方向移动的路径。路径Tp5是衬底P沿-Y轴方向移动的路径。路径Tp2及路径Tp4是衬底P沿将-X轴方向作为主成分的方向移动的路径。
当在形成有液浸空间LS的状态下衬底P在路径Tp1中移动时，经由液体LQ向拍摄区域Sa照射曝光用光EL。当在形成有液浸空间LS的状态下衬底P在路径Tp3中移动时，经由液体LQ向拍摄区域Sb照射曝光用光EL。当在形成有液浸空间LS的状态下衬底P在路径Tp5中移动时，经由液体LQ向拍摄区域Sc照射曝光用光EL。当衬底P在路径Tp2及路径Tp4中移动时，不照射曝光用光EL。
衬底P在路径Tp1中移动的动作、在路径Tp3中移动的动作及在路径Tp5中移动的动作分别包含扫描移动动作。另外，衬底P在路径Tp2中移动的动作、及在路径Tp4中移动的动作分别包含步进移动动作。
即，衬底P在路径Tp1中移动的期间、在路径Tp3中移动的期间及在路径Tp5中移动的期间分别为扫描移动期间(曝光期间)。衬底P在路径Tp2中移动的期间、及在路径Tp4中移动的期间分别为步进移动期间。
图9及图10是表示拍摄区域Sa、Sb、Sc被曝光时的第2部件22的动作的一个例子的示意图。图9及图10是第2部件22的从上方观察到的图。
当衬底P位于位置d1时，如图9的(A)所示，第2部件22相对于投影区域PR(曝光用光EL的光路K)配置在位置Js上。
当衬底P位于位置d2时，如图9的(B)所示，第2部件22相对于投影区域PR(曝光用光EL的光路K)配置在位置Jr上。即，在衬底P的从位置d1向位置d2的扫描移动动作中，第2部件22沿与衬底P的步进移动方向(-X轴方向)相反的+X轴方向移动。在衬底P的从位置d1向位置d2的扫描移动动作中，第2部件22从位置Js经过位置Jsm、位置Jm及位置Jrm，移动至位置Jr。换言之，当衬底P在路径Tp1中移动时，第2部件22以从图9的(A)所示的状态向图9的(B)所示的状态变化的方式，沿+X轴方向移动。
当衬底P位于位置d2.5时，如图9的(C)所示，第2部件22相对于投影区域PR(曝光用光EL的光路K)配置在位置Jm上。
当衬底P位于位置d3时，如图9的(D)所示，第2部件22相对于投影区域PR(曝光用光EL的光路K)配置在位置Js上。即，在衬底P的从位置d2向位置d3的步进移动动作中，第2部件22沿与衬底P的步进移动方向(-X轴方向)相同的-X轴方向移动。在衬底P的从位置d2向位置d3的步进移动动作中，第2部件22从位置Jr经过位置Jrm、位置Jm及位置Jsm，移动至位置Jm。换言之，当衬底P在路径Tp2中移动时，第2部件22以从图9的(B)所示的状态经过图9的(C)所示的状态向图9的(D)所示的状态变化的方式，沿-X轴方向移动。
当衬底P位于位置d4时，如图10的(A)所示，第2部件22相对于投影区域PR(曝光用光EL的光路K)配置在位置Jr上。即，在衬底P的从位置d3向位置d4的扫描移动动作中，第2部件22沿与衬底P的步进移动方向(-X轴方向)相反的+X轴方向移动。在衬底P的从位置d3向位置d4的扫描移动动作中，第2部件22从位置Js经过位置Jsm、位置Jm及位置Jrm，移动至位置Jr。换言之，当衬底P在路径Tp3中移动时，第2部件22以从图9的(D)所示的状态向图10的(A)所示的状态变化的方式，沿+X轴方向移动。
当衬底P位于位置d4.5时，如图10的(B)所示，第2部件22相对于投影区域PR(曝光用光EL的光路K)配置在位置Jm上。
当衬底P位于位置d5时，如图10的(C)所示，第2部件22相对于投影区域PR(曝光用光EL的光路K)配置在位置Js上。即，在衬底P的从位置d4向位置d5的步进移动动作中，第2部件22沿与衬底P的步进移动方向(-X轴方向)相同的-X轴方向移动。在衬底P的从位置d4向位置d5的步进移动动作中，第2部件22从位置Jr经过位置Jrm、位置Jm及位置Jsm，移动至位置Jm。换言之，当衬底P在路径Tp4中移动时，第2部件22以从图10的(A)所示状态经过图10的(B)所示的状态向图10的(C)所示的状态变化的方式，沿-X轴方向移动。
当衬底P位于位置d6时，如图10的(D)所示，第2部件22相对于投影区域PR(曝光用光EL的光路K)配置在位置Jr上。即，在衬底P的从位置d5向位置d6的扫描动作移动中，第2部件22沿与衬底P的步进移动方向(-X轴方向)相反的+X轴方向移动。在衬底P的从位置d5向位置d6的扫描移动动作中，第2部件22从位置Js经过位置Jsm、位置Jm及位置Jrm，移动至位置Jr。换言之，当衬底P在路径Tp5中移动时，第2部件22以从图10的(C)所示的状态向图10的(D)所示的状态变化的方式，沿+X轴方向移动。
即，在本实施方式中，第2部件22在衬底P沿着路径Tp2移动的期间的至少一部分中，以其与衬底P的相对移动减小的方式，沿-X轴方向移动。换言之，第2部件22在衬底P进行包含-X轴方向的成分在内的步进移动动作的期间的至少一部分中，以关于X轴方向的、其与衬底P的相对速度减小的方式，沿-X轴方向移动。同样地，第2部件22在衬底P沿着路径Tp4移动的期间的至少一部分中，以关于X轴方向的、其与衬底P的相对速度减小的方式，沿-X轴方向移动。
另外，在本实施方式中，第2部件22在衬底P沿着路径Tp3移动的期间的至少一部分中，沿+X轴方向移动。由此，在衬底P沿着路径Tp3移动后且在路径Tp4中移动的过程中，即使第2部件22沿-X轴方向移动，曝光用光EL也能够从第1、第2开口部23、30通过，而抑制第1部件21与第2部件22的接触。在衬底P在路径Tp1、Tp5中移动的情况下也是同样的。
即，在衬底P重复进行扫描移动动作和包含-X轴方向的成分在内的步进移动动作的情况下，在步进移动动作中，第2部件22以其与衬底P的相对速度减小的方式从位置Jr向位置Js沿-X轴方向移动，在扫描移动动作中，第2部件22从位置Js向位置Jr返回，以便在下一步进移动动作中第2部件22能够再次沿-X轴方向移动。即，在衬底P进行扫描移动动作的期间的至少一部分中，由于第2部件22沿+X轴方向移动，所以第2开口部30的尺寸被抑制在所需的最小限度，抑制了第1部件21与第2部件22的接触。
另外，在本实施方式中，即使第2部件22配置在第1端部位置Jr(第2端部位置Js)上，第1液体回收部51的至少一部分也与衬底P(物体)持续相对。由此，例如在步进移动动作中，第1液体回收部51能够回收衬底P(物体)上的液体LQ。
另外，在本实施方式中，即使第2部件22配置在第1端部位置Jr(第2端部位置Js)上，第1气体供给部61的至少一部分也与衬底P(物体)持续相对。由此，在第2部件22与衬底P(物体)之间持续形成气封。因此，抑制液体LQ的流出。
此外，在使用图9及图10来说明的例子中，当衬底P位于位置d1、d3、d5时，第2部件22配置在第2端部位置Js上。当衬底P位于位置d1、d3、d5时，第2部件22也可以配置在中央位置Jm上，也可以配置在中央位置Jm与第2端部位置Js之间的位置Jsm上。
此外，在使用图9及图10来说明的例子中，当衬底P位于位置d2、d4、d6时，第2部件22配置在第1端部位置Jr上。当衬底P位于位置d2、d4、d6时，第2部件22既可以配置在中央位置Jm上，也可以配置在中央位置Jm与第1端部位置Jr之间的位置Jrm上。
另外，当衬底P位于位置d2.5、d4.5时，第2部件22也可以配置在与中央位置Jm不同的位置上。即，当衬底P位于位置d2.5、d4.5时，第2部件22也可以配置在例如中央位置Jm与第2端部位置Js之间的位置Jsm上，也可以配置在中央位置Jm与第1端部位置Jr之间的位置Jrm上。
此外，在衬底P的扫描移动期间的至少一部分中，第2部件22也可以停止，也可以沿与衬底P的步进移动方向(-X轴方向)相同的-X轴方向移动。
此外，在衬底P的步进移动期间的至少一部分中，第2部件22也可以停止，也可以沿与衬底P的步进移动方向(-X轴方向)相反的+X轴方向移动。
即，在衬底P的移动期间(扫描移动期间及步进移动期间)的一部分中，第2部件22也可以以其与衬底P(物体)的相对速度同第1部件21与衬底P(物体)的相对速度相比减小的方式移动，在衬底P的移动期间的一部分中，停止或以相对速度增大的方式移动。
如以上说明那样，根据本实施方式，由于设置了能够相对于第1部件21移动的第2部件22，所以即使在形成有液浸空间LS的状态下衬底P等物体在XY平面内移动，也会抑制例如液体LQ从液浸部件5与物体之间的空间流出、或在物体上残留液体LQ。
即，在形成有液浸空间LS的状态下衬底P等物体在XY平面内以高速移动的情况下，若与该物体相对的部件(液浸部件等)静止，则有可能导致液体LQ流出、或在衬底P(物体)上残留液体LQ、或在液体LQ中产生气泡。
