显影单元清洁装置及采用该装置的清洁方法与流程

本发明涉及液晶显示面板技术领域，尤其涉及一种显影单元清洁装置及采用该装置的清洁方法。

背景技术：

在tft阵列基板的曝光工艺中，一般通过曝光系统来完成一系列的操作，如清洗、涂布、曝光和显影。现有技术的曝光系统包括：一基板清洁单元110、一基板涂布单元120、一基板曝光单元130和一基板显影单元140。具体地，首先，在基板清洁单元110中，对玻璃基板进行清洁，其中包括进行紫外线照射、水汽清洁以及风刀干燥等工序；其次，将清洁后的基板进行热板烘烤及缓冲冷却；接着，在基板涂布单元120中，通过光阻涂布机构(linearcoater)在基板上涂布光阻；并且通过真空干燥机(vacuumchamberdry)的干燥作用，使得光阻溶液干燥冷却形成固态，接着在进行热板烘烤，以进一步干燥；然后，将干燥后的基板进行转向并传送至曝光机处，在基板曝光单元130中，利用掩模在玻璃基板上，对光阻定义图形，以执行曝光操作，之后再曝光边缘，以去除基板边缘光阻；再将此基板传送至基板显影单元140。在基板显影单元140中，通过显影制程来显示图形。

在基板显影单元140中，分别设置有显影子单元、置换水洗子单元、直水洗子单元和风刀干燥子单元。其中，显影子单元主要用于对定义好图形的光阻进行显影，以形成图形化的光阻。置换水洗子单元和直水洗子单元主要用于清洁残留在基板上的光阻显影液。然而，由于显影单元长期处于显影作业，光阻显影液、混合液会飞溅/蒸发在显影槽(chamber)内，并且形成固化的光阻残渣。当基板通过基板显影单元140时，这些光阻残渣可能会掉落在基板表面上，容易造成基板的图形异常。因此，相关工作人员会固定周期地对基板显影单元140进行清洁保养，以减轻光阻残渣的影响。

对于固化的光阻残渣，使用单纯用水或显影液无法将显影槽清洁干净，而需要使用光阻溶剂(例如rinse液)进行清洗。然而，在显影单元的位置未能提供光阻溶剂，于是对显影单元清洁和保养会造成一定的困难，长期清洁不净的光阻残渣容易导致待加工的基板甚至整个产品存有异常。

有鉴于此，亟需提供一种显影单元清洁装置或清洁方法。

技术实现要素：

本发明的目的在于，提供一种显影单元清洁装置，其有效地解决显影单元固化光阻残渣清洁不净的问题，提高了显影单元的显影槽内的洁净度，从而避免因显影单元的显影槽的洁净度所引起的产品不良问题，同时该装置可以二次利用光阻溶剂(如rinse液)，提升了化学消耗品的使用率。

本发明提供了一种显影单元清洁装置，应用于一曝光系统，所述曝光系统包括一基板清洁单元、一基板涂布单元、一基板曝光单元和一基板显影单元；所述基板清洁单元用于对一基板进行清洁，并且将清洁后的基板传送至所述基板涂布单元；所述基板涂布单元通过一设置在所述基板涂布单元中的光阻涂布机构对基板进行涂布光阻，并且将涂布过光阻的基板传送至所述基板曝光单元；所述基板曝光单元用于通过掩模曝光制程对光阻定义图形，以执行曝光操作，并且在执行曝光操作之后，将基板传送至所述基板显影单元；所述基板显影单元用于通过显影制程对定义好图形的光阻进行显影，以形成图形化的光阻；所述显影单元清洁装置安装在所述曝光系统中，所述显影单元清洁装置分别连接至所述基板涂布单元和所述基板显影单元；所述显影单元清洁装置用于将所述基板涂布单元所产生的光阻溶剂废液传送至所述基板显影单元，并且对设置在所述基板显影单元中的显影槽进行清洁。

