光学元件和制造该元件的方法、以及光学仪器与流程

文档序号:18006647发布日期:2019-06-25 23:27阅读:268来源:国知局
光学元件和制造该元件的方法、以及光学仪器与流程

本发明涉及光学元件(诸如透镜)和制造光学元件的方法。



背景技术:

已知的是,减反射结构体通过具有适当间距和适当高度的微细结构的形成而在宽波长区域中显示出优异的减反射性能,所述减反射结构体使用具有等于或小于可见光区域中的波长的高度的微细凹凸结构。

例如,已知在其中分散有各自粒径等于或小于可见光波长的微粒的膜的应用,作为形成微细周期性结构的方法。另外,已知的是,通过利用微细加工装置(诸如电子束绘制装置、激光干涉曝光装置、半导体曝光装置或蚀刻装置)形成图案来形成微细周期性结构的方法能够实现结构间距和高度的控制,并能够形成具有优异减反射性质的微细周期性结构。

此外,已知的是,在基底上生长用作铝的氢氧化氧化物的勃姆石,以提供减反射效果。在这些方法的每一种中,通过以下方法来获得减反射膜:对通过真空沉积方法或液相方法(溶胶-凝胶方法)形成的铝氧化物(氧化铝)膜进行水蒸气处理或热水浸渍处理,以将其表面层变成勃姆石,从而可以形成微细结构。特别地,已知的是,在通过使用勃姆石的微细结构来形成减反射膜的方法中,基于垂直入射和倾斜入射的反射率极低,因此获得优异的减反射性能(日本专利申请公开号2005-275372)。

具有通过任何这样的途径所制造的微细结构的减反射膜的结构和尺寸的控制具有局限性。因此,已经设想了各种办法以进一步改善膜的减反射性能。例如,已知的是,包括提供中间折射率层以便优化折射率结构和抑制玻璃材料影响的方法,或包括将磷酸盐化合物或羧酸化合物结合到铝氧化物层中以便防止来自外部环境的污染的方法(日本专利申请公开号2006-259711、日本专利申请公开号2008-203827、日本专利申请公开号2008-233880和日本专利申请公开号2013-228728)。

然而,近年来,对产品性能(诸如产品在其生产时的品质稳定性或由于各种环境测试导致的其品质波动的抑制)提出了更严格的要求。特别地,在汽车排出的气体量大的城市地区中,当减反射膜长时间连续暴露于外部环境时,由于废气中的so2导致的其性能下降成为问题。作为相关技术的磷酸盐化合物或羧酸化合物对由于废气导致的减反射膜性能的下降具有低的抑制作用。



技术实现要素:

根据本发明的一个方面,提供了一种光学元件,包括:基底;和设置在基底上的减反射膜,该减反射膜具有带有凹凸结构的层和多孔层中的一种,通过tof-sims测量的减反射膜表面的正离子谱具有cmhnn+峰,其中m表示1以上至8以下的整数,n表示2以上至16以下的整数。

根据本发明的另一方面,提供一种制造光学元件的方法,包括:形成具有带有凹凸结构的层和多孔层中的一种的减反射膜;然后,通过使用有机胺化合物,使衍生自cmhnn+的成分附着于减反射膜的表面,其中m表示1以上至8以下的整数,n表示2以上至16以下的整数。

根据本发明的又一方面,提供了一种光学仪器,其被配置为利用已通过光学元件的光来产生图像,所述光学元件包括基底和布置在基底上的减反射膜,所述减反射膜具有带有凹凸结构的层和多孔层中的一种,通过tof-sims测量的减反射膜表面的正离子谱具有cmhnn+峰,其中m表示1以上至8以下的整数,n表示2以上至16以下的整数。