在本实施方式中，第2部件22能够以例如其与物体的相对移动(相对速度、相对加速度)减小的方式移动。因此，即使在形成有液浸空间LS的状态下物体以高速移动，也会抑制液体LQ流出、或在衬底P(物体)上残留液体LQ、或在液体LQ中产生气泡。
另外，在本实施方式中，在光路K(光路KL)的周围配置有第1部件21的第1部分211，第2部件22在该第1部分211的外侧移动。因此，抑制在光路空间SPK中产生气体部分、或在光路K的液体LQ中产生气泡。即，在本实施方式中，由于第1部件21的第1部分211配置在光路K(光路KL)的周围的至少一部分上，所以即使第2部件22在该第1部分211的外侧移动，也会抑制在第1部分211的内侧压力变动、或光路空间SPK的液体LQ的压力变动、或液体LQ的第3界面LG3的形状大幅变动。因此，抑制例如在液体LQ中产生气泡等。另外，抑制对终端光学元件13作用过剩的力。另外，在本实施方式中，由于第1部件21实质上不移动，所以抑制在终端光学元件13与第1部件21之间压力大幅变动、或液体LQ的第2、第3界面LG2、LG3的形状大幅变动。
因此，能够抑制曝光不良的产生、及不良器件的产生。
另外，在本实施方式中，第2部件22具有第1液体回收部51。因此，抑制在第1液体回收部51与衬底P(物体)之间所形成的第1界面LG1的形状变化。由此，抑制液浸空间LS的液体LQ从液浸部件5(第2部件22)与衬底P(物体)之间的空间流出、或在衬底P(物体)上残留液体LQ。
另外，在本实施方式中，在第1部分211的下表面24上设有第1液体供给部41。由此，即使例如因物体的移动等而导致第1界面LG1要接近第1开口部23，也会通过从第1液体供给部41供给的液体LQ，来抑制第1界面LG1移动至第1开口部23的内侧、或气体进入第1开口部23的内侧的液体LQ中。
另外，在本实施方式中，在第2部件22的下表面31上设有第2液体供给部42。由此，即使例如因物体的移动等而导致第1界面LG1要接近第1开口部23(开口部301)，也会通过从第2液体供给部42供给的液体LQ，来抑制第1界面LG1移动至第1开口部23(开口部301)的内侧、或气体进入第1开口部23(开口部301)的内侧的液体LQ中。
另外，在本实施方式中，在第2部件22的下表面31上设有第1气体供给部61。由此，在第2部件22与物体之间形成有气封。因此，抑制液体LQ从第2空间SP2流出。另外，通过与从第1液体回收部51进行的回收动作并行地、从第1气体供给部61供给气体G，能够抑制因第1液体回收部51的回收动作而导致的第2空间SP2的压力降低。
另外，在本实施方式中，第1部件21与第2部件22之间的间隙(第4空间SP4)向气体环境开放。因此，物体上的液体LQ能够经由开口部301顺畅地流入到第4空间SP4中。因此，抑制例如光路空间SPK的压力变动、或第3空间SP3的压力变动、或第2空间SP2的压力变动。
另外，在本实施方式中，设有第2液体回收部52。因此，抑制流入到第1部件21与第2部件22之间的间隙(第4空间SP4)中的液体LQ从间隙(第4空间SP4)流出。
另外，在本实施方式中，第2液体回收部52配置在第2部分212上。由此，从开口部301流入到第4空间SP4中的液体LQ在与外表面26、内表面32、下表面28的至少一部分、及上表面33的至少一部分接触后，从第2液体回收部52被回收。即，通过将第2液体回收部52配置在第2部分212上，能够增大(增长)液体LQ与第1部件21的接触面积(接触时间)、及液体LQ与第2部件22的接触面积(接触时间)。由此，第1部件21及第2部件22的温度通过从液体供给部40(第1、第2、第3液体供给部41、42、43中的至少一个)供给的液体LQ而被调整。
另外，在本实施方式中，在第4空间SP4中，设有尺寸为Ha的第1间隙部分和尺寸为Hb的第2间隙部分。由于第2液体回收部52从第1间隙部分回收液体LQ，所以第2间隙部分成为气体空间。充满气体的第2间隙部分能够作为抑制第2部件22的振动的阻尼部而发挥功能。充满气体的第2间隙部分能够作为所谓挤压膜阻尼器(squeeze film damper)发挥功能。例如，即使在第2部件22在XY平面内移动了的情况下，也可通过第2间隙部分(阻尼部)抑制关于Z轴方向的第2部件22的振动(不期望的振动)。
此外，尺寸Hb为0.2mm以下，也可以为0.01mm～0.1mm。
另外，在本实施方式中，设有形成第2间隙部分的壁部333。由此，抑制第4空间SP4的液体LQ从第4空间SP4流出。
另外，在本实施方式中，面向第1部件21与第2部件22之间的间隙(第4空间SP4)的第1部件21的表面(外表面26、下表面28)、及第2部件22的表面(内表面32、上表面33)的至少一部分相对于液体LQ具有疏液性。由此，即使第2部件22移动，也会抑制例如液浸空间LS的液体LQ的压力变动、或产生不期望的液体LQ的流动。
另外，根据本实施方式，设有第3液体供给部43。由此，能够以液体LQ顺畅地充满光路K。
另外，在本实施方式中，终端光学元件13与第1部件21之间的间隙(第3空间SP3)向气体环境开放。因此，物体上的液体LQ能够经由开口部37顺畅地流入到第3空间SP3中。因此，抑制例如光路空间SPK的压力变动、或第3空间SP3的压力变动、或第2空间SP2的压力变动。
另外，在本实施方式中，设有第3液体回收部53。因此，抑制流入到终端光学元件13与第1部件21之间的间隙(第3空间SP3)中的液体LQ从间隙(第3空间SP3)流出。
此外，在本实施方式中，第1部件21也可以能够移动。第1部件21也可以相对于终端光学元件13移动。第1部件21也可以沿X轴、Y轴、Z轴、θX、θY及θZ这六个方向中的至少一个方向移动。例如，为了调整终端光学元件13与第1部件21的位置关系、或调整第1部件21与第2部件22的位置关系，也可以移动第1部件21。
此外，第1部件21也可以在第2部件22移动的期间实质上不移动，而在第2部件22不移动的期间的至少一部分中移动。
此外，第1部件21也可以在形成有液浸空间LS的状态下实质上不移动，而在没有形成液浸空间LS的状态下移动。
此外，第1部件21也可以在从射出面12射出曝光用光EL的期间不移动，而在没有从射出面12射出曝光用光EL的期间移动。
此外，第1部件21也可以在第2部件22移动的期间的至少一部分中移动。此外，第1部件21也可以在形成有液浸空间LS的状态下移动。此外，第1部件12也可以在从射出面12射出曝光用光EL的期间的至少一部分中移动。此外，第1部件21也可以在衬底P(物体)移动的期间的至少一部分中移动。
第1部件21也可以以比第2部件22低的速度移动。第1部件21也可以以比第2部件22低的加速度移动。第1部件21也可以以比衬底P低的速度移动。第1部件21也可以以比衬底P低的加速度移动。
＜第2实施方式＞
说明第2实施方式。在以下的说明中，对与上述的实施方式相同或等同的构成部分标注相同的附图标记，并简略或省略其说明。
图11～图16表示第1液体回收口51M的配置的一个例子。
如图11所示，第1液体回收口51M也可以沿着四边形的假想线配置多个。在图11中，描绘假想线的四边形实质上是正方形。四边形的顶点(角)相对于光路K(光轴AX)配置在+X侧及-X侧，并且配置在+Y侧及-Y侧。第2部件22与衬底P(物体)之间的液体LQ的第1界面LG1的外形以沿着多个第1液体回收口51M的方式实质上规定为四边形。
如图12所示，四边形的假想线的边也可以弯曲。第1液体回收口51M也可以沿着包含该曲线的假想线配置多个。
如图13所示，第1液体回收口51M也可以沿着在Y轴方向上较长的菱形的假想线配置多个。此外，第1液体回收口51M也可以沿着在X轴方向上较长的菱形的假想线配置多个。
如图14所示，第1液体回收口51M也可以沿着圆形的假想线配置多个。
如图15所示，第1液体回收口51M也可以沿着在Y轴方向上较长的椭圆形的假想线配置多个。此外，第1液体回收口51M也可以沿着在X轴方向上较长的椭圆形的假想线配置多个。
如图16所示，四边形的假想线的角也可以带有圆弧。第1液体回收口51M也可以沿着包含该曲线的假想线配置多个。
＜第3实施方式＞
说明第3实施方式。在以下的说明中，对与上述的实施方式相同或等同的构成部分标注相同的附图标记，并简略或省略其说明。
图17表示本实施方式的第2液体回收部52C的一个例子的图。第2液体回收部52C回收从衬底P(物体)上流入到第1部件21C与第2部件22C之间的间隙(第4空间SP4)中的液体LQ的至少一部分。在本实施方式中，第2液体回收部52C配置在第2部件22C上。在图17所示的例子中，第2液体回收部52C配置在第2部件22C的上表面33上。