在本发明的一实施例中，所述光阻溶剂废液为树脂溶液。

在本发明的一实施例中，所述显影单元清洁装置包括一临时储存槽体和管路，所述管路包括第一管路和第二管路，所述第一管路连接分别连接至所述基板涂布单元的输出端和所述临时储存槽体的输入端，所述第二管路连接分别连接至所述临时储存槽体的输出端和所述显影槽的输入端；所述临时储存槽体用于储存所述基板涂布单元所产生的光阻溶剂废液，并且提供至所述显影槽。

在本发明的一实施例中，在所述第一管路上设置有一第一开关阀，所述第一开关阀用于控制从所述基板涂布单元至所述临时储存槽体的光阻溶剂废液的流量。

在本发明的一实施例中，在所述临时储存槽体上设置有一第二开关阀，所述第二开关阀用于将储存在所述临时储存槽体内的光阻溶剂废液排放至一外部的厂务设备。

在本发明的一实施例中，在所述第二管路上设置有一第三开关阀，所述第三开关阀用于控制从所述临时储存槽体至所述显影槽的光阻溶剂废液的流量。

在本发明的一实施例中，所述第二管路为可拆卸的管路，所述第二管路还用于将所述临时储存槽体可拆卸连接至所述曝光系统的其他单元。

另外，本发明还提供一种显影单元清洁方法，采用上述显影单元清洁装置，所述显影单元清洁装置包括一临时储存槽体和管路，所述管路包括第一管路和第二管路，所述方法包括：(a)基板涂布单元在对基板进行涂布光阻后产生光阻溶剂废液；(b)将光阻溶剂废液通过第一管路传送至临时储存槽体并进行储存；(c)将储存在所述临时储存槽体内的光阻溶剂废液通过第二管路提供至显影槽，以清洁所述显影槽。

在本发明的一实施例中，在所述第一管路上设置有一第一开关阀；所述方法在步骤(b)中进一步包括：通过第一开关阀控制从所述基板涂布单元至所述临时储存槽体的光阻溶剂废液的流量。

在本发明的一实施例中，在所述第二管路上设置有一第三开关阀；所述方法在步骤(c)中进一步包括：通过第三开关阀控制从所述临时储存槽体至所述显影槽的光阻溶剂废液的流量。

本发明的优点在于，本发明所述显影单元清洁装置通过在基板涂布单元和基板显影单元之间新增一容纳光阻溶剂的临时储存槽体，并且将基板涂布单元中的光阻涂布机构的预清洁滚轮所使用过的光阻溶剂废液进行二次利用，用于清净基板显影单元的显影槽内残留的固化光阻残渣。因此，所述显影单元清洁装置能够提高基板显影单元的清洁度，解决因光阻残渣所造成的产品不良问题，并且二次利用光阻溶剂，以提升化学消耗品的使用率。另外，二次利用光阻溶剂也节省相关工作人员原本清洁基板显影单元的时间，以提高机体稼动率。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是现有技术的曝光系统的架构示意图。

图2是本发明一实施例中的显影单元清洁装置的示意图。

图3是本发明所述实施例中的曝光系统的架构示意图，所述显影单元清洁装置安装在所述曝光系统中。

图4是本发明一实施例中显影单元清洁方法的步骤流程图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明的说明书和权利要求书以及上述附图中的术语“第一”、“第二”、“第三”等(如果存在)是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应当理解，这样描述的对象在适当情况下可以互换。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。

在本专利文档中，下文论述的附图以及用来描述本发明公开的原理的各实施例仅用于说明，而不应解释为限制本发明公开的范围。所属领域的技术人员将理解，本发明的原理可在任何适当布置的系统中实施。将详细说明示例性实施方式，在附图中示出了这些实施方式的实例。此外，将参考附图详细描述根据示例性实施例的终端。附图中的相同附图标号指代相同的元件。

本发明说明书中使用的术语仅用来描述特定实施方式，而并不意图显示本发明的概念。除非上下文中有明确不同的意义，否则，以单数形式使用的表达涵盖复数形式的表达。在本发明说明书中，应理解，诸如“包括”、“具有”以及“含有”等术语意图说明存在本发明说明书中揭示的特征、数字、步骤、动作或其组合的可能性，而并不意图排除可存在或可添加一个或多个其他特征、数字、步骤、动作或其组合的可能性。附图中的相同参考标号指代相同部分。