参考附图,根据以下示例性实施方案的描述,本发明的其他特征将变得明显。

附图说明

图1是用于阐明根据本发明的一个实施方案的光学元件的示意图。

图2是用于示意性地阐明根据本发明的一个实施方案的光学元件的截面的视图。

图3a和图3b分别是用于阐明根据本发明的一个实施方案的光学元件中包含铝氧化物晶体的凹凸结构与基底之间的关系的示意图。

图4a、图4b、和图4c是用于阐明制造根据本发明的一个实施方案的光学元件的方法的步骤图。

图5是用于阐明根据本发明的另一实施方案的光学元件的示意图。

图6是用于阐明根据本发明的一个实施方案的光学元件的示意图。

图7a和图7b分别是用于阐明根据本发明的一个实施方案的光学仪器的示意图。

具体实施方式

本实施方案的目的是提供一种即使在废气对构件产生不利影响的这样的使用环境下也具有令人满意的光学特性的光学构件,且提供制造该构件的方法。

根据本实施方案,可以提供一种光学元件,其上形成有使用微细凹凸结构的减反射膜,该光学元件具有令人满意的耐废气性。

以下详细描述本发明的实施方案。

如上所述,本发明的光学元件是如下的光学元件,该光学元件包括基底和设置在基底上的减反射膜,该减反射膜具有带有凹凸结构的层或多孔层,该光学元件特征在于,通过tof-sims测量的减反射膜表面的正离子谱具有cmhnn+峰,其中m表示1以上至8以下的整数,n表示2以上至16以下的整数。

(基底)

在本发明的光学元件中使用的基底1例如是玻璃材料、塑料基底、玻璃镜(mirror)或塑料镜。

玻璃材料的实例包括含碱玻璃、无碱玻璃、氧化铝硅酸盐(aluminasilicate)玻璃、硼硅酸盐玻璃、钡基玻璃、镧基玻璃、钛基玻璃和氟基玻璃。

塑料基底的典型实例包括:热塑性树脂(诸如聚酯、三乙酰纤维素、乙酸纤维素、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、abs树脂、聚苯醚、聚氨酯、聚乙烯和聚氯乙烯)的膜和成形品;和由各种热固性树脂(诸如不饱和聚酯树脂、酚醛树脂、交联型聚氨酯、交联型丙烯酸树脂和交联型饱和聚酯树脂)得到的交联膜和交联成形品。

图1中示出了基底1是平板的情况,但是本发明不限于此。还允许诸如双凸透镜、平凸透镜、凸弯月形透镜、双凹透镜、平凹透镜、凹弯月形透镜、非球面透镜或自由曲面透镜的形状的光学构件。

<第一实施方案>

(具有附着有机胺化合物的带有凹凸结构的层的减反射膜)

根据本发明的一个实施方案的光学元件是包括形成在基底表面上的减反射膜的光学元件,并且减反射膜的最外表面层具有带有凹凸结构的晶体层,该层包含铝氧化物晶体。晶体层的表面是凹凸结构(突起结构)。另外,该元件特征在于将有机胺化合物结合到部分或全部晶体层中。

图1是用于阐明根据本发明的一个实施方案的光学元件的示意图。本实施方案的光学元件是包括形成在具有平板形状的基底1的表面上的减反射膜10的光学元件。在图1中,本实施方案的光学元件是通过在基底1的表面上设置具有凹凸结构的晶体层2来获得的,上述层包含铝氧化物晶体。该凹凸结构具有许多突起6。此外,具有凹凸结构的晶体层2含有有机胺化合物3。减反射膜10由晶体层2构成。

将有机胺化合物结合到具有凹凸结构的晶体层2的一部分中意味着,例如,如图1所示,该化合物的分子散布在晶体层2的部分表面中和/或存在于朝向基底1的方向的中途。另外,有机胺化合物可以结合到整个具有凹凸结构的晶体层2中。

在本实施方案中使用的具有凹凸结构的晶体层2是特定材料的纳米结构,并且是这样的减反射膜:低于材料的固有折射率的表观折射率在膜的厚度方向上变化。特定材料优选例如为铝氧化物。

具体地,通过微细结构来实现凹凸结构,所述微细结构具有短于在其中使用减反射膜的光学部件的使用波长的尺寸。微细结构本身具有多个对外部气氛封闭的封闭空间和/或多个与外部气氛连通的开放空间。结果,构成减反射膜的材料的折射率(材料固有的折射率)和占据(填充)空间的介质(诸如空气)的折射率被平均。因此,减反射膜具有低于构成减反射膜的材料的折射率(材料固有的折射率)的折射率,因此可以降低减反射膜的表观折射率。换句话说,材料固有的折射率是材料的无孔薄膜或块体的折射率,而表观折射率则是由于空间的存在而降低的微细结构的膜的折射率。