此外，将流入到第1部件21与第2部件22之间的间隙中的液体LQ的至少一部分回收的第2液体回收部也可以配置在第1部件21及第2部件22双方上。
＜第4实施方式＞
说明第4实施方式。在以下的说明中，对与上述的实施方式相同或等同的构成部分标注相同的附图标记，并简略或省略其说明。
图18是表示本实施方式的第2间隙部分的一个例子的图。如图18所示，凸部(壁部)333D也可以设在第1部件21D上。凸部333D设在第1部件21D的下表面28上。凸部333D向下方(朝向第2部件22D侧)突出。通过凸部333D的下表面和第2部件22D的上表面28，来规定尺寸为Hb的第2间隙部分。
此外，也可以在第1部件21及第2部件22双方上设置用于规定第2间隙部分的凸部。即，也可以在以向下方突出的方式设在第1部件21上的凸部的下表面、与以向上方突出的方式设在第2部件22上的凸部的上表面之间规定第2间隙部分。
＜第5实施方式＞
说明第5实施方式。在以下的说明中，对与上述的实施方式相同或等同的构成部分标注相同的附图标记，并简略或省略其说明。
图19是表示本实施方式的第2部件22E的一个例子的图。如图19的(A)所示，也可以关于相对于终端光学元件13的光轴AX而言的放射方向在第1气体供给部61的外侧配置第2气体供给部62。第2气体供给部62配置在第2部件22的下表面31上。通过从第2气体供给部62供给的气体G，抑制液体LQ从第2空间SP2流出。
＜第6实施方式＞
说明第6实施方式。在以下的说明中，对与上述的实施方式相同或等同的构成部分标注相同的附图标记，并简略或省略其说明。
图20是表示本实施方式的曝光装置EX的一个例子的图。如图20的(A)所示，也可以相对于曝光用光EL的光路K(光轴AX)在第2部件22的外侧，配置具有能够与衬底P(物体)的表面相对的第2气体供给部62F的第3部件230。第3部件230也可以以不与第2部件22接触的方式，在第2部件22移动的期间的至少一部分中，基于第2部件22的移动条件(移动方向、移动速度、加速度等)而移动。第3部件230也可以一边移动，一边进行从第2气体供给部62F供给气体G的供给动作。
此外，在图19的(A)及图20的(A)所示的例子中，也可以取代第2气体供给部62(62F)而配置液体回收部。通过相对于曝光用光EL的光路K(光轴AX)在第1液体回收部51及第1气体供给部61的外侧设置液体回收部，即使液体LQ流出到第1气体供给部61的外侧，也能够从液体回收部回收该液体LQ。
此外，如图19的(B)所示，也可以取代第2气体供给部62而配置气体回收部63。通过相对于曝光用光EL的光路K(光轴AX)在第1液体回收部51及第1气体供给部61的外侧设置气体回收部63，能够从该气体回收部回收与液体LQ接触了的湿润气体、或从第1气体供给部61供给的气体G的一部分。
另外，如图20的(B)所示，也可以取代第2气体供给部62F而配置气体回收部63F。通过相对于曝光用光EL的光路K(光轴AX)在第1液体回收部51及第1气体供给部61的外侧设置气体回收部63F，能够从该气体回收部回收与液体LQ接触了的湿润气体、或从第1气体供给部61供给的气体G的一部分。
此外，也可以从气体回收部63(63F)连同气体G一起流入液体LQ的液滴。
此外，也可以除了第2气体供给部62(62F)以外，还配置液体回收部。
＜第7实施方式＞
说明第7实施方式。在以下的说明中，对与上述的实施方式相同或等同的构成部分标注相同的附图标记，并简略或省略其说明。
图21是表示终端光学元件13的射出面12、第1部件21(第1部分211)的下表面24和第2部件22的下表面31之间的关系的示意图。
如图21所示，第1部件21(第1部分211)的下表面24可以与射出面12相比配置在下方，可以配置在与射出面12实质上相同的高度上，也可以与射出面12相比配置在上方。下表面24也可以配置在与射出面12相同的平面内。下表面24可以与XY平面实质上平行，可以相对于射出面12倾斜，也可以相对于XY平面倾斜，可以是平坦面，也可以包含曲面。
如图21所示，第2部件22的下表面31可以与射出面12相比配置在下方，可以配置在与射出面12实质上相同的高度上，也可以与射出面12相比配置在上方。下表面31也可以配置在与射出面12相同的平面内。下表面31可以与XY平面实质上平行，可以相对于射出面12倾斜，也可以相对于XY平面倾斜，可以是平坦面，也可以包含曲面。
如图21所示，第2部件22的下表面31可以与第1部件21(第1部分211)的下表面24相比配置在下方，可以配置在与下表面24实质上相同的高度上，也可以与下表面24相比配置在上方。下表面31也可以配置在与下表面24相同的平面内。下表面31也可以相对于下表面24倾斜。该下表面24可以与射出面12相比配置在下方，可以配置在与射出面12实质上相同的高度上，也可以与射出面12相比配置在上方。
＜第8实施方式＞
说明第8实施方式。在以下的说明中，对与上述的实施方式相同或等同的构成部分标注相同的附图标记，并简略或省略其说明。
图22是表示本实施方式的液浸部件5H的一个例子的图。如图22所示，第2部件22H的至少一部分也可以配置在第1部分211H的下表面24的下方。换言之，第2部件22H的至少一部分也可以配置在第1部分211H与衬底P(物体)之间。另外，如图22所示，第2部件22H的至少一部分也可以配置在终端光学元件13的射出面12的下方。换言之，第2部件22的至少一部分也可以配置在终端光学元件13与衬底P(物体)之间。
另外，如图22所示，第2部件22的第2开口部30H也可以比第1部件21的第1开口部23H小。
＜第9实施方式＞
说明第9实施方式。在以下的说明中，对与上述的实施方式相同或等同的构成部分标注相同的附图标记，并简略或省略其说明。
图23是表示本实施方式的液浸部件5I(第1部件21I)的一个例子的图。如图23所示，也可以是，与终端光学元件13的外表面131相对的第3液体供给部43I相对于终端光学元件13的光轴AX而配置在一侧(例如+X侧)，与终端光学元件13的外表面131相对的第3液体回收部53I相对于终端光学元件13的光轴AX而配置在另一侧(例如-X侧)。由此，在光路空间SPK中，液体LQ相对于光轴AX从一侧向另一侧流动。
此外，第3液体供给部43I也可以以面向射出面12与衬底P(物体)之间的光路K(光路空间SPK)的方式配置。第3液体回收部53I也可以以面向光路K(光路空间SPK)的方式配置。换言之，第3液体供给部43I及第3液体回收部53I的一方或双方也可以与射出面12相比配置在下方。
＜第10实施方式＞
接下来，说明第10实施方式。在以下的说明中，对与上述的实施方式相同或等同的构成部分标注相同的附图标记，并简略或省略其说明。
在本实施方式中，说明第2部件22的动作的一个例子。图24的(A)是示意地表示对拍摄区域Sa及拍摄区域Sb依次进行曝光时的衬底P的移动轨迹的一个例子的图。图24的(B)是示意地表示对拍摄区域Sa及拍摄区域Sb依次进行曝光时的、本实施方式的第2部件22的移动轨迹的一个例子的图。
在本实施方式中，当在形成有液浸空间LS的状态下衬底P(衬底载台2)进行扫描移动动作及步进移动动作时，第2部件22也以其与衬底P(衬底载台2)的相对移动(相对速度、相对加速度)同第1部件21与衬底P(衬底载台2)的相对移动(相对速度、相对加速度)相比减小的方式移动。
如图24的(A)所示，在拍摄区域Sa被曝光时，衬底P在终端光学元件13之下依次在路径Tp1、路径Tp2、路径Tp3及路径Tp4中移动，其中，路径Tp1是从投影区域PR配置在衬底P的位置d1上的状态起到配置在相对于该位置d1在+Y侧相邻的位置d2上的状态为止的路径；路径Tp2是从配置在位置d2上的状态起到配置在相对于该位置d2在+X侧相邻的位置d3上的状态为止的路径；路径Tp3是从配置在位置d3上的状态起到配置在相对于该位置d3在-Y侧相邻的位置d4上的状态为止的路径；路径Tp4是从配置在位置d4上的状态起到配置在相对于该位置d4在+X侧相邻的位置d5上的状态为止的路径。位置d1、d2、d3、d4是XY平面内的位置。
路径Tp1的至少一部分是与Y轴平行的直线。路径Tp3的至少一部分是与Y轴平行的直线。路径Tp2包含曲线。路径Tp4包含曲线。位置d1包含路径Tp1的起始点，位置d2包含路径Tp1的终点。位置d2包含路径Tp2的起始点，位置d3包含路径Tp2的终点。位置d3包含路径Tp3的起始点，位置d4包含路径Tp3的终点。位置d4包含路径Tp4的起始点，位置d5包含路径Tp4的终点。路径Tp1是衬底P沿-Y轴方向移动的路径。路径Tp3是衬底P沿+Y轴方向移动的路径。路径Tp2及路径Tp4是衬底P实质上沿-X轴方向移动的路径。
