一种掩模板保护方法与流程

本发明属于材料表面改性技术领域，具体涉及一种掩模板保护方法。

背景技术：

掩模技术被广泛应用于各种印刷工艺、物理气相沉积或化学气相沉积工艺中，在各种气相沉积应用中，掩模不可避免地会被沉积材料所污染，当污染物积累到一定程度后，将导致掩模无法继续使用。由于掩模的制备成本都非常高昂，如果使用寿命过短的话，这必然大大增加了镀膜的成本。

技术实现要素：

针对上述问题，本发明提出一种掩模板保护方法，通过实现掩模的重复利用来降低掩模成本。

实现上述技术目的，达到上述技术效果，本发明通过以下技术方案实现：

一种掩模板保护方法，包括：

对掩模板做预处理；

在掩模板内外表面沉积一层厚度为20-200nm的纳米薄膜；

将厚度为25-250um的铝箔贴敷在掩模板外表面上；

去除覆盖在掩模板掩模孔上的铝箔。

作为本发明的进一步改进，所述在掩模板内外表面沉积一层厚度为20-200nm的纳米薄膜，具体为：

采用磁控溅射、蒸发或多弧离子镀方法在掩模板内外表面沉积一层厚度为20-200nm的纳米薄膜。

作为本发明的进一步改进，所述纳米薄膜的材料为铬、镍、钛、铝或其合金。

作为本发明的进一步改进，所述纳米薄膜的材料为类金刚石或石墨。

作为本发明的进一步改进，所述将厚度为25-250um的铝箔贴敷在掩模板外表面上，具体包括以下子步骤：

(3.1)将铝箔覆盖在掩模板的外表面上；

(3.2)采用真空吸合后，利用毛刷或橡胶球将铝箔于掩模板贴合。

作为本发明的进一步改进，所述去除覆盖在掩模板掩模孔上的铝箔，具体为：采用激光雕刻工艺去除覆盖在掩模板掩模孔上的铝箔。

与现有技术相比，本发明的有益效果：

与传统掩模板污染后直接废弃不同，采用本发明的掩模板保护方法保护掩模板后，可通过撕除铝箔和重新贴敷铝箔使掩模板可以重复利用，从而大大降低生产成本。

附图说明

图1为本发明一种实施例的掩模板保护方法的流程示意图。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

下面结合附图对本发明的应用原理作详细的描述。

现有技术中，在各种气相沉积应用，掩模不可避免地会被沉积材料所污染，当污染物积累到一定程度后，将导致掩模无法继续使用。由于掩模的制备成本都非常高昂，如果使用寿命过短的话，这必然大大增加了镀膜的成本，为此，本发明提供了一种掩模板保护方法，可通过撕除铝箔和重新贴敷铝箔使掩模板可以重复利用，从而大大降低生产成本；具体地，如图1所示，本发明的掩模板保护方法包括：

步骤(1)：对掩模板做预处理；在本发明的一种具体实施例中，具体包括以下子步骤：

准备全新的掩模板，放入去离子水中常温超声清洗10分钟；然后放入酒精中超声清洗2分钟，清洗完成后放入设定温度为120℃的烘箱中烘干30分钟；

步骤(2)：在掩模板内外表面沉积一层厚度为20-200nm的纳米薄膜，覆盖纳米薄膜的作用是对掩模板表面的多孔性氧化物进行封堵，在本发明的一种具体实施例中，具体包括以下子步骤：

将烘干的掩模板放入磁控溅射设备的真空腔体，待真空抽至5×10-3pa时，充入氩气使动态维持0.5pa气压，打开磁控溅射电源，采用金属钛靶溅射沉积薄膜，厚度约为50nm后取出掩模板；所述纳米薄膜的材料为铬、镍、钛、铝或其合金，还可以是类金刚石或石墨；

步骤(3)将厚度为25-250um的铝箔贴敷在掩模板外表面上，在本发明的一种具体实施例中，具体包括以下子步骤：

将镀完膜的掩模板放置在真空吸台上，在掩模板的外表面上平铺一层长宽比掩模板大5％的厚度为100um的铝箔，采用辊轴压合铝箔和掩模板，同时打开真空吸台，利用真空将铝箔与掩模板吸合，然后再用橡胶球压在位于掩模板孔位置的铝箔上，使铝箔与掩模板孔边缘形成贴合后的折痕；本发明中之所以采用25-250um的铝箔是因为成本最低，且市面有售；

步骤(4)去除覆盖在掩模板掩模孔上的铝箔；在本发明的一种具体实施例中，具体包括以下子步骤：

使用深圳大族激光ep-12a风冷式端面泵浦激光打标机进行处理，中心频率为15～20khz，使用功率为12～13w，扫射速度为20mm/s。将掩模板放置于激光台上，设置激光参数，电流大小为12a，有效矢量步长为0.001mm，有效矢量延时30us，空矢量步长0.03mm，空矢量延时20us，激光开时间120us，激光关时间500us，跳转延时500us，拐弯延时5us，q频率3khz，q释放时间8us。沿着掩模板各个孔的边缘激光刻蚀铝箔，重新获得掩模孔。

以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

技术特征：

技术总结
本发明公开了一种掩模板保护方法，包括：步骤一、准备全新的掩模板，并对其进行预处理；步骤二、在掩模板上沉积一层纳米薄膜；步骤三、将铝箔贴敷在掩模板外表面；步骤四、去除覆盖在掩模孔上的多余铝箔。采用本发明的掩模板保护方法对传统掩模板进行保护后，可通过更换铝箔实现掩模版的重复利用，从而大大降低掩模成本。

技术研发人员：李东滨;吴疆;谷义伟;王德苗;金浩;冯斌
受保护的技术使用者：浙江大学昆山创新中心
技术研发日：2018.11.16
技术公布日：2019.02.12