技术编号：16854099
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及液晶显示面板技术领域，尤其涉及一种显影单元清洁装置及采用该装置的清洁方法。背景技术在TFT阵列基板的曝光工艺中，一般通过曝光系统来完成一系列的操作，如清洗、涂布、曝光和显影。现有技术的曝光系统包括：一基板清洁单元110、一基板涂布单元120、一基板曝光单元130和一基板显影单元140。具体地，首先，在基板清洁单元110中，对玻璃基板进行清洁，其中包括进行紫外线照射、水汽清洁以及风刀干燥等工序；其次，将清洁后的基板进行热板烘烤及缓冲冷却；接着，在基板涂布单元120中，通过光阻涂布机构(l...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。