当在形成有液浸空间LS的状态下衬底P在路径Tp1中移动时，经由液体LQ向拍摄区域Sa照射曝光用光EL。衬底P在路径Tp1中移动的动作包含扫描移动动作。另外，当在形成有液浸空间LS的状态下衬底P在路径Tp3中移动时，经由液体LQ向拍摄区域Sb照射曝光用光EL。
衬底P在路径Tp3中移动的动作包含扫描移动动作。另外，衬底P在路径Tp2中移动的动作、及在路径Tp4中移动的动作包含步进移动动作。
衬底P在路径Tp1、Tp2、Tp3、Tp4中依次移动时，如图24的(B)所示，第2部件22在路径Tn1、Tn2、Tn3、Tn4中依次移动。路径Tn1是从位置e1到位置e2的路径。路径Tn2是从位置e2到位置e3的路径。路径Tn3是从位置e3到位置e4的路径。路径Tn4是从位置e4到位置e1的路径。路径Tn1包含直线。路径Tn2包含曲线。路径Tn3包含直线。路径Tn4包含曲线。路径Tn1与路径Tn3交叉。路径Tn1及路径Tn3向X轴及Y轴双方倾斜。
即，在本实施方式中，第2部件22以描绘阿拉伯数字“8”字的方式在XY平面内移动。
在路径Tn1中，第2部件22一边沿+X轴方向移动一边沿+Y轴方向移动。即，在衬底P的扫描移动期间，第2部件22关于X轴方向，沿与衬底P的步进移动期间中的衬底P的移动方向相反的方向移动。
在路径Tn2中，第2部件22实质上沿-X轴方向移动。即，在衬底P的步进移动期间，第2部件22沿与衬底P的步进移动期间中的衬底P的移动方向实质上相同的方向移动。第2部件22以其与衬底P的相对速度(相对加速度)减小的方式移动。
在路径Tn3中，第2部件22一边沿+X轴方向移动一边沿-Y轴方向移动。即，在衬底P的扫描移动期间，第2部件22关于X轴方向，沿与衬底P的步进移动期间中的衬底P的移动方向相反的方向移动。
在路径Tn4中，第2部件22实质上沿-X轴方向移动。即，在衬底P的步进移动期间，第2部件22沿与衬底P的步进移动期间中的衬底P的移动方向实质上相同的方向移动。第2部件22以其与衬底P的相对速度(相对加速度)减小的方式移动。
在本实施方式中，也会抑制液体LQ流出、及在液体LQ中产生气泡。因此，能够抑制曝光不良的产生，能够抑制不良器件的产生。
此外，在上述的第1～第10实施方式中，也可以从第1液体回收部51实质上回收气体G，而抑制液体LQ的回收。例如，通过以相对于液体LQ具有疏液性的膜形成第1液体回收部51的第1液体回收口51M的内表面，来抑制液体LQ从第1液体回收口51的回收。
此外，在上述的各实施方式中，也可以不从第1气体供给部61有源地供给气体G。换言之，第1气体供给部61也可以不与气体供给装置连接。例如，第1气体供给部61也可以向气体环境开放(例如向大气开放)。通过在第1气体供给部61向气体环境开放(向大气开放)的状态下，进行从第1液体回收部51进行的回收动作(吸引动作)，而使气体G被动地从第1气体供给部61流入到第2空间SP2。由此，抑制随着第1液体回收部51的回收动作而导致的第2空间SP2的压力降低。
此外，在上述的各实施方式中，例如从第1液体供给部41供给的液体LQ、与从第2液体供给部42供给的液体LQ也可以不同。从第1液体供给部41供给的液体LQ、与从第3液体供给部43供给的液体LQ也可以不同。从第2液体供给部42供给的液体LQ、与从第3液体供给部43供给的液体LQ也可以不同。液体LQ不同的情况包含：液体LQ的种类(物性)不同、液体LQ的种类相同而温度及洁净度中的至少一方不同。
此外，在上述的各实施方式中，也可以在液浸部件5上设置第1液体回收部51及第1液体供给部41，并省略第2、第3液体回收部52、53、第2、第3液体供给部42、43、及第1、第2气体供给部61、62的至少一部分。
此外，在上述的各实施方式中，也可以在液浸部件5上设置第1液体回收部51及第2液体供给部42，并省略第2、第3液体回收部52、53、第1、第3液体供给部41、43、及第1、第2气体供给部61、62的至少一部分。
此外，在上述的各实施方式中，也可以在液浸部件5上设置第1液体回收部51及第3液体供给部43，并省略第2、第3液体回收部52、53、第1、第2液体供给部41、42、及第1、第2气体供给部61、62的至少一部分。
此外，在上述的各实施方式中，也可以在液浸部件5上设置第1液体回收部51及第1气体供给部61，并省略第2、第3液体回收部52、53、第1、第2、第3液体供给部41、42、43、及第2气体供给部62的至少一部分。
此外，在上述的各实施方式中，也可以在液浸部件5上设置第1液体回收部51及第2液体回收部52，并省略第3液体回收部53、第1、第2、第3液体供给部41、42、43、及第1、第2气体供给部61、62的至少一部分。
此外，在上述的各实施方式中，也可以没有尺寸为Hb的第2间隙部分。
此外，在上述的各实施方式中，第1部件21也可以不具有第2部分212。第1部件21也可以不具有上板部214。
此外，在上述的各实施方式中，也可以以面向第4空间SP4的方式，在第1部件21和第2部件22的至少一方上，设置向第4空间SP4供给液体的液体供给部。
另外，在上述的各实施方式中，也可以不通过来自第2部件(22等)的气体供给部(61等)的气体G形成气封。即，从气体供给部(61等)进行的气体供给也可以不具有防止液体LQ流出的功能。
另外，在上述的各实施方式中，从第2部件(22等)的气体供给部(61等)供给的气体既可以与液浸部件(5等)周围的气体相同，也可以不同。例如，也可以从气体供给部(61等)供给包含二氧化碳的气体(碳酸气体)。
＜第11实施方式＞
说明第11实施方式。在以下的说明中，对与上述的实施方式相同或等同的构成部分标注相同的附图标记，并简略或省略其说明。
图25是表示本实施方式的液浸部件5K的一个例子的图。图26是本实施方式的液浸部件5K(第2部件22K)的从下方观察到的图。液浸部件5K能够在可在终端光学元件13的下方移动的衬底P(物体)上形成液体LQ的液浸空间LS。液浸部件5K具有：第1部件21K，其配置在曝光用光EL的光路K(KL)的周围的至少一部分上；和第2部件22K，其至少一部分以能够在第1部件21K的下方与衬底P(物体)相对的方式配置。第2部件22K配置在光路K的周围的至少一部分上。第2部件22K能够相对于第1部件21K移动。
第1部件21K配置在与第2部件22K相比从衬底P(物体)分开的位置上。第2部件22K的至少一部分配置在第1部件21K与衬底P(物体)之间。第2部件22K的至少一部分配置在终端光学元件13与衬底P(物体)之间。此外，第2部件22K也可以不配置在终端光学元件13与衬底P(物体)之间。
第1部件21K具有：朝向-Z轴方向的下表面23K；和配置在下表面23K的周围的至少一部分上的流体回收部24K。第2部件22K具有：朝向+Z轴方向的上表面25K；朝向-Z轴方向的下表面26K；和配置在下表面26K的周围的至少一部分上的流体回收部27K。流体回收部24K回收液浸空间LS的液体LQ的至少一部分。流体回收部27K回收液浸空间LS的液体LQ的至少一部分。
第1部件21K具有：与终端光学元件13的侧面131相对的内侧面28K、和相对于曝光用光EL的光路K(KL)朝向外侧的外侧面29K。第2部件22K具有与外侧面29K隔着间隙相对的内侧面30K。
第1部件21K的内侧面28K与终端光学元件13的侧面131隔着间隙相对。
第2部件22K能够与下表面23K相对。第2部件22K能够与流体回收部24K相对。第2部件22K的上表面25K的至少一部分与下表面23K隔着间隙相对。上表面25K的至少一部分与射出面12隔着间隙相对。此外，上表面25K也可以不与射出面12相对。
衬底P(物体)能够与下表面26K相对。衬底P(物体)能够与流体回收部27K的至少一部分相对。衬底P的上表面的至少一部分与下表面26K隔着间隙相对。衬底P的上表面的至少一部分与射出面12隔着间隙相对。
在Z轴方向上，衬底P(物体)的上表面与射出面12之间的间隙的尺寸比衬底P的上表面与下表面26K之间的间隙的尺寸大。此外，衬底P(物体)的上表面与射出面12之间的间隙的尺寸也可以与衬底P的上表面与下表面26K之间的间隙的尺寸实质上相等。此外，衬底P(物体)的上表面与射出面12之间的间隙的尺寸也可以比衬底P的上表面与下表面26K之间的间隙的尺寸小。
在下表面23K与上表面25K之间形成有空间SP5。在下表面26K与衬底P(物体)的上表面之间形成有空间SP6。在侧面131与内侧面28K之间形成有空间SP7。
终端光学元件13的侧面131配置在射出面12的周围。侧面131是不射出曝光用光EL的非射出面。曝光用光EL从射出面12通过，而不从侧面131通过。
第1部件21K的下表面23K不回收液体LQ。下表面23K是非回收部，无法回收液体LQ。第1部件21K的下表面23K能够在其与第2部件22K之间保持液体LQ。
