技术编号：17743114
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种半导体光电材料，具体涉及一种CdS/SiC中空介孔纳米纤维以及该纳米纤维在可见光光催化剂中的应用，属于纳米技术领域。背景技术多孔碳化硅(SiC)是一种重要的第三代半导体材料，由于具有合适的禁带宽度(2.3-3.3eV)、高的导热系数、高电子饱和迁移率、热膨胀系数低、小的介电常数、化学性质稳定等优越特性，在光催化剂、催化剂载体、水净化等能源生产和环境保护领域具有广泛的应用前景。特别是在可见光照射下是一种很有前途的光催化剂。目前，国内外己有不少文献报道了SiC在可见光下催化制氢，比如不...
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