技术编号:17348751
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型属于植物的保护性覆盖物的敷设装置技术领域,具体公开了一种用于地膜回收设备的脱土机构。背景技术地膜覆盖栽培的最大效应是提高土壤温度,春季低温期间采用地膜覆盖白天受阳光照射后,0-10厘米深的土层内可提高温度1-6℃,最高可达8℃以上。进入高温期,若无遮阴,地膜下土壤表层的温度可达50-60℃,土壤干旱时,地表温度会更高。但在有作物遮荫时,或地膜表面有土或淤泥覆盖时,土温只比露地高1-5℃,土壤潮湿时土温还会比露地低0.5-1.0℃,最高可低3℃。夜间由于外界冷空气的影响地膜下的土壤温度只...
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