第2部件22K的上表面25K不回收液体LQ。上表面25K是非回收部，无法回收液体LQ。第2部件22K的上表面25K能够在其与第1部件21K之间保持液体LQ。
第2部件22K的下表面26K不回收液体LQ。下表面26K是非回收部，无法回收液体LQ。第2部件22K的下表面26K能够在其与衬底P(物体)之间保持液体LQ。
内侧面28K、外侧面29K及内侧面30K不回收液体LQ。内侧面28K、外侧面29K及内侧面30K是非回收部，无法回收液体LQ。
在本实施方式中，下表面23K与XY平面实质上平行。上表面25K也与XY平面实质上平行。下表面26K也与XY平面实质上平行。即，下表面23K与上表面25K实质上平行。上表面25K与下表面26K实质上平行。
此外，下表面23K也可以相对于XY平面为非平行。下表面23K可以相对于XY平面倾斜，也可以包含曲面。
此外，上表面25K也可以相对于XY平面为非平行。上表面25K可以相对于XY平面倾斜，也可以包含曲面。
此外，下表面26K也可以相对于XY平面为非平行。下表面26K可以相对于XY平面倾斜，也可以包含曲面。
此外，下表面23K与上表面25K既可以平行，也可以非平行。上表面25K与下表面26K既可以平行，也可以非平行。下表面23K与下表面26K既可以平行，也可以非平行。
第1部件21K具有能够供从射出面12射出的曝光用光EL通过的开口34K。第2部件22具有能够供从射出面12射出的曝光用光EL通过的开口35K。在开口34K的内侧配置有终端光学元件13的至少一部分。在开口34K的下端的周围配置有下表面23K。在开口35K的上端的周围配置有上表面25K。在开口35K的下端的周围配置有下表面26。
XY平面内的开口34K的尺寸比开口35K的尺寸大。关于X轴方向，开口34K的尺寸比开口35K的尺寸大。关于Y轴方向，开口34K的尺寸比开口35K的尺寸大。在本实施方式中，在射出面12的正下方没有配置第1部件21K。第1部件21K的开口34K配置在射出面12的周围。开口34K比射出面12大。在终端光学元件13的侧面131与第1部件21K之间所形成的间隙的下端面向第2部件22K的上表面25K。第2部件22K的开口35K以与射出面12相对的方式配置。在本实施方式中，XY平面内的开口35K的形状为长方形状。开口35K在X轴方向上较长。此外，开口35K的形状可以是在X轴方向上较长的椭圆形，也可以是在X轴方向上较长的多边形。
此外，开口34K的尺寸也可以比开口35K的尺寸小。此外，开口34K的尺寸也可以与开口35K的尺寸实质上相等。
第1部件21K配置在终端光学元件13的周围。第1部件21K是环状的部件。第1部件21K以不与终端光学元件13接触的方式配置。在第1部件21K与终端光学元件13之间形成有间隙。第1部件21K不与射出面12相对。此外，第1部件21K的一部分也可以与射出面12相对。即，第1部件21K的一部分也可以配置在射出面12与衬底P(物体)的上表面之间。此外，第1部件21K也可以不是环状。例如，第1部件21K也可以配置在终端光学元件13(光路K)的周围的一部分上。例如，第1部件21K也可以在终端光学元件13(光路K)的周围配置多个。
第2部件22K配置在光路K的周围。第2部件22K是环状的部件。第2部件22K以不与第1部件21K接触的方式配置。在第2部件22K与第1部件21K之间形成有间隙。
第2部件22K能够相对于第1部件21K移动。第2部件22K能够相对于终端光学元件13移动。第2部件22K与第1部件21K的相对位置会变化。第2部件22K与终端光学元件13的相对位置会变化。
第2部件22K能够在与终端光学元件13的光轴垂直的XY平面内移动。第2部件22K能够与XY平面实质上平行地移动。在本实施方式中，第2部件22K至少能够沿X轴方向移动。此外，第2部件22K也可以除了能够沿X轴方向移动以外，还能够沿Y轴、Z轴、θX、θY、及θZ中的至少一个方向移动。
在本实施方式中，终端光学元件13实质上不移动。第1部件21K实质上也不移动。
第2部件22K能够在第1部件21K的至少一部分的下方移动。第2部件22K能够在第1部件21K与衬底P(物体)之间移动。
通过第2部件22K在XY平面内的移动，第1部件21K的外侧面29K与第2部件22K的内侧面30K之间的间隙的尺寸会变化。换言之，通过第2部件22K在XY平面内的移动，外侧面29K与内侧面30K之间的空间的大小会变化。例如，通过第2部件22K沿-X轴方向的移动，相对于终端光学元件13在+X侧的外侧面29K与内侧面30K之间的间隙的尺寸会减小(外侧面29K与内侧面30K之间的空间会减小)。通过第2部件22K沿+X轴方向的移动，相对于终端光学元件13在+X侧的外侧面29K与内侧面30K之间的间隙的尺寸会增大(外侧面29K与内侧面30K之间的空间会增大)。
在本实施方式中，以第1部件21K(外侧面29K)与第2部件22K(内侧面30K)不接触的方式，来确定第2部件22K的能够移动范围(可动范围)。
液浸部件5K具有供给用于形成液浸空间LS的液体LQ的液体供给部31K。液体供给部31K配置在第1部件21K上。
此外，液体供给部31K也可以配置在第1部件21K及第2部件22K双方上。此外，液体供给部31K也可以配置在第1部件21K上，而不配置在第2部件22K上。此外，液体供给部31K也可以配置在第2部件22K上，而不配置在第1部件21K上。此外，液体供给部31K也可以配置在与第1部件21K及第2部件22K不同的部件上。
液体供给部31K关于相对于光路K(终端光学元件13的光轴)而言的放射方向而配置在流体回收部24K及流体回收部27K的内侧。在本实施方式中，液体供给部31K包含配置在第1部件21K的内侧面28K上的开口(液体供给口)。液体供给部31K以与侧面131相对的方式配置。液体供给部31K向侧面131与内侧面28K之间的空间SP7供给液体LQ。在本实施方式中，液体供给部31K相对于光路K(终端光学元件13)分别配置在+X侧及-X侧。
此外，液体供给部31K可以相对于光路K(终端光学元件13)配置在Y轴方向上，也可以在包含X轴方向及Y轴方向在内的光路K(终端光学元件13)的周围配置多个。液体供给部31K也可以是一个。此外，也可以取代液体供给部31K，或是除了液体供给部31K以外，还将能够供给液体LQ的液体供给部设在下表面23K上。
在本实施方式中，液体供给部(液体供给口)31K经由形成在第1部件21K的内部的供给流路31RK而与液体供给装置31SK连接。液体供给装置31SK能够将洁净且经温度调整了的液体LQ供给至液体供给部31K。液体供给部31K为了形成液浸空间LS，而供给来自液体供给装置31SK的液体LQ。
在下表面23K的内侧的边缘与上表面25K之间，形成有开口40K。包含射出面12与衬底P(物体)之间的光路K在内的光路空间SPK、和下表面23K与上表面25K之间的空间SP5经由开口40K而连结。在本实施方式中，光路空间SPK包含射出面12与衬底P(物体)之间的空间、及射出面12与上表面25K之间的空间。开口40K以面向光路K的方式配置。侧面131与内侧面28K之间的空间SP7、与空间SP5经由开口40K而连结。
来自液体供给部31K的液体LQ的至少一部分经由开口40K而被供给至下表面23K与上表面25K之间的空间SP5。为了形成液浸空间LS而从液体供给部31K供给的液体LQ的至少一部分经由开口34K及开口35K而被供给至与射出面12相对的衬底P(物体)上。由此，光路K被液体LQ充满。来自液体供给部31K的液体LQ的至少一部分被供给至下表面26K与衬底P(物体)的上表面之间的空间SP6。
流体回收部24K相对于光路K(终端光学元件13的光轴)配置在下表面23K的外侧。流体回收部24K配置在下表面23K的周围。流体回收部24K配置在曝光用光EL的光路K的周围。此外，流体回收部24K也可以配置在下表面23K的周围的一部分上。例如，流体回收部24K也可以在下表面23K的周围配置多个。流体回收部24K以面向空间SP5的方式配置。流体回收部24K从空间SP5回收液体LQ。
流体回收部27K相对于光路K(终端光学元件13的光轴)配置在下表面26K的外侧。流体回收部27K配置在下表面26K的周围。流体回收部27K配置在曝光用光EL的光路K的周围。此外，流体回收部27K也可以配置在下表面26K的周围的一部分上。例如，流体回收部27K也可以在下表面26K的周围配置多个。流体回收部27K以面向空间SP6的方式配置。流体回收部27K从空间SP6回收液体LQ。
流体回收部27K相对于光路K(终端光学元件13的光轴)配置在第1部件21K的外侧。流体回收部27K相对于光路K(终端光学元件13的光轴)配置在空间SP5的外侧。
