技术编号:17502407
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及氢气检测技术领域,尤其涉及一种具有氢气检测功能的镀膜设备。背景技术现有的镀膜设备,例如:化学气相沉积(CVD)镀膜设备、低压化学气相沉积(LPCVD)镀膜设备、常压化学气相沉积(APCVD)或等离子体增强型化学气相沉积(PECVD)镀膜设备的运输腔均未设置氢气检测装置,而是利用排气管将运输腔中的气体抽出并直接排放,实际中,运输腔可能会残留反应腔漏出的氢气,氢气受热易燃烧甚至爆炸,若将具有氢气的气体直接排放,会存在安全隐患;氢气在高温环境下易对真空器材造成损坏,减少设备使用寿命。实用...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。