另外,可以通过在膜的厚度方向上改变减反射膜中的空间占比或固体部分占比来改变表观折射率。

图2是用于示意性地阐明在本发明的一个实施方案中使用的减反射膜的截面的视图,并且该膜具有固体部分(突起)6和空间11。优选的是,沿着光的行进方向(箭头a)从光的入射侧表观折射率间歇地或连续地增加。可选地,优选的是,沿着光的行进方向(箭头b)从光的入射侧表观折射率间歇地或连续地降低。特别地,减反射膜优选具有以下光学特性:与外部气氛接触的减反射膜的最外表面的折射率接近1,并且随着距最外表面的深度在减反射膜厚度方向中增加,减反射膜的折射率逐渐增加,使得折射率可以接近构成减反射膜的材料的固有的折射率(例如,从1.4到3.0)。

减反射膜可以是这样的结构:其中层叠了至少两个空间或固体部分的占比彼此不同的微细结构,或者空间或固体部分的占比设置有分布以从部位到部位改变。另外,在减反射膜的最外表面侧,空间与外部气氛连通,因此膜具有不光滑的微细凹凸结构。该结构的突起部分(突起)的厚度(t)小于该元件的使用波长,具体地具有纳米级的尺寸。

(微细凹凸结构和基底之间的关系)

在上述实施方案中,由铝的氧化物或氢氧化物或其水合物来形成构成具有凹凸结构的晶体层2的铝氧化物晶体。特别优选的晶体是勃姆石。另外,当布置任何这样的晶体时,其端部形成微细的突起。因此,为了可以增加突起高度并且可以缩小它们之间的间隔,以相对于基底表面的特定角度来选择性地布置晶体。

图3a和图3b分别是用于阐明本发明的实施方案中的含有铝氧化物晶体的凹凸结构与基底之间的关系的示意图。如图3a所示,当基底1的表面是平坦表面(诸如平板、膜或片)时,理想地将突起6布置成使得由突起6的倾斜方向7和基底表面8所形成的相对于基底表面8的角度θ1的平均角度可以是45°以上至90°以下,优选60°以上至90°以下。

另外,如图3b所示,当基底1的表面具有二维或三维弯曲表面时,理想地将突起6布置成使得由突起6的倾斜方向7和基底表面8的切线9所形成的相对于基底表面的角度θ2的平均角度可以是45°以上至90°以下,优选60°以上至90°以下。在某些情况下,取决于突起的倾斜,角度θ1和θ2的值大于90°。然而,在那些情况下,采用使得成为90°以下的条件下测量的值。

具有凹凸结构的晶体层2的厚度优选为20nm以上至1,000nm以下,更优选为50nm以上至1,000nm以下。当具有凹凸结构的晶体层2的厚度为20nm以上至1,000nm以下时,通过凹凸结构有效地呈现出减反射性能。另外,消除了每个突起的机械强度受损的风险,因此可以降低凹凸结构的生产成本。另外,更优选厚度设定为50nm以上至1,000nm以下的情况,因为进一步改进了减反射性能。

另外,可以在具有这样的微细凹凸结构(突起)的减反射膜和基底之间形成另一中间层。优选使用具有介于减反射膜的表观折射率和基底的折射率之间的折射率的固体膜作为这样的中间层。具体地,膜可以是无机材料(诸如作为用于减反射膜的材料所列出的金属化合物)或有机材料(诸如以聚酰亚胺为代表的树脂)。

(有机胺化合物)

具有微细凹凸结构的晶体层是多孔的。因此,当将该层长时间连续暴露于具有高废气浓度的环境下时,废气中的有害气体(诸如so2)易于被吸收在该层中。在这种情况下,易于发生如下所述的问题:整个晶体层的特性(诸如折射率)发生变化,或者在层的外观中发生雾化。

本发明中的有机胺化合物3具有吸收so2的作用,并且具有弱碱性。当使得晶体层的最外表面中存在适量的该化合物时,可能发生以下效果:阻止so2侵入晶体层,并且抑制弱酸性晶体层的变化。然而,当大量有机胺化合物附着到该层上时,胺化合物本身起到污染物的作用,从而不利地影响减反射膜的反射性能。

