技术编号：1743245
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及到一种新的抗辐射织物的制造方法，属于纺织加工领域。具体的说是将纳米抗辐射整理剂KASUMI-F1通过磁控溅射镀膜技术紧密均勻涂覆在普通纤维的织物上，使其具有抗辐射功能。背景技术在科学技术高速发展的同时，人们对生活质量的要求相应提高，对服装面料的追求也越来越高，优良服装面料的手感与外观，已不能满足人们的需求，人们更希望在穿着舒适的同时能够起到环保、防护和保健的作用。然而，目前网络化办公环境的电脑辐射和强烈的太阳光紫外线照射，已经困扰着众多的电脑操作...
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