技术编号:16238677
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及磷的氧化物,进一步而言,涉及五氧化二磷,具体来说,涉及电子级五氧化二磷的生产装置及工艺方法。背景技术高纯电子级五氧化二磷广泛应用于半导体行业、光电子行业,用作半导体磷源的参杂源、或用于生产光学或耐热玻璃、或用于高纯磷化物产品的制造原料。目前国内生产高纯五氧化二磷的方法主要是采取黄磷在充足的氧气或空气中直接燃烧制得,国内的生产技术中,专利CN 101979310 B公开了“一种99.9999%五氧化二磷的生产方法”,是通过控制过量的流量为8~12L/min的氧气,45~65L/min的空...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。