技术编号:16906370
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于微电子加工技术领域,具体涉及一种用于图形化衬底的掩膜。背景技术图形化衬底(Patterned Sapphire Substrate,以下简称PSS)技术是目前较为主流的提高LED器件出光效率的方法,通常包括以下步骤:先在衬底上生长用于干法刻蚀的掩膜,接着将掩膜刻出图形,接着再采用干法刻蚀技术对存在掩膜图形的衬底进行刻蚀,最后去掉掩膜,以得到图形化的衬底。图1a和图1b分别为掩膜采用光刻工艺刻出图形后的两种形貌;图1c为掩膜采用压印工艺刻出图形后的形貌;请一并参阅图1a~图1c,通过将掩...
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