可以由飞行时间二次离子质谱(tof-sims分析)来计算有机胺化合物的存在量。在通过该分析所获得的正离子谱中,cmhnn+(其中m表示1以上至8以下的整数,并且n表示2以上至16以下的整数)的峰强度与表示晶体层存在的al+的峰强度的比例优选为1e-04以上至1e-02以下,更优选为1.6e-04以上至9.5e-03以下。当该比例小于1e-04时,有机胺化合物的量过小以至于不能呈现出so2侵入阻止效果。相反,当该比例大于1e-02时,有机胺化合物起到污染物的作用,从而不利地影响减反射膜的透明度和反射性能。在本说明书中,对于cmhnn+(其中m表示1以上至8以下的整数,并且n表示2以上至16以下的整数)的峰强度与表示晶体层存在的al+的峰强度的比例,当作为测量的结果存在多个各自对应于cmhnn+的峰时,将具有最高峰强度的峰定义为判断对象。

(制造包括具有带有凹凸结构的层的减反射膜的光学元件的方法)

制造根据本发明的一个实施方案的光学元件的方法是制造包括形成在基底表面上的减反射膜的光学元件的方法,该方法具有包括以下三个步骤a、b和c的特征。

a、在基底上形成包括铝氧化物的铝氧化物层的步骤。

b、使铝氧化物层与60℃以上至100℃以下的热水或水蒸气接触以形成具有凹凸结构的晶体层的步骤。

c、使有机胺化合物附着在晶体层上的步骤。

图4a、图4b和图4c是用于阐明制造根据本发明的一个实施方案的光学元件的方法的步骤图。

铝氧化物晶体层是指晶体层2,该晶体层2是通过以下方法在含铝氧化物膜的表面层上沉积并生长:使膜与热水或水蒸气接触而引起铝氧化物膜的表面层经受胶溶(peptization)等,并且其形式是微细凹凸结构。各种尺寸的晶体随机地布置在由凹凸结构形成的晶体层2上,并且它们的上端部分形成突起。因此,为了可以改变突起的高度、尺寸和角度以及突起之间的间隔,需要控制晶体的沉积和生长。

图4a阐明在基底1上形成含有铝氧化物的铝氧化物层5的步骤a。

由于板状晶体膜,本发明中具有微细凹凸结构的减反射膜10的表面是不平坦的形状。通过将含铝膜浸入热水中以溶解并再沉淀含铝膜的表面来形成板状晶体。

含铝膜可以是含有铝氧化物作为主要成分的膜(该膜是通过溶胶-凝胶法等形成的)、通过使用气相生长法(诸如已知的cvd方法或pvd方法(诸如气相沉积或溅射))形成的金属铝膜、或含有铝金属的金属膜或氧化物膜。

另外,可以使用锆、硅、钛和锌的各自的化合物和铝化合物的混合物作为含铝膜的原料。可以使用各个金属的醇盐和氯化物及其盐化合物(诸如硝酸盐)作为氧化锆、二氧化硅、二氧化钛、氧化锌和氧化铝的原料。从成膜性的观点出发,特别优选使用金属醇盐作为氧化锆、二氧化硅或二氧化钛的原料。

图4b阐明使铝氧化物层与热水或水蒸气接触以形成具有凹凸结构的晶体层的步骤b。通过使铝氧化物膜的表面与热水接触来形成铝氧化物晶体。将热水的温度设定在从60℃以上至100℃以下的范围内,使该层与热水接触5分钟至24小时,然后干燥。

可以使用例如在日本专利申请公开号2006-259711或日本专利申请公开号2005-275372中描述的方法作为这样的方法。

除了上述膜之外,本发明的光学元件还可以包括用于赋予各种功能的膜。例如,可以进一步提供一个或多个膜作为基底和减反射膜之间的中间层。由此,可以进一步改进元件的减反射性能。

优选使用具有介于减反射膜的表观折射率和基底的折射率之间的折射率的固体膜作为任何这样的中间层。具体地,该膜可以是无机材料(诸如作为用于减反射膜的材料所列出的金属化合物)或有机材料(诸如以聚酰亚胺为代表的树脂)。

图4c阐明使有机胺化合物附着到晶体层2上的步骤c。

在本发明中,将被附着在晶体层上的有机胺化合物理想地选自各自含有基于酮亚胺的衍生物的固化剂材料。其具体实例包括由mitsubishichemicalcorporation制作的固化剂jercureh30(商品名)和由adekacorporation制作的固化剂eh-235r-2(商品名)。具有酮亚胺基团的固化剂容易与水发生水解反应以生成胺。因此,形成了在其侧链中具有有着中等长度的脂族烃基团的胺,并且上述胺附着到晶体层的表面上。然后,胺呈现出吸附废气中的有害物质(诸如so2)而不与用作晶体层的主要成分的铝氧化物反应的性能。