在本实施方式中，抑制液体LQ从上表面25K侧的空间SP5及下表面26K侧的空间SP6中的一方向另一方移动。空间SP5和空间SP6通过第2部件22K而被分隔。空间SP5的液体LQ能够经由开口35K向空间SP6移动。空间SP5的液体LQ不经由开口35K则无法向空间SP6移动。相对于光路K与开口35K相比靠外侧的空间SP5中所存在的液体LQ无法向空间SP6移动。空间SP6的液体LQ能够经由开口35K向空间SP5移动。空间SP6的液体LQ不经由开口35K则无法向空间SP5移动。相对于光路K与开口35K相比靠外侧的空间SP6中所存在的液体LQ无法向空间SP5移动。即，在本实施方式中，液浸部件5K除了开口35K以外，不具有将空间SP5与空间SP6流体性地连接的流路。
在本实施方式中，流体回收部27K从空间SP6回收液体LQ，而不回收空间SP5的液体LQ。流体回收部24K从空间SP5回收液体LQ，而不回收空间SP6的液体LQ。
另外，相对于光路K而移动到空间SP5的外侧(外侧面29K的外侧)的液体LQ通过内侧面30K，而被抑制移动到衬底P上(空间SP5)。
流体回收部24K包含配置在第1部件21K的下表面23K的周围的至少一部分上的开口(流体回收口)。流体回收部24K以与上表面25K相对的方式配置。流体回收部24K经由形成在第1部件21K的内部的回收流路(空间)24RK而与液体回收装置24CK连接。液体回收装置24CK能够将流体回收部24K与真空系统(未图示)连接。流体回收部24K能够从空间SP5回收液体L。空间SP5的液体LQ的至少一部分能够经由流体回收部24K流入到回收流路24RK。
在本实施方式中，流体回收部24K包含多孔部件，流体回收口包含多孔部件的孔。在本实施方式中，多孔部件包含网眼孔板。流体回收部24K经由多孔部件的孔来回收液体LQ。从流体回收部24K(多孔部件的孔)回收的空间SP5的液体LQ流入到回收流路24RK，并在该回收流路24RK中流过而被液体回收装置24CK回收。
流体回收部27K包含配置在第2部件22K的下表面26K的周围的至少一部分上的开口(流体回收口)。流体回收部27K以与衬底P(物体)的上表面相对的方式配置。流体回收部27K经由形成在第2部件22K的内部的回收流路(空间)27RK而与液体回收装置27CK连接。液体回收装置27CK能够将流体回收部27K和真空系统(未图示)连接。流体回收部27K能够回收空间SP6的液体LQ的至少一部分。空间SP6的液体LQ的至少一部分能够经由流体回收部27K流入到回收流路27RK。因此，也可以将流体回收部27K称为液体回收部27K。
在本实施方式中，流体回收部27K包含多孔部件，流体回收口包含多孔部件的孔。在本实施方式中，多孔部件包含网眼孔板。流体回收部27K经由多孔部件的孔来回收流体(液体LQ及气体中的一方或双方)。从流体回收部27K(多孔部件的孔)回收的空间SP6的液体LQ流入到回收流路27RK，并在该回收流路27KR中流过而被液体回收装置27CK回收。
回收流路27RK相对于光路K(终端光学元件13的光轴)配置在内侧面30K的外侧。回收流路27RK配置在液体回收部27K的上方。通过第2部件22K的移动，第2部件22K的流体回收部27K及回收流路27RK在第1部件21K的外侧面29K的外侧移动。
经由流体回收部27K连同液体LQ一起回收气体。此外，也可以不在第2部件22K上设置多孔部件。即，也可以不经由多孔部件而回收空间SP6的流体(液体LQ及气体中的一方或双方)。
在本实施方式中，与从液体供给部31K进行的液体LQ的供给动作并行地，执行从流体回收部27K进行的液体LQ的回收动作，由此在一方侧的终端光学元件13及液浸部件5K、与另一方侧的衬底P(物体)之间通过液体LQ形成液浸空间LS。
另外，在本实施方式中，与从液体供给部31K进行的液体LQ的供给动作、及从流体回收部27K进行的流体的回收动作并行地，执行从流体回收部24K进行的流体的回收动作。
在本实施方式中，液浸空间LS的液体LQ的界面LG5形成在第1部件21K与第2部件22K之间。液浸空间LS的液体LQ的界面LG6形成在第2部件22K与衬底P(物体)之间。液浸空间LS的液体LQ的界面LG7形成在终端光学元件13与第1部件21之间。
在本实施方式中，第2部件22K具有向液浸空间LS的周围的至少一部分供给气体G的气体供给部61K。衬底P(物体)能够与气体供给部61K相对。气体供给部61K以能够与衬底P(物体)相对的方式配置。气体供给部61K相对于光路K(开口35的中心)配置在流体回收部27K的外侧。气体供给部61K配置在流体回收部27K的周围的至少一部分上。流体回收部27K包含在第2部件22K上设有多个且能够供给气体G的开口(气体供给口)。如图26所示，在本实施方式中，气体供给部61K相对于光路K(开口35K的中心)在流体回收部27K的外侧以包围光路K(开口35K的中心)的方式配置多个。
气体供给部61K经由形成在第2部件22K的内部的供给流路(空间)61RK而与气体供给装置61SK连接。气体供给装置61SK能够送出洁净且经温度调整了的气体G。另外，气体供给装置61SK包含能够调整所供给的气体G的湿度的湿度调整装置，能够供给加湿后的气体G。从气体供给装置61SK送出的气体G经由供给流路61RK，被供给至气体供给部61K。气体供给部61K将来自气体供给装置61SK的气体G供给至液浸空间LS的周围的至少一部分。在本实施方式中，气体供给部61K向液体LQ的界面LG6的周围的至少一部分供给气体G。
接下来，说明本实施方式的液浸部件5K的动作的一个例子。与上述的实施方式同样地，在形成有液浸空间LS的状态下，使第2部件22及衬底P(物体)的一方或双方移动。在使第2部件22及衬底P(物体)的一方或双方移动的期间的至少一部分中，从气体供给部61K供给气体G。
气体供给部61K以在形成有液浸空间LS的状态下抑制液体LQ从液浸部件5K与衬底P(物体)之间的空间SP6流出的方式，供给气体G。
图27是表示气体供给部61K的气体供给动作的一个例子的示意图。图27是第2部件22K的从下表面侧观察到的图。在本实施方式中，基于第2部件22K的移动条件及衬底P(物体)的移动条件中的一方或双方，来确定从气体供给部61K的气体供给条件。
例如在衬底P静止的状态下，在第2部件22K一边沿-X轴方向移动一边沿+Y轴方向移动的情况下，如图27的(A)所示，在XY平面内，液浸空间LS相对于第2部件22K的中心沿+X侧及-Y侧移动。即，第2部件22K与液浸空间LS以液体LQ的界面LG6接近第2部件22K的+X侧及-Y侧的边缘的方式相对移动。换言之，第2部件22K与液浸空间LS以液体LQ从第2部件22K的+X侧及-Y侧的边缘流出的方式相对移动。另外，例如在第2部件22静止的状态下，即使在衬底P(物体)一边沿+X轴方向移动一边沿-Y轴方向移动的情况下，如图27的(A)所示，第2部件22K与液浸空间LS的相对位置也会变化。
另外，例如在衬底P静止的状态下，在第2部件22K一边沿+X轴方向移动一边沿-Y轴方向移动的情况下，如图27的(B)所示，在XY平面内，液浸空间LS相对于第2部件22K的中心沿-X侧及+Y侧移动。即，第2部件22K与液浸空间LS以液体LQ的界面LG6接近第2部件22K的-X侧及+Y侧的边缘的方式相对移动。换言之，第2部件22K与液浸空间LS以液体LQ从第2部件22K的-X侧及+Y侧的边缘流出的方式相对移动。另外，例如在第2部件22静止的状态下，即使在衬底P(物体)一边沿-X轴方向移动一边沿+Y轴方向移动的情况下，如图27的(B)所示，第2部件22K与液浸空间LS的相对位置也会变化。
即，基于XY平面内的第2部件22K的移动方向，从液浸部件5K与衬底P(物体)之间的空间SP6流出的液体LQ的流出位置及流出方向中的至少一方会变化。另外，基于XY平面内的衬底P(物体)的移动方向，从液浸部件5K与衬底P(物体)之间的空间SP6流出的液体LQ的流出位置及流出方向中的至少一方会变化。
另外，基于XY平面内的第2部件22K的移动轨迹，从液浸部件5K与衬底P(物体)之间的空间SP6流出的液体LQ的流出位置及流出方向中的至少一方会变化。另外，基于XY平面内的衬底P(物体)的移动轨迹，从液浸部件5K与衬底P(物体)之间的空间SP6流出的液体LQ的流出位置及流出方向中的至少一方会变化。
另外，基于XY平面内的第2部件22K的移动速度或加速度，从液浸部件5K与衬底P(物体)之间的空间SP6流出的液体LQ的流出位置、流出方向及流出量中的至少一个会变化。另外，基于XY平面内的衬底P(物体)的移动速度或加速度，从液浸部件5K与衬底P(物体)之间的空间SP6流出的液体LQ的流出位置、流出方向及流出量中的至少一方会变化。
