技术编号：16892780
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及反应釜清洗技术领域，尤其涉及一种用于生产氮化镓晶体的反应釜的清洗装置和清洗方法。背景技术氮化镓晶体是第三代半导体材料，其具有优异的光电性能、热稳定性和化学稳定性。目前，生产氮化镓晶体的方法主要有氢化物气相外延法、高压氮气溶液法、助熔剂法和氨热法等。其中，在采用氨热法生产氮化镓晶体时，生产结束时，其使用的反应釜的内壁会残留矿化物、氮化镓多晶及反应中间物等残留物，若不将残留物清洗干净，将影响反应釜的使用寿命及氮化镓晶体的生产质量。目前，多采用人工手动的方式对反应釜进行搬运清洗，其劳动强度大...
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