技术编号：18006647
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光学元件(诸如透镜)和制造光学元件的方法。背景技术已知的是，减反射结构体通过具有适当间距和适当高度的微细结构的形成而在宽波长区域中显示出优异的减反射性能，所述减反射结构体使用具有等于或小于可见光区域中的波长的高度的微细凹凸结构。例如，已知在其中分散有各自粒径等于或小于可见光波长的微粒的膜的应用，作为形成微细周期性结构的方法。另外，已知的是，通过利用微细加工装置(诸如电子束绘制装置、激光干涉曝光装置、半导体曝光装置或蚀刻装置)形成图案来形成微细周期性结构的方法能够实现结构间距和高度的控制...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。