即，基于第2部件22K的移动条件及衬底P(物体)的移动条件中的一方或双方，决定从液浸部件5K与衬底P(物体)之间的空间SP6流出的液体LQ的流出位置、流出方向及流出量中的至少一个。第2部件22K的移动条件包含第2部件22K的移动速度、加速度、移动方向及移动轨迹中的至少一个。衬底P(物体)的移动条件包含衬底P(物体)的移动速度、加速度、移动方向及移动轨迹中的至少一个。
因此，控制装置6能够基于第2部件2K的移动条件及衬底P(物体)的移动条件中的一方或双方，推测(推定)从液浸部件5K与衬底P(物体)之间的空间SP6流出的液体LQ的流出位置、流出方向及流出量中的至少一个。
第2部件2K的移动条件及衬底P(物体)的移动条件根据曝光配方(曝光控制信息)而被规定。即，第2部件2K的移动条件及衬底P(物体)的移动条件是已知的信息。因此，控制装置6能够基于作为已知的信息的第2部件2K的移动条件及衬底P(物体)的移动条件中的一方或双方，推测(推定)从液浸部件5K与衬底P(物体)之间的空间SP6流出的液体LQ的流出位置、流出方向及流出量中的至少一个。
基于第2部件2K的移动条件及衬底P(物体)的移动条件中的一方或双方的、液体LQ的流出位置、流出方向及流出量中的至少一个既能够例如使用模拟来求出，也能够通过实验来求出。即，第2部件2K的移动条件及衬底P(物体)的移动条件中的一方或双方、与液体LQ的流出位置、流出方向及流出量中的至少一个的关系能够通过模拟或实验事前求出。该信息存储在存储装置7中。控制装置6能够基于存储装置7的信息、和通过曝光配方确定的第2部件2K的移动条件及衬底P(物体)的移动条件中的一方或双方，求出(推测)从空间SP6流出的液体LQ的流出位置、流出方向及流出量中的至少一个。
控制装置6基于从第2部件22的移动条件及衬底P(物体)的移动条件中的一方或双方推测的、与从液浸部件5K与衬底P(物体)之间的空间SP6流出的液体LQ的流出位置、流出方向及流出量中的至少一个相关的信息，确定气体供给部61K的气体供给条件。
例如，如图27的(A)所示，在第2部件22K及衬底P(物体)中的一方或双方以使液体LQ从第2部件22K的+X侧及-Y侧的边缘流出的方式移动的情况下，控制装置6以抑制该液体LQ的流出的方式，确定多个气体供给部61K各自的气体供给条件。在图27的(A)所示的例子中，从多个气体供给部61K中的、配置在第2部件22K的+X侧及-Y侧的边缘上的气体供给部61K供给气体G。另外，如图27的(B)所示，在第2部件22K及衬底P(物体)中的一方或双方以使液体LQ从第2部件22K的-X侧及+Y侧的边缘流出的方式移动的情况下，控制装置6以抑制该液体LQ的流出的方式，从多个气体供给部61K中的、配置在第2部件22K的-X侧及+Y侧的边缘上的气体供给部61K供给气体G。
此外，控制装置6也可以以抑制液体LQ的流出的方式，作为气体供给部61K的气体供给条件而确定从气体供给部61K的供给方向、供给范围、所供给的气体G的流速及有无气体供给中的至少一个条件。
此外，也可以在与液浸部件5K(第2部件22K)不同的部件上，配置设有气体供给部61K的气体供给部件。该气体供给部件可以以不与第2部件22K接触的方式，基于第2部件22K的移动条件而移动。控制装置6可以基于第2部件22K的移动条件及衬底P(物体)的移动条件的一方或双方，以抑制液体LQ的流出的方式，确定气体供给部61K(气体供给部件)的位置。
如以上说明那样，在本实施方式中，也能够抑制液体LQ的流出。因此，抑制曝光不良的产生、及不良器件的产生。
此外，在本实施方式中，如图28所示，下表面26K与流体回收部27K也可以配置在同一平面内。
此外，在上述的第11实施方式中，如图29所示，第1部件21K的至少一部分也可以与终端光学元件13的射出面12相对。即，第1部件21K的一部分也可以配置在射出面12与衬底P(物体)的上表面之间。
在图29所示的例子中，第1部件21K具有配置在开口34K的周围的上表面44K。在开口34K的上端的周围配置有上表面44K。另外，在图29所示的例子中，第2部件22K的上表面25K的一部分也与射出面12相对。
此外，在上述的各实施方式中，如图29所示，也可以以面向空间SP5的方式设置液体供给部(液体供给口)3100。在图29所示的例子中，液体供给部3100以面向空间SP5的方式配置在第1部件21K的下表面23K上。此外，液体供给部3100也可以以面向空间SP5的方式配置在第2部件22K的上表面25K上。
通过从液体供给部3100供给液体LQ，即使例如从面向空间SP7的液体供给部31K供给的液体LQ不流入空间SP5中，也可以通过液体LQ来充满空间SP5。
此外，在上述的第11实施方式中，第2部件22K也可以不与射出面12相对。即，第2部件22K也可以不配置在射出面12与衬底P(物体)的上表面之间。例如，如图30所示，第1部件21K的下表面23K也可以与射出面12相比配置在+Z侧。此外，关于Z轴方向的第1部件21K的下表面23K的位置(高度)与射出面12的位置(高度)也可以实质上相等。第1部件21K的下表面23K也可以与射出面12相比配置在-Z侧。
此外，在上述的各实施方式中，衬底P(物体)的上表面与射出面12之间的间隙的尺寸也可以同衬底P的上表面与第2部件(22等)的下表面之间的间隙的尺寸实质上相等。
此外，在上述的各实施方式中，衬底P(物体)的上表面与射出面12之间的间隙的尺寸也可以比衬底P的上表面与第2部件(22等)的下表面之间的间隙的尺寸小。
此外，在上述的各实施方式中，也可以将从第1部件(21等)与终端光学元件13之间的空间吸引液体LQ及气体中的至少一方的吸引口设在第1部件21上。
此外，在上述的各实施方式中，第1部件(21等)也可以不为环状。例如，第1部件21也可以配置在终端光学元件13(光路K)的周围的一部分上。例如，第1部件21也可以在终端光学元件13(光路K)的周围配置多个。
此外，在上述的各实施方式中，控制装置6包括含CPU等的计算机系统。另外，控制装置6包含能够执行计算机系统与外部装置之间的通信的接口。存储装置7包含例如RAM等存储器、硬盘、CD-ROM等记录介质。在存储装置7中安装有控制计算机系统的操作系统(OS)，并存储有用于控制曝光装置EX的程序。
此外，也可以在控制装置6上连接能够将输入信号输入的输入装置。输入装置包含键盘、鼠标等输入设备、或能够输入来自外部装置的数据的通信装置等。另外，也可以设置液晶显示器等显示装置。
记录在存储装置7中的包含程序在内的各种信息能够由控制装置(计算机系统)6读取。在存储装置7中记录有使控制装置6执行液浸曝光装置的控制的程序，该液浸曝光装置经由液体并以曝光用光对衬底进行曝光，该液体充满射出曝光用光的光学部件的射出面与衬底之间的曝光用光的光路。
根据上述的实施方式，记录在存储装置7中的程序也可以使控制装置6执行以下步骤：使用液浸部件在衬底的表面上形成液体的液浸空间，该液浸部件具有第1部件和第2部件，其中，该第1部件包含配置在曝光用光的光路周围的第1部分，在第1部分上设有能够供曝光用光通过的第1开口部、及配置在第1开口部的周围的至少一部分上且能够与衬底的表面相对的第1液体供给部，该第2部件具有能够与衬底的表面相对的第1液体回收部，能够相对于光路在第1部分的外侧相对于第1部件移动；经由液浸空间的液体并以从射出面射出的曝光用光对衬底进行曝光；和在衬底的曝光的至少一部分中，相对于第1部件移动第2部件。
另外，根据上述的实施方式，记录在存储装置7中的程序也可以使控制装置6执行以下步骤：使用液浸部件在衬底的表面上形成液体的液浸空间，该液浸部件具有第1部件和第2部件，其中，该第1部件包含配置在曝光用光的光路周围的第1部分，在第1部分上设有能够供曝光用光通过的第1开口部，该第2部件具有能够与物体的表面相对的第1液体回收部、以及关于相对于光学部件的光轴而言的放射方向而配置在第1液体回收部的外侧且能够与物体的表面相对的第1气体供给部，能够相对于光路在第1部分的外侧相对于第1部件移动；经由液浸空间的液体并以从射出面射出的曝光用光对衬底进行曝光；和在衬底的曝光的至少一部分中，相对于第1部件移动第2部件。
另外，根据上述的实施方式，记录在存储装置7中的程序也可以使控制装置6执行以下步骤：使用液浸部件在衬底的表面上形成液体的液浸空间，该液浸部件具有第1部件和第2部件，其中该第1部件包含配置在曝光用光的光路周围的第1部分，在第1部分上设有能够供曝光用光通过的第1开口部，该第2部件具有能够与物体的表面相对的第1液体回收部、以及关于相对于光学部件的光轴而言的放射方向而配置在光路与第1液体回收部之间且能够与物体的表面相对的第2液体供给部，能够相对于光路在第1部分的外侧相对于第1部件移动；经由液浸空间的液体并以从射出面射出的曝光用光对衬底进行曝光；和在衬底的曝光的至少一部分中，相对于第1部件移动第2部件。
