技术编号:16183979
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型属于显示技术领域,具体涉及一种掩膜框架、掩膜设备。背景技术在采用真空蒸镀的方式制备显示屏时,首先需要将焊接在掩膜框架上的掩膜板与玻璃基板进行对准,也即将掩膜板上的多个开孔与玻璃基板上的多个像素位置进行对准,以使有机发光材料通过与其对应的开孔蒸镀到玻璃基板上的特定像素位置处,以在玻璃基板上形成多个OLED器件,以使由该玻璃基板所制成的显示屏可以正常显示。目前,真空蒸镀工艺主要是在蒸镀腔室中完成的,该蒸镀腔室具有较高的温度、压力、磁场,这些因素均会导致掩膜框架、掩膜板在蒸镀过程中发生形变,...
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