为了可以使有机胺化合物附着到晶体层的表面,那些材料可以单独使用,或者可以在溶剂或树脂中混合后使用。另外,为了可以使有机胺化合物附着到晶体层上,可以使用以下方法:包括将晶体层与固化剂材料一起密封在容器中然后在烘箱等中对整个容器进行热处理的方法;包括加热固化剂材料并使从其中挥发的有机胺化合物附着到晶体层表面上的方法;和包括将用溶剂稀释的固化剂材料直接涂覆该层的方法。直接涂覆法理想地是例如旋涂法、浸涂法或喷涂法。然而,要使其附着到该层上的化合物的量需要非常小,因此要求如下述这样的设计:当固化剂材料挥发时,在100℃以下的低温下挥发其少量;或者当进行涂覆时,将固化剂材料稀释至低浓度。

此外,在根据本发明的制造方法中,可以在在基底上形成铝氧化物层之前提供形成中间折射率层的步骤。

图5是光学构件的实例的示意图,在该光学构件中,中间折射率层4设置在基底1和具有凹凸结构的晶体层2之间,该层包含铝氧化物晶体。在这种情况下,基底1上的减反射膜10由中间折射率层4和晶体层2构成。

在具有介于基底1和晶体层2之间的中间折射率层4的光学构件中,基底1的折射率nb、中间折射率层4的折射率ni和具有凹凸结构的晶体层2(该层包含铝氧化物晶体)的折射率ns优选满足nb>ni>ns的关系。

中间折射率层4优选为由无机材料或有机材料形成的透明膜。这样的无机材料的实例包括金属氧化物,诸如sio2、tio2、zro2、zno和ta2o5。形成由无机材料形成的中间折射率层4的方法是,例如,真空沉积方法(诸如气相沉积或溅射)或基于金属氧化物前体溶胶的施加的溶胶-凝胶方法。

有机材料的实例包括聚合物,诸如丙烯酸树脂、环氧树脂、氧杂环丁烷树脂、马来酰亚胺树脂、三聚氰胺树脂、苯并胍胺树脂、酚醛树脂、甲阶酚醛树脂、聚碳酸酯、聚酯、聚芳酯、聚醚、聚脲、聚氨酯、聚酰胺、聚酰胺酰亚胺、聚酰亚胺、聚酮、聚砜、聚亚苯基、聚亚二甲苯基和聚环烯烃。

形成由有机材料形成的中间折射率层4的方法是,例如,包括主要通过材料溶液的施加来形成层的湿涂覆方法。

此外,当通过湿法制造中间折射率层时,可以适当地提供干燥步骤。

<第二实施方案>

(具有附着有有机胺化合物的多孔层的减反射膜)

参考图6描述第二实施方案。在图6中,基底由附图标记1表示,多孔层由附图标记12表示,有机胺化合物由附图标记3表示。在根据图6所示的本发明的第二实施方案的光学元件中,使用多孔层12代替第一实施方案中描述的具有凹凸结构的层2(参见图4a、图4b和图4c)。即使当使用多孔层代替具有凹凸结构的层时,也可以获得相同的效果。除了使用多孔层12代替具有凹凸结构的层2之外,第二实施方案与第一实施方案相同,因此省略其详细描述。多孔层是例如,通过硅氧化物的微粒或中空颗粒的沉积而获得的层。可以通过旋涂等来施加通过将微粒分散在水或溶剂中而获得的分散液,并且通过颗粒之间形成的空隙来减小所得膜的密度。因此,可以形成低折射率层。多孔层的厚度优选为30nm以上至300nm以下,更优选为50nm以上至200nm以下。

可以由飞行时间二次离子质谱(tof-sims分析)计算有机胺化合物3的存在量。在通过该分析所获得的正离子谱中,cmhnn+(其中m表示1以上至8以下的整数,并且n表示2以上至16以下的整数)的峰强度与表示多孔层的存在的si+的峰强度的比例优选为1e-04以上至1e-02以下。当该比例小于1e-04时,有机胺化合物的量过低以至于不能呈现出so2侵入阻止效果。相反,当该比例大于1e-02时,有机胺化合物起到污染物的作用,从而不利地影响元件的减反射膜的透明度和反射性能。对于本说明书中cmhnn+(其中m表示1以上至8以下的整数,并且n表示2以上至16以下的整数)的峰强度与表示多孔层的存在的si+的峰强度的比例,当作为测量结果存在多个各自对应于cmhnn+的峰时,将具有最高峰强度的峰定义为判断对象。

