技术编号:16197015
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于新材料石墨烯制备领域,具体涉及一种制备氧化石墨烯方法。背景技术石墨烯是一种单一原子厚度具有SP2键的碳原子的平板结构,理论上,具有完美六角网状结构。它具有高电导、高导热、高硬度和高强度等优异物理、化学性质,在电子、信息、能源、材料和生物医药领域有广泛的应用前景。目前,在制备石墨烯的主要方法包括化学气相沉积法、氧化插层在还原、液相剥离法。其中,化学气相沉积法可以获得高质量的石墨烯,然而产率低,对衬底要求高;氧化插层在还原可以实现批量生产石墨烯,但是由于氧化过程中石墨烯的结构遭到破坏,难以...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。