技术编号：17041099
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用于诊断离子束照射装置中的微粒产生部位的微粒诊断方法和微粒诊断装置。背景技术例如在离子注入装置和离子掺杂装置等离子束照射装置中，由于各种原因产生微粒，如果微粒产生量变多，则会导致注入不良等各种各样的故障。因此，在专利文献1中记载了一种清扫方法，通过在构成离子源的等离子体生成室内产生氢等离子体，利用其热量和溅射等使附着在等离子体生成室的壁面上的附着物剥落。但是，由于微粒的产生部位不仅存在于离子源，还存在于输送基板的输送机构中，所以像专利文献1那样仅清扫装置的一部分，不能充分降低微粒的产生...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。