技术编号:17478841
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于导热材料技术领域,尤其涉及一种高导热石墨烯膜及其制备方法。背景技术石墨是由碳元素形成的一种同素异形体,由于其完善的分子结构,使其具有独特的热学、电学、化学等性能,可以广泛应用于电子、散热等工业中。目前制备的平面导热系数在800~1500W/m.K的高导热石墨膜解决了手机等小功率芯片的局部过热问题。但是随着电子设备性能越来越好,处理速度、频率越来越高。体积重量越来越高,功率越来越大,电子设备的发热越来越大,对散热的要求也就越来越高。因此,普通的人工石墨膜已经不大能满足高端设备的对于散热的...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。