<第三实施方案>

作为第三实施方案,描述了本发明的光学仪器的实施方案的实例。本发明的光学仪器可以是任何形式,只要该仪器是被配置成利用已穿过本发明的光学元件的光来产生图像的仪器(例如,成像装置,诸如可更换透镜或相机/摄像机)。在该实施方案中,网络摄像机被描述为实例。

图7a是用作本发明的光学仪器的实例的网络摄像机的外观图。图7b是图7a中所示的网络摄像机的分解透视图。在本实施方案中,给出了构成图像监视系统的网络摄像机作为网络摄像机的实例,该图像监视系统可无线或有线地可通信地连接到外部服务器(监视装置),诸如图像监视中心,以在服务器侧监视拾取图像,但是本发明的应用不限于此。

如图7a和图7b所示,在本实施方案的网络摄像机中,成像单元200设置在由上盖103、下盖102和圆顶形盖101(下文中称为“圆顶盖101”)所形成的外封装盖中。成像单元200优选具有由多个透镜形成的透镜单元(未示出)和成像元件(未示出)。圆顶盖101是基本半球形的透明构件,其布置在成像单元200的可成像范围的前侧(目标侧),以保护成像单元200中的透镜单元(未示出)。本发明的减反射膜可以设置在圆顶形盖101上,或者可以设置在成像单元200中构成透镜单元的透镜的至少一个上。在将膜设置在构成透镜单元的透镜的至少一个上的情况下,当将膜设置在最外侧(距离成像元件最远的透镜)上时,可以更大程度地获得本发明的效果。

接下来,通过实施例详细描述本发明。但是,本发明绝不限于这些实施例。

通过以下方法进行每个实施例和比较例中获得的具有微细凹凸结构的减反射膜的性能评估。

(性能评估)

对于在其上形成有减反射膜的监视器玻璃(monitorglass),在废气测试之后进行外观评估(在该评估中,目视观察是否发生雾化),在废气测试前后进行反射率评估(在该评估的各个中,利用由olympuscorporation制造的绝对反射率测量装置(uspm-ru(商品名)来测量当具有400nm至700nm范围内的波长的光的入射角为0°时的反射率)。

对于外观评估,用符号“c”来指示发生雾化的情况,用符号“a”来指示没有发生雾化的情况。对于各反射率评估,将具有400nm至700nm波长的光的反射率的平均值定义为平均反射率,并且用符号“b”来指示其数值为0.3以下的情况,用符号“d”来指示数值大于0.3的情况。

[实施例1]

(具有微细凹凸结构的减反射膜的形成)

使用含有s-lah55(nd=1.83;由oharainc.制造)作为材料并且为具有30mm直径和1mm厚度的形状的监视器玻璃作为评估监视器玻璃。

将监视器玻璃在碱性清洁剂中进行超声波清洗,然后在烘箱中干燥。之后,将适量的铝氧化物前体溶胶滴在监视器玻璃的表面上,并以3,000rpm的转数进行旋涂20秒。之后,将所得物在热空气循环烘箱中在140℃煅烧30分钟,使得表面涂覆有无定形铝氧化物膜。之后,将所得物浸入75℃的热水中20分钟,以提供样品,在该样品中,在监视器玻璃的表面上形成了具有微细凹凸结构的减反射膜,该膜含有铝氧化物晶体。

(有机胺化合物的附着)

在铝箔杯中称量1.0克用作基于胺的固化剂材料的由mitsubishichemicalcorporation制造的固化剂jercureh30(商品名),并将其与样品一起密封在大培养皿中。之后,对整个大培养皿在90℃的烘箱中进行热处理2小时。该处理使得从固化剂中挥发的有机胺化合物附着到减反射膜的表面上。

(废气测试)

基于cse标准,将样品密封在so2浓度已调节至5ppm的空间中,并置于具有25℃的温度和65%的湿度的环境下10小时。

(性能评估)

·废气测试后样品外观未发生雾化。

·废气测试前的样品的平均反射率为0.06,测试后的其平均反射率为0.09。

(cmhnn+的存在量的测量)