另外，根据上述的实施方式，记录在存储装置7中的程序也可以使控制装置6执行以下步骤：使用液浸部件在衬底的表面上形成液体的液浸空间，该液浸部件具有第1部件、第2部件和第2液体回收部，其中，该第1部件包含配置在曝光用光的光路周围的第1部分，在第1部分上设有能够供曝光用光通过的第1开口部，该第2部件具有能够与物体的表面相对的第1液体回收部，能够相对于光路在第1部分的外侧相对于第1部件移动，该第2液体回收部配置在第1部件上，能够回收从物体上流入到第1部件与第2部件之间的间隙中的液体的至少一部分；经由液浸空间的液体并以从射出面射出的曝光用光对衬底进行曝光；和在衬底的曝光的至少一部分中，相对于第1部件移动第2部件。
另外，根据上述的实施方式，记录在存储装置7中的程序也可以使控制装置6执行以下步骤：使用液浸部件在衬底的表面上形成液体的液浸空间，该液浸部件具有第1部件、第2部件和第2液体回收部，其中，该第1部件包含配置在曝光用光的光路周围的第1部分，在第1部分上设有能够给供曝光用光通过的第1开口部，该第2部件具有能够与物体的表面相对的第1液体回收部，能够相对于光路在第1部分的外侧相对于第1部件移动，该第2液体回收部能够回收从物体上流入到第1部件与第2部件之间的间隙中的液体的至少一部分，第1部件与第2部件之间的间隙包含第1尺寸的第1间隙部分、和相对于光学部件的光轴配置在第1间隙部分的外侧、且比第1尺寸小的第2尺寸的第2间隙部分，第2液体回收部能够从第1间隙部分回收液体；经由液浸空间的液体并以从射出面射出的曝光用光对衬底进行曝光；和在衬底的曝光的至少一部分中，相对于第1部件移动第2部件。
另外，根据上述的实施方式，记录在存储装置7中的程序也可以使控制装置6执行以下步骤：使用第1液浸部件在能够在光学部件的下方移动的衬底上形成液体的液浸空间，该第1液浸部件具有第1部件和第2部件，其中，该第1部件配置在曝光用光的光路周围的至少一部分上，该第2部件的至少一部分以能够在第1部件的下方与物体相对的方式配置，且该第2部件相对于第1部件可动；经由液浸空间的液体并以从射出面射出的曝光用光对衬底进行曝光；在衬底的曝光的至少一部分中，相对于第1部件移动第2部件；和从气体供给部向液浸空间的周围的至少一部分供给气体。
由于存储在存储装置7中的程序被控制装置6读取，所以衬底载台2、计测载台3及液浸部件5等曝光装置EX的各种装置协动，从而在形成了液浸空间LS的状态下，执行衬底P的液浸曝光等各种处理。
此外，在上述的各实施方式中，投影光学系统PL的终端光学元件13的射出面12侧(像面侧)的光路K被液体LQ充满。但是，投影光学系统PL也可以是例如国际公开第2004/019128号小册子所公开的那样的、终端光学元件13的入射侧(物体面侧)的光路也被液体LQ充满的投影光学系统。
此外，在上述的各实施方式中，虽然液体LQ是水，但是也可以是水以外的液体。优选液体LQ相对于曝光用光EL具有透过性、相对于曝光用光EL具有高折射率、相对于形成投影光学系统PL或衬底P的表面的感光材料(光致抗蚀剂)等的膜稳定。例如，液体LQ也可以是氢氟醚(HFE)、过氟聚醚(PFPE)、Fomblin Oil等氟类液体。另外，液体LQ也可以是各种流体，例如超临界流体。
此外，在上述的各实施方式中，衬底P包含半导体器件制造用的半导体晶片。但是，衬底P也可以包含例如显示器件用的玻璃衬底、薄膜磁头用的陶瓷晶片、或曝光装置中所使用的光罩或标线片的原版(合成石英、硅晶片)等。
此外，在上述的各实施方式中，曝光装置EX是使光罩M和衬底P同步移动而对光罩M的图案进行扫描曝光的步进扫描方式的扫描型曝光装置(扫描步进机)。但是，曝光装置EX也可以是例如在光罩M和衬底P静止的状态下对光罩M的图案进行一次性曝光并使衬底P依次步进移动的步进重复方式的投影曝光装置(步进机)。
另外，曝光装置EX也可以是，在步进重复方式的曝光中，在第1图案与衬底P大致静止的状态下，使用投影光学系统将第1图案的缩小像转印到衬底P上之后，在第2图案与衬底P大致静止的状态下，使用投影光学系统将第2图案的缩小像与第1图案部分重叠地一次性曝光到衬底P上的曝光装置(拼接方式的一次性曝光装置)。另外，拼接方式的曝光装置也可以是，在衬底P上对至少两个图案部分重叠地进行转印，并使衬底P依次移动的步进拼接方式的曝光装置。
另外，曝光装置EX也可以是例如美国专利第6611316号所公开那样的、将两个光罩的图案经由投影光学系统在衬底上合成，并通过一次扫描曝光对衬底上的一个拍摄区域几乎同时地进行双重曝光的曝光装置。另外，曝光装置EX也可以是近接方式的曝光装置、镜投影对准器等。
另外，在上述的各实施方式中，曝光装置EX也可以是美国专利第6341007号、美国专利第6208407号、美国专利第6262796号等所公开那样的、具有多个衬底载台的双载台型的曝光装置。例如，如图31所示，在曝光装置EX具有两个衬底载台2001、2002的情况下，能够以与射出面12相对的方式配置的物体包含一方的衬底载台、保持在该一方的衬底载台的第1保持部上的衬底、另一方的衬底载台、及保持在该另一方的衬底载台的第1保持部上的衬底中的至少一个。
另外，曝光装置EX也可以是具有多个衬底载台和计测载台的曝光装置。
曝光装置EX可以是将半导体元件图案曝光在衬底P上的半导体元件制造用的曝光装置，也可以是液晶显示元件制造用或显示器制造用的曝光装置，还可以是用于制造薄膜磁头、拍摄元件(CCD)、微机械、MEMS、DNA芯片、或是标线片或光罩等的曝光装置。
此外，在上述的实施方式中，使用了在具有光透过性的衬底上形成规定的遮光图案(或位相图案\减光图案)的光透过型光罩。但是，也可以取代该光罩而使用例如美国专利第6778257号所公开那样的、基于应曝光图案的电子数据而形成透过图案或反射图案、或是发光图案的可变成形光罩(也被称为电子光罩、主动光罩、或图像生成器)。另外，也可以取代具有不发光型图像显示元件的可变成形光罩，而是具有包含自发光型图像显示元件的图案形成装置。
在上述的各实施方式中，曝光装置EX具有投影光学系统PL，但是也可以对不使用投影光学系统PL的曝光装置及曝光方法，适用在上述的各实施方式中说明的构成要素。例如，也可以对在透镜等光学部件与衬底之间形成液浸空间并经由该光学部件向衬底照射曝光用光的曝光装置及曝光方法，适用在上述各实施方式中说明的构成要素。
另外，曝光装置EX也可以是例如国际公开第2001/035168号小册子所公开那样的、通过将干涉条纹形成在衬底P上来将线与空间图案曝光在衬底P上的曝光装置(光刻系统)。
上述的实施方式的曝光装置EX通过以确保规定的机械精度、电气精度、光学精度的方式组装包含上述的各构成要素的各种子系统来制造。为了确保这些各种精度，在该组装前后，关于各种光学系统进行用于达成光学精度的调整、关于各种机械系统进行用于达成机械精度的调整、关于各种电气系统进行用于达成电气精度的调整。由各种子系统组装曝光装置的工序包含各种子系统相互的机械连接、电气电路的布线连接、气压电路的配管连接等。在由该各种子系统组装曝光装置的工序之前，当然有各子系统各自的组装工序。在由各种子系统组装曝光装置的工序结束之后，进行综合调整，从而确保作为曝光装置整体的各种精度。此外，曝光装置的制造期望在对温度及洁净度等进行了管理的洁净室中进行。
如图32所示，半导体器件等微器件经过如下步骤而制造：进行微器件的功能、性能设计的步骤201、基于该设计步骤制作光罩(标线片)的步骤202、制造作为器件基材的衬底的步骤203、包含根据上述的实施方式以来自光罩的图案的曝光用光对衬底进行曝光、及对曝光后的衬底进行显影的衬底处理(曝光处理)的衬底处理步骤204、器件组装步骤(包含切割工序、接合工序、封装工序等加工过程)205、检查步骤206等。
此外，上述的各实施方式的要件能够适当地组合。另外，也存在没有使用一部分构成要素的情况。另外，只要法令允许，援引在上述的各实施方式及变形例中引用的涉及曝光装置等的所有公开公报及美国专利的公开内容并作为本文记载的一部分。
附图标记说明
2…衬底载台、3…计测载台、5…液浸部件、6…控制装置、7…存储装置、12…射出面、13…终端光学元件、21…第1部件、22…第2部件、41…第1液体供给部、42…第2液体供给部、43…第3液体供给部、51…第1液体回收部、52…第2液体回收部、53…第3液体回收部、61…第1气体供给部、62…第2气体供给部、211…第1部分、212…第2部分、AX…光轴、EL…曝光用光、EX…曝光装置、G…气体、IL…照明系统、K…光路、LQ…液体、LS…液浸空间、P…衬底。