本发明实施例提供一种显影单元清洁装置。以下将分别进行详细说明。

参考图2和图3。图2是本发明一实施例中的显影单元清洁装置的示意图。图3是本发明所述实施例中的曝光系统的架构示意图，所述显影单元清洁装置安装在所述曝光系统中。

本发明提供了一种显影单元清洁装置，应用于一曝光系统。所述曝光系统包括一基板清洁单元110、一基板涂布单元120、一基板曝光单元130和一基板显影单元140。

具体地，所述基板清洁单元110用于对一基板进行清洁，并且将清洁后的基板传送至所述基板涂布单元120。所述基板清洁单元110可以包括第一清洁子单元、第二清洁子单元和第三清洁子单元(图中未示)。其中，第一清洁子单元用于对基板进行紫外线照射，以清洁基板。第二清洁子单元通过水汽方式对基板进行二次清洗。第三清洁子单元利用风刀干燥工艺对基板进行清洗。在清洁基板之后，可以对基板进行热板烘烤及缓冲冷却。

所述基板涂布单元120通过一设置在所述基板涂布单元120中的光阻涂布机构(linearcoater)对基板进行涂布光阻，并且将涂布过光阻的基板传送至所述基板曝光单元130。在所述基板涂布单元120中，可以进一步通过真空干燥机(vacuumchamberdry)的干燥作用，使得光阻溶液干燥冷却形成固态，接着在进行热板烘烤，以进一步干燥。然后，将干燥后的基板进行转向并传送至所述基板曝光单元130。

所述基板曝光单元130用于通过掩模曝光制程对光阻定义图形，以执行曝光操作，并且在执行曝光操作之后，将基板传送至所述基板显影单元140。所述基板曝光单元130利用掩模在基板上，对光阻定义图形，以执行曝光操作。之后，再曝光边缘，以去除基板边缘光阻。

所述基板显影单元140用于通过显影制程对定义好图形的光阻进行显影，以形成图形化的光阻。在所述基板显影单元140中设置有三个显影槽141，由所述基板曝光单元130传入的基板依次经过三个显影槽141，并且经设置在三个显影槽141上方的多个显影喷嘴所喷射的光阻显影液后，基板上的光阻与光阻显影液发生反应，于是可以形成图形化的光阻。

在本实施例中，所述显影单元清洁装置安装在所述曝光系统中，所述显影单元清洁装置分别连接至所述基板涂布单元120和所述基板显影单元140。所述显影单元清洁装置用于将所述基板涂布单元120所产生的光阻溶剂废液传送至所述基板显影单元140，并且对设置在所述基板显影单元140中的显影槽141进行清洁。

具体地，所述显影单元清洁装置包括一临时储存槽体210和管路，所述管路包括第一管路220和第二管路230，所述第一管路220连接分别连接至所述基板涂布单元120的输出端和所述临时储存槽体210的输入端，所述第二管路230连接分别连接至所述临时储存槽体210的输出端和所述显影槽141的输入端；所述临时储存槽体210用于储存所述基板涂布单元120所产生的光阻溶剂废液，并且提供至所述显影槽141。在本实施例中，所述基板涂布单元120的光阻涂布机构的预清洁滚轮122产生光阻溶剂废液。该光阻溶剂废液为树脂溶液。当然，在其他实施例中，所述光阻溶剂废液也可以为其他与树脂溶液相同作用的溶剂。

由于现有技术中的所述基板显影单元140未能够提供光阻溶剂，只是通过置换水洗和直水洗的方式对基板进行清洗，因此无法有效地清除掉残留在显影槽141内形成固化的光阻残渣。所述显影单元清洁装置将所述基板涂布单元120所产生的光阻溶剂废液传送至所述基板显影单元140，充分利用了光阻涂布机构的预清洁滚轮122所使用过的光阻溶剂废液，该光阻溶剂废液对显影槽141内固化光阻残渣有较强的清洁效果，从而实现对显影槽141的清洁处理。这样，不仅提高了显影单元的清洁度，进一步避免因显影槽141洁净度所引起的产品不良问题，并且二次利用光阻溶剂，以提升化学消耗品的使用率。另外，二次利用光阻溶剂也节省相关工作人员原本清洁基板显影单元140的时间，以提高机体稼动率。