对样品表面进行tof-sims分析,从得到的正离子谱中选择对应于al+和cmhnn+的峰,然后计算它们的峰强度之间的比例。测量条件如下所述:装置:由ion-tofgmbh制造的tof-simsiv;一次离子:ga+;加速电压:25千伏。

作为tof-sims分析的结果,对象cmhnn+峰中具有最高强度的峰是c6h12n+的峰,并且其峰强度是4.0e+03。另外,al+的峰强度为5.0e+05,因此比例“cmhnn+/al+”为8.0e-03。

[实施例2]

在实施例2中,通过与实施例1相同的操作在相同的条件下制造样品,不同之处在于,将所使用的基于胺的固化剂材料改变为由adekacorporation制造的固化剂eh-235r-2(商品名),随后进行其性能评估。

·废气测试后样品外观未发生雾化。

·废气测试前的样品的平均反射率为0.12,测试后的其平均反射率为0.18。

作为tof-sims分析的结果,对象cmhnn+峰中具有最高强度的峰是c3h6n+的峰,并且其峰强度是2.1e+03。另外,al+的峰强度为2.2e+05,因此比例“cmhnn+/al+”为9.5e-03。

[实施例3]

在实施例3中,通过与实施例1相同的操作在相同的条件下制造样品,不同之处在于,将适量的通过在100gpgme中混合0.5gjercureh30得到的溶液滴在监视器玻璃的表面上,并以4,000rpm的转数进行旋涂20秒,随后进行其性能评估。

·废气测试后样品外观未发生雾化。

·废气测试前的样品的平均反射率为0.15,测试后的其平均反射率为0.21。

作为tof-sims分析的结果,对象cmhnn+峰中具有最高强度的峰是c6h12n+的峰,并且其峰强度是6.0e+01。另外,al+的峰强度为3.8e+05,因此比例“cmhnn+/al+”为1.6e-04。

[实施例4]

在实施例4中,减反射膜不是通过用溶胶-凝胶膜湿涂覆监视器玻璃来制造,而是通过溅射沉积来制造。具体地,如下进行沉积:使用铝作为靶;流过10sccm的ar气体和o2气体的每种;沉积压力设定为0.4pa;通过使用具有300w的输出功率的直流电源向靶施加电压;并进行沉积50分钟。除了上述之外,通过与实施例1相同的操作在相同的条件下制造样品,随后进行其性能评估。

·废气测试后样品外观未发生雾化。

·废气测试前的样品的平均反射率为0.07,测试后的其平均反射率为0.10。

作为tof-sims分析的结果,对象cmhnn+峰中具有最高强度的峰是c6h12n+的峰,并且其峰强度是3.8e+03。另外,al+的峰强度为6.0e+05,因此比例“cmhnn+/al+”为6.3e-03。

[比较例1]

在比较例1中,通过与实施例1相同的操作在相同的条件下制造样品,不同之处在于,没有使有机胺化合物附着到减反射膜的表面上,随后进行其性能评估。

·废气测试后样品外观中发生雾化。

·废气测试前的样品的平均反射率为0.11,测试后的其平均反射率为0.62。

作为tof-sims分析的结果,对象cmhnn+峰中具有最高强度的峰是c6h12n+的峰,并且其峰强度是4.0e+01。另外,al+的峰强度为4.8e+05,因此比例“cmhnn+/al+”为8.3e-05。

[比较例2]

在比较例2中,通过与实施例3相同的操作在相同的条件下制造样品,不同之处在于,将所用的有机胺化合物jercureh30的量改变为10g,随后进行其性能评估。

·废气测试后样品外观中发生雾化。

·废气测试前的样品的平均反射率为0.44,测试后的其平均反射率为0.46。

作为tof-sims分析的结果,对象cmhnn+峰中具有最高强度的峰是c6h12n+的峰,并且其峰强度是3.2e+05。另外,al+的峰强度为5.4e+05,因此比例“cmhnn+/al+”为5.9e-01。实施例1至4和比较例1和2的结果共同显示于表1中。

表1

根据本发明的光学元件可以用于光学仪器中,诸如相机、双筒望远镜、显微镜、半导体曝光装置或可更换透镜。

尽管已经参考示例性实施方案描述了本发明,但是应该理解,本发明不限于所公开的示例性实施方案。所附权利要求的范围应被赋予最广泛的解释,以包含所有这些修改以及等同的结构和功能。

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