另外，在本实施例中，在所述第一管路220上设置有一第一开关阀221，所述第一开关阀221用于控制从所述基板涂布单元120至所述临时储存槽体210的光阻溶剂废液的流量。

在所述临时储存槽体210上设置有一第二开关阀211，所述第二开关阀211用于将储存在所述临时储存槽体210内的光阻溶剂废液排放至外部的厂务设备。也就是说，如果当所述基板涂布单元120所产生的光阻溶剂废液较多时，可以先将所述临时储存槽体210内的光阻溶剂废液排放一部分至外部的厂务设备，从而使得临时储存槽体210具有足够空间来容纳光阻溶剂废液。

另外，在本实施例中，在所述第二管路230上设置有一第三开关阀231，所述第三开关阀231用于控制从所述临时储存槽体210至所述显影槽141的光阻溶剂废液的流量。这样，也能够有效地提高化学消耗品的使用率。

在本实施例中，所述第二管路230为可拆卸的管路。通常情况下，所述第二管路230连接至所述显影槽141。当然，也可以根据现场实务的需求，例如所述曝光系统的其他单元需要使用光阻溶剂，则可以将所述第二管路230拆卸下来，并且将所述临时储存槽体210可拆卸连接至所述曝光系统的其他单元，以提供所需的光阻溶剂。

参考图4。本发明一实施例中显影单元清洁方法的步骤流程图。本发明还提供一种显影单元清洁方法，采用上述显影单元清洁装置，所述显影单元清洁装置包括一临时储存槽体210和管路，所述管路包括第一管路220和第二管路230。所述方法包括：

步骤s410：基板涂布单元在对基板进行涂布光阻后产生光阻溶剂废液。

所述基板涂布单元120通过一设置在所述基板涂布单元120中的光阻涂布机构(linearcoater)对基板进行涂布光阻，并且将涂布过光阻的基板传送至所述基板曝光单元130。在所述基板涂布单元120中，可以进一步通过真空干燥机(vacuumchamberdry)的干燥作用，使得光阻溶液干燥冷却形成固态，接着在进行热板烘烤，以进一步干燥；然后，将干燥后的基板进行转向并传送至所述基板曝光单元130。在所述基板涂布单元120对基板进行涂布光阻后，会产生大量的光阻溶剂废液。

步骤s420：将光阻溶剂废液通过第一管路传送至临时储存槽体并进行储存。

在本实施例中，在所述第一管路220上设置有一第一开关阀221。所述方法在步骤s420中进一步包括：通过第一开关阀221控制从所述基板涂布单元120至所述临时储存槽体210的光阻溶剂废液的流量。

所述临时储存槽体210先将所述基板涂布单元120所产生的大量的光阻溶剂废液进行临时存储。当需要对所述基板显影单元140的显影槽141清洁时，所述临时储存槽体210将临时储存的光阻溶剂废液提供至所述显影槽141，以供清洁之用。

步骤s430：将储存在所述临时储存槽体内的光阻溶剂废液通过第二管路提供至显影槽，以清洁所述显影槽。

在本施例中，在所述第二管路230上设置有一第三开关阀231。所述方法在步骤s430中进一步包括：通过第三开关阀231控制从所述临时储存槽体210至所述显影槽141的光阻溶剂废液的流量。这样，也能够有效地提高化学消耗品的使用率。

本发明所述显影单元清洁装置及采用该装置的方法通过在基板涂布单元120和基板显影单元140之间新增一容纳光阻溶剂的临时储存槽体210，并且将基板涂布单元120中的光阻涂布机构的预清洁滚轮122所使用过的光阻溶剂废液进行二次利用，用于清净基板显影单元140的显影槽141内残留的固化光阻残渣。因此，所述显影单元清洁装置能够提高基板显影单元140的清洁度，解决因光阻残渣所造成的产品不良问题，并且二次利用光阻溶剂，以提升化学消耗品的使用率。另外，二次利用光阻溶剂也节省相关工作人员原本清洁基板显影单元140的时间，以提高机体稼动率。

以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。